[實用新型]用于輻射檢測的優化屏蔽和感應配置

有效

• 申請號: 201720175048.5
• 申請日: 2017-02-24
• 公開（公告）號: CN206960667U
• 公開（公告）日: 2018-02-02
• 發明（設計）人: N·特羅斯特;D·莫里森;J·A·德威特
• 申請（專利權）人: 賽默艾博林有限公司
• 主分類號: G01T1/02
• 分類號: G01T1/02
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司31100
• 代理人: 錢慰民

1.一種用于優化將輻射檢測系統與電磁EM放射物屏蔽及感應電離輻射放射物的所述輻射檢測系統的系統，其包括：

輻射檢測器，其經配置以檢測個體暴露于的電離輻射放射物且安裝至印刷電路板PCB；

屏蔽材料，其經配置以保護所述輻射檢測器免受不同于所述電離輻射放射物的EM放射物的影響；和

吸收材料，其包圍所述輻射檢測器的表面且經配置以部分地吸收所述電離輻射放射物及朝向所述輻射檢測器的所述表面引導所述電離輻射放射物，其中

所述屏蔽材料和所述吸收材料相對于所述輻射檢測器布置以矯正由輻射放射物產生的多個放射學反應，所述輻射放射物以多個入射角沖射所述輻射檢測器使得所述輻射檢測器產生放射學反應，以便降低所述輻射反應對所述輻射放射物的所述多個入射角的依賴性。

2.根據權利要求1所述的系統，其進一步包括：

屏蔽環，其從側面包圍所述輻射檢測器且經配置以將所述輻射檢測器安裝至所述PCB使得所述屏蔽環和所述輻射檢測器相對于所述PCB為同心，其中所述同心安裝的所述屏蔽環和所述輻射檢測器保護所述輻射檢測器免受EM放射物影響。

3.根據權利要求1所述的系統，其中所述屏蔽材料和所述吸收材料的所述布置矯正通過入射角沖射所述輻射檢測器的輻射放射物的放射學反應，所述放射學反應不同于由以基本上垂直于所述輻射檢測器的所述表面的入射角沖射所述輻射檢測器的輻射放射產生的放射學反應。

4.根據權利要求3所述的系統，其中當所述放射學反應通過基本上垂直于所述輻射檢測器的所述表面的入射角矯正為在所述放射學反應的閾值內時，所述屏蔽材料和所述吸收材料的所述布置產生所述放射學反應以便在所述布置矯正具有不同于基本上垂直于所述輻射檢測器的所述表面的所述入射角的入射角的輻射放射物的所述放射學反應時降低所述輻射反應對所述多個入射角的所述依賴性。

5.根據權利要求2所述的系統，其中所述屏蔽材料和所述吸收材料耦合到所述屏蔽環且包圍所述輻射檢測器的所述表面，使得所述輻射檢測器經屏蔽同時允許所述輻射放射物傳播至所述輻射檢測器的所述表面。

6.根據權利要求5所述的系統，其中所述屏蔽材料和所述吸收材料與所述屏蔽環和所述輻射檢測器同心地放置以矯正由通過不同入射角沖射所述輻射檢測器的所述輻射放射物產生的所述放射學反應，使得所述輻射檢測器產生所述放射學反應以便降低所述輻射反應對所述輻射放射物的所述多個入射角的所述依賴性。

7.如權利要求6所述的系統，其中所述屏蔽環包含銅材料，所述屏蔽材料包含鋁材料，且所述吸收材料包含錫材料。

8.一種用于優化將輻射檢測系統與電磁EM放射物屏蔽及感應輻射放射物的所述輻射檢測系統的系統，其包括：

傳感器模塊，其容納輻射檢測器，所述輻射檢測器經配置以檢測個體暴露的輻射放射物；

第一屏蔽材料，其包圍所述輻射檢測器，所述輻射檢測器經配置以保護所述輻射檢測器免受不同于所述輻射放射物的EM放射物的影響；

主模塊，其容納計算裝置，所述計算裝置經配置以基于由所述輻射檢測器檢測到的輻射放射物來確定所述個體暴露的所述輻射放射物的劑量及/或劑量率；和

第二屏蔽材料，其包圍所述主模塊，所述主模塊經配置以保護所述主模塊免受EM放射物影響及/或防止由所述主模塊產生的EM放射物沖射所述輻射檢測器，

其中所述傳感器模塊和所述主模塊電連接使得所述第一屏蔽材料和所述第二屏蔽材料用作單一屏蔽材料。

9.根據權利要求8所述的系統，其中所述傳感器模塊進一步包括：

印刷電路板PCB，其安裝所述輻射檢測器；和

屏蔽環，其從側面包圍所述輻射檢測器且經配置以將所述輻射檢測器安裝至所述PCB使得所述屏蔽環和所述輻射檢測器相對于所述PCB為同心，其中所述同心安裝的所述屏蔽環和所述輻射檢測器保護所述輻射檢測器免受EM放射物影響。

10.根據權利要求8所述的系統，其進一步包括：

電導體，其沿所述傳感模塊和所述主模塊的連接放置以消除存在于所述傳感模塊與所述主模塊之間的所述電連接中的電間隙，從而保護所述輻射檢測器免受EM放射物影響。

11.根據權利要求10所述的系統，其中所述電導體為導電帶。