[實用新型]一種石墨框結(jié)構(gòu)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201720186685.2 | 申請日: | 2017-02-28 |
| 公開(公告)號: | CN206624914U | 公開(公告)日: | 2017-11-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 丁飛;陸彥輝 | 申請(專利權(quán))人: | 隆基樂葉光伏科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/458 | 分類號: | C23C16/458 |
| 代理公司: | 西安通大專利代理有限責(zé)任公司61200 | 代理人: | 張弘 |
| 地址: | 710018 陜西省西安市*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 石墨 結(jié)構(gòu) | ||
1.一種石墨框結(jié)構(gòu),其特征在于:包括石墨框本體(2),所述的石墨框本體(2)上設(shè)置有多個子框(1),所述的子框(1)的四個邊均向內(nèi)部倒角形成斜面,四個斜面底部向下形成用于放置工件(4)的槽(3)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種石墨框結(jié)構(gòu),其特征在于:所述的斜面與豎直面的夾角為60°。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種石墨框結(jié)構(gòu),其特征在于:所述的槽(3)深度為0.5mm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種石墨框結(jié)構(gòu),其特征在于:所述的槽(3)與工件(4)間隙配合。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種石墨框結(jié)構(gòu),其特征在于:所述的槽(3)邊沿倒角為圓角(5),圓角(5)的半徑為106mm。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種石墨框結(jié)構(gòu),其特征在于:所述的相鄰子框(1)之間形成格柵,格柵的斷面為階梯倒角結(jié)構(gòu)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種石墨框結(jié)構(gòu),其特征在于:所述的石墨框本體(2)矩陣排列4×6個子框(1)。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于隆基樂葉光伏科技有限公司,未經(jīng)隆基樂葉光伏科技有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201720186685.2/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:一種PECVD雙面沉積設(shè)備
- 下一篇:一種膠體溶液制備及鍍膜裝置
- 同類專利
- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆,例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的
- 卡片結(jié)構(gòu)、插座結(jié)構(gòu)及其組合結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)平臺結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)支撐結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)支撐結(jié)構(gòu)
- 單元結(jié)構(gòu)、結(jié)構(gòu)部件和夾層結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)扶梯結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)隔墻結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)連接結(jié)構(gòu)
- 螺紋結(jié)構(gòu)、螺孔結(jié)構(gòu)、機械結(jié)構(gòu)和光學(xué)結(jié)構(gòu)
- 螺紋結(jié)構(gòu)、螺孔結(jié)構(gòu)、機械結(jié)構(gòu)和光學(xué)結(jié)構(gòu)





