[實用新型]一種筆記本配件表面真空鍍膜裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201720155614.6
• 申請日: 2017-02-21
• 公開（公告）號: CN206607306U
• 公開（公告）日: 2017-11-03
• 發(fā)明（設計）人: 鄒高文
• 申請（專利權）人: 重慶詮友電子科技有限公司
• 主分類號: C23C14/22
• 分類號: C23C14/22
• 代理公司: 北京聯瑞聯豐知識產權代理事務所(普通合伙)11411
• 代理人: 鄭自群

技術領域

本實用新型涉及鍍膜裝置技術領域，具體為一種筆記本配件表面真空鍍膜裝置。

背景技術

在真空鍍膜裝置中，通常是將待鍍膜的相關配件放入中控室內，并由安裝有在承載板上的鍍膜夾進行夾緊，然后由離子發(fā)射源對防止在鍍膜材料擱置槽內的鍍膜材料進行轟擊，使得鍍膜材料濺射并均勻分布待鍍膜的配件表面，完成鍍膜，但是在此過程中，鍍膜材料不僅會被濺射至待鍍膜的配件上，且會被濺射到承載板以及鍍膜鍋的內壁上，使得在多次鍍膜后，承載板以及鍍膜鍋的內壁上會沉積一定量的鍍膜材料，使得鍍膜材料得不到充分的利用，使得浪費大量的鍍膜材料，浪費資源，且由于鍍膜材料多為較為昂貴的金屬材料，因此也大大的增加了鍍膜的成本，同時傳統(tǒng)在鍍膜時，由于配件多為使用鍍膜夾固定，不可進行轉動，使得配件在鍍膜時往往會存在一些難鍍膜的區(qū)域，使得配件鍍膜效果較差，不便于配件的使用。

實用新型內容

本實用新型的目的在于提供一種筆記本配件表面真空鍍膜裝置，以解決上述背景技術中提出的問題。

為實現上述目的，本實用新型提供如下技術方案：一種筆記本配件表面真空鍍膜裝置，包括第一鍍膜室、真空室、第二鍍膜室和鍍膜鍋，所述真空室內部的底端安裝有離子發(fā)射源，且真空室內部頂端的中間位置處安裝有電機，所述電機一側的真空室的頂端安裝有真空泵，且真空泵的底端安裝有進氣管，所述電機另一側的真空室的頂端安裝有控制室，且控制室的一側安裝有壓力表，所述電機的頂端通過轉軸安裝有卡塊，所述真空室內部底端的中間位置安裝有第二鍍膜室，且第二鍍膜室的頂端安裝有第一鍍膜室，所述第一鍍膜室的頂端和第二鍍膜室的底端均安裝有轉盤，且轉盤的邊緣處均勻設有與卡塊相互配合的卡槽，所述第二鍍膜室內部的底端安裝有鍍膜鍋，且鍍膜鍋的底端安裝有鍋底板，所述鍋底板頂端的中央位置處安裝有鍍膜材料擱置槽，所述第一鍍膜室頂端的轉盤的底端安裝有承載板，且承載板上均勻安裝有鍍膜夾。

優(yōu)選的，所述真空室的一側安裝有蓋板。

優(yōu)選的，所述真空室內部的一側安裝有壓力檢測器。

優(yōu)選的，所述第一鍍膜室和第二鍍膜室內部的兩側均安裝有限位塊。

優(yōu)選的，所述電機的一側設置有散熱翅。

與現有技術相比，本實用新型的有益效果是：該筆記本配件表面真空鍍膜裝置通過安裝有第一鍍膜室和第二鍍膜室，且在第一鍍膜室的頂端和第二鍍膜室的底端均安裝有轉盤，且在轉盤上均勻設置有卡槽，使得在鍍膜工作進行一端時間后，第一鍍膜室的內壁以及第一鍍膜室的轉盤上沉積一定量的鍍膜材料時，通過第一鍍膜室和第二鍍膜室位置互換，使得鍍膜材料可以進行再次利用，使得物料可以得到充分利用，使得節(jié)約大量的鍍膜材料，節(jié)省資源，因此也大大的減少了鍍膜的成本，同時裝置通過安裝有電機、轉軸以及卡塊，使得卡塊與卡槽相互配合連接，便于裝置的安裝拆卸，便于使用，且，在鍍膜工作進行時，通過電機的轉動實現相關配件的轉動，使得鍍膜較為均勻，配件的鍍膜效果較好。

附圖說明

圖1為本實用新型的結構剖面示意圖；

圖2為本實用新型的部件示意圖；

圖3為本實用新型的轉盤示意圖；

圖中：1-進氣管；2-真空泵；3-第一鍍膜室；4-轉盤；5-電機；6-卡塊；7-承載板；8-鍍膜夾；9-控制室；10-真空室；11-第二鍍膜室；12-離子發(fā)射源；13-鍍膜鍋；14-卡槽；15-鍍膜材料擱置槽；16-鍋底板；17-限位塊；18-壓力檢測器；19-壓力表；20-蓋板。

具體實施方式

下面將結合本實用新型實施例中的附圖，對本實用新型實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本實用新型一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本實用新型中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本實用新型保護的范圍。