[實(shí)用新型]刀具表面連續(xù)鍍膜裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201720560491.4 | 申請(qǐng)日: | 2017-05-19 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN207331047U | 公開(kāi)(公告)日: | 2018-05-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 單永賢 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 上海金科納米涂層技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C14/32 | 分類號(hào): | C23C14/32;C23C14/56 |
| 代理公司: | 上海天協(xié)和誠(chéng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 31216 | 代理人: | 蔣晏雯 |
| 地址: | 200082 上海市虹*** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 刀具 表面 連續(xù) 鍍膜 裝置 | ||
1.一種刀具表面連續(xù)鍍膜裝置,其特征在于:它包括兩組滑桿和至少三個(gè)真空室,分別為預(yù)處理室、鍍膜室和出樣室;
預(yù)處理室的外側(cè)為工件轉(zhuǎn)盤(pán)的進(jìn)口,內(nèi)側(cè)設(shè)有插板閥系統(tǒng),預(yù)處理室的真空壁上安裝有加熱系統(tǒng)、底部設(shè)有抽真空系統(tǒng)以及進(jìn)氣口;
鍍膜室的兩側(cè)分別設(shè)有插板閥系統(tǒng),鍍膜室的真空壁上安裝有加熱系統(tǒng)和鍍膜靶材、底部設(shè)有抽真空系統(tǒng)以及進(jìn)氣口;
出樣室的內(nèi)側(cè)為插板閥系統(tǒng),外側(cè)為工件轉(zhuǎn)盤(pán)的出口,出樣室的真空壁上安裝有冷卻系統(tǒng)、底部設(shè)有抽真空系統(tǒng)和進(jìn)氣口;
三個(gè)真空室通過(guò)插板閥系統(tǒng)的開(kāi)啟和關(guān)閉實(shí)現(xiàn)三個(gè)真空室間的密封隔離和密封相通,所述插板閥系統(tǒng)上均設(shè)有高溫密封系統(tǒng);
兩組滑桿設(shè)于三個(gè)真空室內(nèi)的底部并貫穿三個(gè)真空室,兩組滑桿的一端位于預(yù)處理室的進(jìn)口并分別通過(guò)電機(jī)驅(qū)動(dòng),每個(gè)真空室的中心處均設(shè)有卡簧,工件轉(zhuǎn)盤(pán)底部中心穿過(guò)滑桿并通過(guò)滑桿的轉(zhuǎn)動(dòng)帶動(dòng)工件轉(zhuǎn)盤(pán)向前運(yùn)動(dòng)到卡簧位置,卡簧支撐工具轉(zhuǎn)盤(pán)并帶動(dòng)其旋轉(zhuǎn)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的刀具表面連續(xù)鍍膜裝置,其特征在于:所述電機(jī)通過(guò)磁流體與預(yù)處理室的進(jìn)口處形成密封連接。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的刀具表面連續(xù)鍍膜裝置,其特征在于:三個(gè)真空室底部的抽真空系統(tǒng)是單獨(dú)的三套抽真空系統(tǒng)或并聯(lián)的抽真空系統(tǒng)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的刀具表面連續(xù)鍍膜裝置,其特征在于:抽真空系統(tǒng)包括分子泵和機(jī)械泵以及空氣進(jìn)氣系統(tǒng)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的刀具表面連續(xù)鍍膜裝置,其特征在于:每個(gè)抽真空系統(tǒng)配有獨(dú)立的真空計(jì)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的刀具表面連續(xù)鍍膜裝置,其特征在于:所述插板閥系統(tǒng)包括板閥、閥門(mén)開(kāi)關(guān)氣缸和閥板鎖緊機(jī)構(gòu)。
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- 專利分類
C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





