[實用新型]一種抗菌輔料制備裝置

有效

• 申請號: 201720732636.4
• 申請日: 2017-06-22
• 公開（公告）號: CN207073030U
• 公開（公告）日: 2018-03-06
• 發明（設計）人: 陳欽旺
• 申請（專利權）人: 陳欽旺
• 主分類號: D06M10/00
• 分類號: D06M10/00;D06M10/06;D06M10/02;D06M11/46;D06M16/00;D06B1/02
• 代理公司: 麗水創智果專利代理事務所(普通合伙)33278
• 代理人: 梅秀麗

1.一種抗菌輔料制備裝置，其特征在于，包括按加工順序依次設置的以下部件：基材送料機構、納米磁性粒子施加機構、等離子體處理機構、抗菌劑噴涂機構、電場處理機構、預烘干機構、磁場處理機構、烘干機構；其中，基材送料機構包括抗菌輔料基材退卷裝置和張力穩定裝置；納米磁性粒子施加機構包括納米磁性粒子存儲腔和氣動噴施裝置；等離子體處理機構包括等離子體放電處理室、金屬管高壓電極、地電極、供氣源以及電源組件，等離子處理室兩側中部位置還設有基材進料口和出料口；抗菌劑噴涂機構包括抗菌劑儲料腔、噴涂噴嘴以及高壓氣源；電場處理機構包括電容器和與電容器連接的高壓外接直流電源；預烘干機構包括若干預烘干熱輥；磁場處理機構包括勵磁線圈和與該勵磁線圈相連接的外接交流電以及磁場控制裝置；烘干機構包括烘箱和引導機構。

2.根據權利要求1所述的抗菌輔料制備裝置，其特征在于，所述基材送料機構的退卷裝置為主動退卷裝置或者被動退卷裝置。

3.根據權利要求1所述的抗菌輔料制備裝置，其特征在于，所述納米磁性粒子施加機構的氣動噴施裝置包括多頭噴嘴和高壓氣泵，所述多頭噴嘴的數量可調；噴嘴采用高壓氮氣進行納米磁性顆粒的噴施。

4.根據權利要求1所述的抗菌輔料制備裝置，其特征在于，所述等離子體處理機構的等離子體放電處理室內的金屬管高壓電極有若干組；地電極位于金屬管高壓電極一側，并與金屬管高壓電極平行；金屬管高壓電極以及地電極分別通過電纜線與電源組件連接。

5.根據權利要求4所述的抗菌輔料制備裝置，其特征在于，所述金屬管高壓電極被硅膠管包覆；所述電源組件的電源頻率選擇范圍為：1～100KHz，放電電壓范圍為：4～35KV。

6.根據權利要求1所述的抗菌輔料制備裝置，其特征在于，所述預烘干機構中的預烘干熱輥為兩組，抗菌輔料基材從這些預烘干輥上交替纏繞通過；預烘干熱輥外接電加熱裝置，使預烘干熱輥保持預烘干所需的溫度。

7.根據權利要求1所述的抗菌輔料制備裝置，其特征在于，所述烘干機構的烘箱溫度下層為120-140℃,中層為140-160℃,上層為160-180℃；烘干機構后方還設置有收卷切邊機構，進行切邊、裁剪、卷取。