[實(shí)用新型]一種立式烷基化反應(yīng)器

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201720071924.X
• 申請日: 2017-01-20
• 公開（公告）號: CN206535555U
• 公開（公告）日: 2017-10-03
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 劉春江;謝省賓;劉輝;成潔;董倩
• 申請（專利權(quán)）人: 天津大學(xué)
• 主分類號: B01J19/24
• 分類號: B01J19/24;B01J10/00;B01J19/00;C10G50/00
• 代理公司: 天津市北洋有限責(zé)任專利代理事務(wù)所12201
• 代理人: 王麗

1.一種立式烷基化反應(yīng)器，包括殼體(2)、導(dǎo)流筒(3)、內(nèi)套筒(4)、規(guī)整填料(5)、硫酸分布器(6)、液烴分布器(7)、氣相C4分布器(8)和冷卻盤管(9)；其特征是殼體下封頭(18)的底部設(shè)置酸出口(10)，殼體上封頭(19)的上部設(shè)置氣體出口(17)；在殼體(2)的下部設(shè)置有氣相C4分布器(8)，與氣相C4進(jìn)口(11)位相連；氣相C4分布器(8)上面依次設(shè)置有至少2級的導(dǎo)流筒(3)和內(nèi)套筒(4)，內(nèi)套筒(4)內(nèi)部僅設(shè)置規(guī)整填料(5)，在最下面的內(nèi)套筒(4)內(nèi)部設(shè)置有液烴分布器(7)和規(guī)整填料(5)，液烴分布器(7)與液烴進(jìn)口(12)相連；殼體(2)上部設(shè)有硫酸分布器(6)，與酸進(jìn)口(13)連接；殼體頂部設(shè)置液相出口(16)；冷卻盤管(9)并聯(lián)或串聯(lián)布置在導(dǎo)流筒(3)和內(nèi)套筒(4)之間。

2.如權(quán)利要求1所述的反應(yīng)器，其特征是所述的冷卻盤管并聯(lián)設(shè)置，冷卻盤管(9)并排布置在導(dǎo)流筒(3)和內(nèi)套筒(4)之間；每層的冷卻盤管(9)單獨(dú)設(shè)置冷卻劑進(jìn)口和出口。

3.如權(quán)利要求1所述的反應(yīng)器，其特征是冷卻盤管串聯(lián)設(shè)置，冷卻盤管的一端連接在殼體底部的冷卻劑進(jìn)口(14)上，從底部的導(dǎo)流筒(3)開始螺旋上升，穿過內(nèi)套筒(4)內(nèi)部的規(guī)整填料(5)，規(guī)整填料(5)需要為盤管開孔，進(jìn)入上部的導(dǎo)流筒(3)并螺旋上升，直到最上面的導(dǎo)流筒(3)上為止，連接到殼體(2)上的冷卻劑出口。

4.如權(quán)利要求1所述的反應(yīng)器，其特征是所述的導(dǎo)流筒(3)為圓臺式結(jié)構(gòu)，圓臺母線與底面的夾角α為45°～60°，上下底面的直徑比d/D為0.3～0.6，根據(jù)反應(yīng)器的尺寸確定下底面與殼體的間隙σ和高度H的大小推薦的σ為5～30mm，H為50～300mm。

5.如權(quán)利要求1所述的反應(yīng)器，其特征是內(nèi)套筒(4)截面積與殼體截面積的比值為0.25～0.75，高徑比為5～20，數(shù)量在2～10個之間，導(dǎo)流筒(3)和內(nèi)套筒(4)間隔布置，導(dǎo)流筒(3)的個數(shù)為內(nèi)套筒(4)個數(shù)加1。

6.如權(quán)利要求1所述的反應(yīng)器，其特征是所述的內(nèi)套筒(4)內(nèi)部放置多段規(guī)整填料(5)，規(guī)整填料(5)的高度是內(nèi)套筒(4)高度的0.05～0.2倍，相鄰兩塊規(guī)整填料交錯90°放置。

7.如權(quán)利要求1所述的反應(yīng)器，其特征是所述的液烴分布器(7)采用蓮蓬式液體分布器，蓮蓬頭向上開有的小孔，開孔率在20％～60％。

8.如權(quán)利要求1所述的反應(yīng)器，其特征是所述的氣相C4分布器(8)采用金屬燒結(jié)制成的多孔性爆氣頭，孔徑在1μm～100μm之間。

9.如權(quán)利要求1所述的反應(yīng)器，其特征是所述的硫酸分布器(6)采用排管式液體分布器，排管向下開有的小孔，每平方米反應(yīng)器殼體截面設(shè)有100～600個孔。

10.如權(quán)利要求1所述的反應(yīng)器，其特征是所述的冷卻盤管(9)的管徑在DN15～DN20。