[實用新型]干版曝光裝置有效
| 申請號: | 201720293206.7 | 申請日: | 2017-03-24 |
| 公開(公告)號: | CN207067659U | 公開(公告)日: | 2018-03-02 |
| 發明(設計)人: | 杜武兵;黃國勇 | 申請(專利權)人: | 深圳市路維光電股份有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20 |
| 代理公司: | 深圳市翼智博知識產權事務所(普通合伙)44320 | 代理人: | 肖偉 |
| 地址: | 518057 廣東省深圳市南*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 干版 曝光 裝置 | ||
技術領域
本實用新型實施例涉及干版曝光技術領域,尤其涉及一種干版曝光裝置。
背景技術
在PCB,FPC等線路板的相關光罩加工過程中,常常會使用到干版。現有的干版曝光處理通常都是采用傳統的干版光繪機進行曝光,由于干版曝光所需能量低,因此,現有的干版光繪機采用能量密度較小的綠光源,由于綠光源功率低,能量低至只有幾毫瓦,雖然不會對干版造成損傷,但也導致現有的干版曝光所需時長較長且精度較低,使得曝光效率低。
實用新型內容
本實用新型實施例要解決的技術問題在于,提供一種干版曝光裝置,以提高干版曝光效率和精度。
為解決上述技術問題,本實用新型實施例提供如下技術方案:提供一種干版曝光裝置,所述干版曝光裝置包括用于放置干版的載料臺、用于產生激光以照射放置在載料臺上的干版的激光頭以及設置于激光頭與載料臺之間用于對激光頭所發出的激光進行濾光處理的濾光片。
進一步地,所述激光頭為藍光激光頭。
進一步地,所述藍光激光頭為半導體側面泵浦激光模塊。
進一步地,所述濾光片采用中心波長為390nm~410nm之間的帶通型濾光片。
采用上述技術方案后,本實用新型實施例至少具有如下有益效果:本實用新型實施例通過濾光片對激光頭所發射的激光進行部分能量的吸收,使得激光頭所發射的激光的能量適用于干版,能有效的提高干版曝光的速率和精度,從而提高干版的曝光效率,降低加工成本;另一方面,通過改變濾光片的規格大小,可以根據實際需要選擇不同波長的濾光片,從而達到過濾部分波長的激光和降低能量的效果,使得激光頭所發射的激光適用于曝光不同的干版。
附圖說明
圖1是本實用新型干版曝光裝置一個實施例的結構示意圖。
具體實施方式
下面結合附圖和具體實施例對本申請作進一步詳細說明。應當理解,以下的示意性實施例及說明僅用來解釋本實用新型,并不作為對本實用新型的限定,而且,在不沖突的情況下,本申請中的實施例及實施例中的特征可以相互結合。
如圖1所示,本實用新型實施例提供一種干版曝光裝置,所述干版曝光裝置包括用于放置干版3的載料臺5、用于產生激光以照射放置在載料臺5上的干版3的激光頭1以及設置于激光頭1與載料臺5之間用于對激光頭1所發出的激光進行濾光處理的濾光片2。
本實用新型實施例通過濾光片2對激光頭1所發射的激光4進行部分能量的吸收,使得激光頭1所發射的激光4的能量適用于干版,能有效的提高干版3曝光的速率和精度,從而提高干版3的曝光效率,降低加工成本;另一方面,通過改變濾光片2的規格大小,可以根據實際需要選擇不同波長的濾光片2,從而達到過濾部分波長的激光和降低能量的效果,使得激光頭1所發射的激光4適用于曝光不同的干版3。
在一個具體實施例中,所述濾光片2采用中心波長為390nm~410nm之間的帶通型濾光片。
本實施例中,所述濾光片2為玻璃材質,表面涂有暗物質,能達到吸收特定波長的激光的作用;其中心波長為390nm~410nm之間,優選的,其中心波長為400nm,半帶寬可根據需求進行不同程度的調整,根據需要有1%、10%、20%、30%、40%、50%等不同規格(百分比規格表示:激光通過相關規格的濾光片后輸出能量只有原來的百分比值),根據曝光機設備的光路相應制作滿足需求的尺寸,尺寸多樣化。
在一個可選實施例中,所述激光頭1為藍光激光頭,具體地,所述藍光激光頭為半導體側面泵浦激光模塊。
本實施例中,所述藍光激光頭采用半導體側面泵浦激光模塊,輸出功率高,壽命長,便于維護,內置循環水冷卻以保證激光穩定輸出,可長時間連續工作;具備以下特點:
1)溫控、驅動和激光頭完全集成,結構小巧緊湊,外部只需直流供電;
2)經過高低溫存儲和振動沖擊測試,具有可靠的穩定性,環境溫度在-15~45度范圍時,可24小時連續穩定工作;
3)具有數字調制功能和模擬調制功能;
4)冗余的散熱設計、雙向溫控和完善的雙向溫度保護功能,可以保證寬廣的工作溫度范圍而不會影響激光頭的壽命。
目前市場上的藍光激光頭通常功率較高,能達到10W~25W左右,通過濾光片2的作用之后,能夠快速的對干版3進行精準的曝光,有效的提高干版3的曝光效率。
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