[實用新型]一種真空刻蝕用抽氣裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201720550489.9 | 申請日: | 2017-05-18 |
| 公開(公告)號: | CN206947300U | 公開(公告)日: | 2018-01-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 張惠琳 | 申請(專利權(quán))人: | 信豐福昌發(fā)電子有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 真空 刻蝕 用抽氣 裝置 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及PCB板生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種真空刻蝕用抽氣裝置。
背景技術(shù)
刻蝕是PCB板制造過程中的重要工藝??涛g需要在真空反應(yīng)腔中進行,在刻蝕完成之后,通過真空抽氣裝置抽出真空反應(yīng)腔中的工藝廢氣。抽出真空反應(yīng)腔中工藝廢氣的過程中,稀薄氣體的抽送對逆向反彈的顆粒無法產(chǎn)生足夠的阻擋和干擾,導(dǎo)致少量的顆粒返回到真空反應(yīng)腔中,從而影響真空反應(yīng)腔的潔凈度,降低生產(chǎn)良率,并且,真空反應(yīng)腔中顆粒的累積增加了停機維護的頻率。
實用新型內(nèi)容
本實用新型的目的是為了解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的缺點,而提出的一種真空刻蝕用抽氣裝置。
為了實現(xiàn)上述目的,本實用新型采用了如下技術(shù)方案:
一種真空刻蝕用抽氣裝置,包括真空腔、抽氣腔和刻蝕設(shè)備,所述真空腔通過輸出管與抽氣腔相通連接,所述輸出管與真空腔連接處設(shè)置有防回流彈片,所述防回流彈片的輸出端對應(yīng)抽氣腔設(shè)置,所述抽氣腔內(nèi)對應(yīng)輸出管的末端設(shè)置有擋板,且抽氣腔內(nèi)對應(yīng)擋板設(shè)置有反射板,所述抽氣腔通過抽氣管安裝有分子泵,所述分子泵設(shè)置在抽氣腔的外部,所述刻蝕設(shè)備與真空腔相通連接。
優(yōu)選地,所述輸出管上設(shè)置有調(diào)節(jié)閥,所述調(diào)節(jié)閥為調(diào)節(jié)球閥。 在真空腔內(nèi)PCB板通過刻蝕設(shè)備刻蝕工藝后產(chǎn)生的廢氣通過分子泵抽取時,通過調(diào)節(jié)閥調(diào)節(jié)輸出管內(nèi)廢氣排出的量,保證真空腔內(nèi)廢氣被排出的效果。
優(yōu)選地,所述擋板呈折彎狀設(shè)置,且擋板折彎處設(shè)置有通口。輸出管通過分子泵抽取出的廢氣通過輸出管進入抽氣腔內(nèi),并通過擋板上的通口進入抽氣腔內(nèi),擋板避免廢氣中的顆粒物質(zhì)回流,影響廢氣抽離的效果。
優(yōu)選地,所述抽氣管與抽氣腔連接處設(shè)置有防回流彈片二,所述防回流彈片二的輸出端對應(yīng)分子泵設(shè)置。通過防回流彈片二和防回流彈片輔助分子泵對真空腔內(nèi)的廢氣抽取,雙重防護廢氣中的顆粒物體回流,保證分子泵抽取真空腔內(nèi)廢氣的效果。
優(yōu)選地,所述反射板固定安裝在抽氣腔對應(yīng)擋板的上方,且反射板設(shè)置有反射凸點,所述反射凸點的端部向抽氣管傾斜。反射板將輸出管排至抽氣腔內(nèi)的廢氣遮擋反彈,并通過反射板山的反射凸點導(dǎo)送至抽氣管,提高分子泵抽取廢氣的效率。
本實用新型中,真空腔內(nèi)PCB板通過刻蝕設(shè)備刻蝕工藝后產(chǎn)生的廢氣需要排放時,通過分子泵運行,通過抽氣腔對真空腔內(nèi)的廢氣抽取,通過調(diào)節(jié)閥調(diào)節(jié)輸出管內(nèi)廢氣排出的量,防回流彈片二和防回流彈片輔助分子泵對真空腔內(nèi)的廢氣抽取,雙重防護廢氣中的顆粒物體回流,輸出管通過分子泵抽取出的廢氣通過輸出管進入抽氣腔內(nèi),并通過擋板上的通口進入抽氣腔內(nèi),擋板避免廢氣中的顆粒物質(zhì)回流,反射板將輸出管排至抽氣腔內(nèi)的廢氣遮擋反彈,并通過反射板山的反 射凸點導(dǎo)送至抽氣管,提高分子泵抽取廢氣的效率。該真空刻蝕用抽氣裝置,安裝方便,使用簡單,有效提高真空腔內(nèi)廢氣排出的效率及廢氣排出的純凈度,提高PCB板刻蝕的質(zhì)量。
附圖說明
圖1為本實用新型提出的一種真空刻蝕用抽氣裝置的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2為本實用新型提出的一種真空刻蝕用抽氣裝置的抽氣腔內(nèi)部結(jié)構(gòu)示意圖;
圖3為本實用新型提出的一種真空刻蝕用抽氣裝置的A-A結(jié)構(gòu)示意圖。
圖中:1真空腔;11輸出管;12調(diào)節(jié)閥;13防回流彈片;2抽氣腔;21分子泵;211抽氣管;212防回流彈片二;22擋板;221通口;23反射板;231反射凸點;3刻蝕設(shè)備。
具體實施方式
下面將結(jié)合本實用新型實施例中的附圖,對本實用新型實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實施例僅僅是本實用新型一部分實施例,而不是全部的實施例。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





