[實(shí)用新型]一種真空鍍膜分流氣管有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201720153974.2 | 申請(qǐng)日: | 2017-02-21 |
| 公開(公告)號(hào): | CN206428315U | 公開(公告)日: | 2017-08-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 付杰平 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 東莞市亮鑫五金加工有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C14/22 | 分類號(hào): | C23C14/22 |
| 代理公司: | 北京權(quán)智天下知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)11638 | 代理人: | 張廷利 |
| 地址: | 523000 廣東省東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 真空鍍膜 分流 氣管 | ||
技術(shù)領(lǐng)域:
本實(shí)用新型涉及鍍膜技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種真空鍍膜分流氣管。
背景技術(shù):
目前,物理氣相沉積法(PVD)被廣泛用于鍍裝飾膜層于電子裝置的外殼;真空鍍膜裝置中設(shè)置有氣管,而原裝氣管只是單一氣管,由于氣管內(nèi)壓差問題,造成單支氣管上各出氣口上的出氣量不同,從而造成了產(chǎn)品的顏色不均勻,形成了同一爐次的產(chǎn)品出現(xiàn)較大的色差,這狀況使在PVD生產(chǎn)上的效益大大減少;此外,有的時(shí)候還要采用局部堵塞出氣孔的方式來調(diào)整氣體的分布,這樣不僅費(fèi)時(shí),且較難保證氣體的均勻分布,還可能導(dǎo)致鍍膜產(chǎn)品存在色差。
實(shí)用新型內(nèi)容:
本實(shí)用新型的目的就在于為了解決上述問題而提供一種真空鍍膜分流氣管,解決了背景技術(shù)中提到的問題。
為了解決上述問題,本實(shí)用新型提供了一種技術(shù)方案:一種真空鍍膜分流氣管,其創(chuàng)新點(diǎn)在于:包括氣管主體、下密封蓋、氣室一、進(jìn)氣接頭一、連接管道、隔板、氣室二、進(jìn)氣接頭二、氣室三、進(jìn)氣接頭三、氣室四、進(jìn)氣接頭四、上密封蓋、出氣孔、分流殼體、出氣接頭一、總進(jìn)氣接頭、出氣接頭二、出氣接頭三和出氣接頭四;所述隔板將氣管主體內(nèi)部從下向上依次均勻分為了氣室一、氣室二、氣室三和氣室四;所述下密封蓋固定連接在氣管主體底部;所述上密封蓋固定連接在氣管主體頂部;所述氣室一右側(cè)中央設(shè)有進(jìn)氣接頭一;所述氣室二右側(cè)中央設(shè)有進(jìn)氣接頭二;所述氣室三右側(cè)中央設(shè)有進(jìn)氣接頭三;所述氣室四右側(cè)中央設(shè)有進(jìn)氣接頭四;所述出氣孔為若干個(gè),所述出氣孔分別均勻設(shè)在氣室一、氣室二、氣室三和氣室四的左側(cè);所述進(jìn)氣接頭一通過連接管道與出氣接頭一相連通;所述進(jìn)氣接頭二通過連接管道與出氣接頭二相連通;所述進(jìn)氣接頭三通過連接管道與出氣接頭三相連通;所述進(jìn)氣接頭四通過連接管道與出氣接頭四相連通;所述分流殼體上下左右分別設(shè)有出氣接頭一、出氣接頭二、出氣接頭三和出氣接頭四,所述分流殼體內(nèi)部與總進(jìn)氣接頭出口相連通。
作為優(yōu)選,所述氣管主體由不銹鋼材料制成。
作為優(yōu)選,所述分流殼體內(nèi)部呈圓柱形狀。
作為優(yōu)選,所述總進(jìn)氣接頭出口位于分流殼體內(nèi)部中心。
本實(shí)用新型的有益效果:本實(shí)用新型具有結(jié)構(gòu)合理簡(jiǎn)單、生產(chǎn)成本低、安裝方便,功能齊全,使用時(shí),氣體首先通過總進(jìn)氣接頭進(jìn)入到分流殼體內(nèi)部中心,這里由于分流殼體內(nèi)部呈圓柱形狀,從而能夠有效的保證輸出的到出氣接頭一、出氣接頭二、出氣接頭三和出氣接頭四中的氣量都是相同,也就保證了氣體進(jìn)入到氣室一、氣室二、氣室三和氣室四內(nèi)部的氣量也是相同的,進(jìn)一步也就保證了每一個(gè)出氣孔的出氣量幾乎是平均的,從而大大減少了貨品顏色的不均勻,色差較大的問題,保證了同爐產(chǎn)品的質(zhì)量,增加了生產(chǎn)效益。
附圖說明:
為了易于說明,本實(shí)用新型由下述的具體實(shí)施及附圖作以詳細(xì)描述。
圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
1-氣管主體;2-下密封蓋;3-氣室一;4-進(jìn)氣接頭一;5-連接管道;6-隔板;7-氣室二;8-進(jìn)氣接頭二;9-氣室三;10-進(jìn)氣接頭三;11-氣室四;12-進(jìn)氣接頭四;13-上密封蓋;14-出氣孔;15-分流殼體;16-出氣接頭一;17-總進(jìn)氣接頭;18-出氣接頭二;19-出氣接頭三;20-出氣接頭四。
具體實(shí)施方式:
如圖1所示,本具體實(shí)施方式采用以下技術(shù)方案:一種真空鍍膜分流氣管,包括氣管主體1、下密封蓋2、氣室一3、進(jìn)氣接頭一4、連接管道5、隔板6、氣室二7、進(jìn)氣接頭二8、氣室三9、進(jìn)氣接頭三10、氣室四11、進(jìn)氣接頭四12、上密封蓋13、出氣孔14、分流殼體15、出氣接頭一16、總進(jìn)氣接頭17、出氣接頭二18、出氣接頭三19和出氣接頭四20;所述隔板6將氣管主體1內(nèi)部從下向上依次均勻分為了氣室一3、氣室二7、氣室三9和氣室四11;所述下密封蓋2固定連接在氣管主體1底部;所述上密封蓋13固定連接在氣管主體1頂部;所述氣室一3右側(cè)中央設(shè)有進(jìn)氣接頭一4;所述氣室二7右側(cè)中央設(shè)有進(jìn)氣接頭二8;所述氣室三9右側(cè)中央設(shè)有進(jìn)氣接頭三10;所述氣室四11右側(cè)中央設(shè)有進(jìn)氣接頭四12;所述出氣孔14為若干個(gè),所述出氣孔14分別均勻設(shè)在氣室一3、氣室二7、氣室三9和氣室四11的左側(cè);所述進(jìn)氣接頭一4通過連接管道5與出氣接頭一16相連通;所述進(jìn)氣接頭二8通過連接管道5與出氣接頭二18相連通;所述進(jìn)氣接頭三10通過連接管道5與出氣接頭三19相連通;所述進(jìn)氣接頭四12通過連接管道5與出氣接頭四20相連通;所述分流殼體15上下左右分別設(shè)有出氣接頭一16、出氣接頭二18、出氣接頭三19和出氣接頭四20,所述分流殼體15內(nèi)部與總進(jìn)氣接頭17出口相連通。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





