[實用新型]研磨機上盤清理工具

有效

• 申請號: 201720692059.0
• 申請日: 2017-06-14
• 公開（公告）號: CN206912936U
• 公開（公告）日: 2018-01-23
• 發明（設計）人: 饒橋兵;譚良平
• 申請（專利權）人: 藍思科技（長沙）有限公司
• 主分類號: B24B37/34
• 分類號: B24B37/34;B24B55/00
• 代理公司: 北京超凡志成知識產權代理事務所(普通合伙)11371
• 代理人: 龍禮妹

技術領域

本實用新型涉及工裝技術領域，尤其是涉及一種研磨機上盤清理工具。

背景技術

研磨是超精密加工中一種重要加工方法，其優點是加工精度高，加工材料范圍廣。針對研磨這道工序，出現了專用的研磨機。研磨機是一種通過夾具固定工件配合研磨輔料，從而達到表面拋光的磨床。主要用于研磨工件中的高精度平面、內外圓柱面、圓錐面、球面、螺紋面和其他型面。

研磨機的主要類型有圓盤式研磨機、轉軸式研磨機和各種專用研磨機。圓盤式研磨機分單盤和雙盤兩種，以雙盤研磨機應用最為普通。

傳統的雙盤研磨機一般包括上盤和下盤，在上盤和下盤的表面蒙上磨皮，上盤設有多個出水孔。使用時，待研磨拋光的物料放置在上下盤之間，通過上下盤的轉動對物料表面進行研磨，由出水孔流出研磨冷卻液進行冷卻。但是，隨著長時間的研磨，研磨下來的粉末容易堵住出水孔。

傳統磨機上盤的出水孔清理是一個一個磨粉出水孔的去清理，耗時間長，影響產能，清理麻煩。同時傳統磨機上盤每次換好新磨皮后必須打通每一個磨粉出水孔處的磨皮促使磨液流到工件上，傳統方法也是一個一個去打通，同樣耗時間長，影響產能，清理麻煩。

基于此，本實用新型提供了一種研磨機上盤清理工具以解決上述的技術問題。

實用新型內容

本實用新型的目的在于提供一種研磨機上盤清理工具，以解決現有技術中傳統研磨機的上盤清理比較麻煩費時的技術問題。

基于上述第一目的，本實用新型提供了一種研磨機上盤清理工具，包括環狀本體，所述環狀本體的一側設置有多個清理凸起，多個所述清理凸起與研磨機上盤的多個出水孔位置一一對應設置，且能夠插入對應的所述出水孔內。

可選的，所述清理凸起的上端為尖端。

所述清理凸起的上端設置為較尖銳尖端，容易刺入堵塞的出水孔，刺破堵塞物。也容易刺破覆蓋出水孔的磨皮。

可選的，所述清理凸起呈圓錐形。

圓錐形凸起便于加工，同時漸變的直徑可以完全清理整個出水孔內的堵塞，清理效果更好。

可選的，所述清理凸起與所述環狀本體的連接處設置有阻擋部。

通過所述阻擋部，防止所述清理凸起無限制的進入出水孔中，且能避免清理凸起不易從出水孔中拔出的現象。優選的，是設置在清理凸起底部的圓柱，圓柱一端與環狀本體固接，另一端與清理凸起固接。圓柱直徑略大于清理凸起的底面直徑。

可選的，所述清理凸起的表面為磨砂表面。

將清理凸起的表面設置成磨砂表面，有利于增大其摩擦力，從而帶下來堵塞的粉末等。

可選的，所述清理凸起的表面設置有多個摩擦顆粒。

將清理凸起的表面設置很多例如銼刀一樣的顆粒狀，更容易使堵塞的粉末等被磨散。

可選的，所述環狀本體為圓環形。

環狀本體可以設置成圓環形，也可以為其余的形狀，或者設計成鏤空形狀減少成本。

可選的，至少兩個所述清理凸起的高度高于其余的所述清理凸起，作為用于進行定位的定位釘。

在所有的清理凸起中，選擇至少兩個清理凸起，使其加工的高度明顯的高于其余清理凸起作為定位釘，從而起到定位作用，使用時，先將這些較高的定位釘插入到相應的出水孔內進行定位，這樣，上盤在下壓過程中，就不會出現對不準的情形。

可選的，所述定位釘設置三個。

設置成三個定位釘，能夠定位準確，無論怎樣也不會出現定位錯誤的問題。

可選的，三個所述定位釘為所有的所述清理凸起中的最外層的其中三個。

選擇外緣的三個清理凸起作為定位釘，在初始對準時，很容易就找到相應的出水孔，提高定位速度，節省定位時間。

本實用新型提供的所述研磨機上盤清理工具，是針對研磨機上盤專門設計的一種清理工具，在使用時，只要將工具直接放進磨機機臺下盤擺好，把清理凸起對好上盤的出水孔，再把上盤降下(反復3—5次)即可，就可以清理出水孔里面的磨粉，雜物以及打穿出水孔上的磨皮。

本實用新型研磨機上盤清理工具結構簡單，加工方便，使用簡單，耗時間短，一次既可以清理磨粉孔的雜物又可以打通磨粉孔上的磨皮，避免磨粉孔雜物堆積和磨粉水少兩個因素導致加工工件表面不良異常的發生。使用壽命長，成本低廉，提高效率非常大，有很大的實用推廣性。

附圖說明