[實用新型]水質分析設備有效
| 申請號: | 201720056750.X | 申請日: | 2017-01-18 |
| 公開(公告)號: | CN207133272U | 公開(公告)日: | 2018-03-23 |
| 發明(設計)人: | 陳又銘 | 申請(專利權)人: | 總翔企業股份有限公司 |
| 主分類號: | G01N33/18 | 分類號: | G01N33/18;G01N1/38 |
| 代理公司: | 上海光華專利事務所(普通合伙)31219 | 代理人: | 徐秋平 |
| 地址: | 中國臺灣高雄市苓雅*** | 國省代碼: | 臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 水質 分析 設備 | ||
1.一種水質分析設備,其特征在于,用于透過將一清水與一藥劑導入一水樣中,以分析所述水樣的水質,包括:
一分析槽,所述分析槽的內部具有一槽體空間,所述槽體空間具有一安全水位、一定量水位、一循環水位、一位置高點與一位置低點;
一低點排水管路,所述低點排水管路自所述槽體空間中的所述位置低點延伸至所述分析槽外;
一水樣導入管路,所述水樣導入管路自所述分析槽外延伸至所述槽體空間中的所述位置低點;
一循環管路,所述循環管路的兩端分別自所述分析槽外延伸至所述槽體空間中的所述循環水位與所述位置低點;
一藥劑導入管路,所述藥劑導入管路的一端延伸而與所述循環管路連通;
一清水導入管路,所述清水導入管路自所述分析槽外延伸至所述槽體空間中的所述位置高點;以及
一分析模塊,所述分析模塊藉由對一水樣導入閥體的控制令所述水樣導入管路啟動導入,將所述水樣自所述位置低點導入所述槽體空間中,直到所述水樣于所述槽體空間內的水位到達所述安全水位,接著,所述分析模塊藉由對一循環泵的控制令所述循環管路啟動循環,使所述循環管路中充滿所述水樣,而后,所述分析模塊藉由對一低點排水閥體的控制令所述低點排水管路啟動排水,直到所述槽體空間內的所述水樣排出,此后,所述分析模塊藉由對一清水導入閥體的控制令所述清水導入管路啟動導入,將所述清水自所述位置高點導入所述槽體空間中,直到所述清水于所述槽體空間內的水位到達所述定量水位,之后,所述分析模塊藉由對一循環泵的控制令所述循環管路啟動循環,使所述循環管路中的所述水樣與所述槽體空間的所述清水混合,所述分析模塊還藉由對一藥劑導入泵的控制令所述藥劑導入管路啟動導入,將所述藥劑導入所述槽體空間,直到所述槽體空間內的所述清水、所述水樣與所述藥劑按比例混合生成一分析液體,藉以分析所述水樣的水質。
2.如權利要求1所述的水質分析設備,其特征在于,還包括一安全排水管路與一定量排水管路,所述安全排水管路自所述槽體空間中的所述安全水位延伸至所述分析槽外,以于所述水樣于所述槽體空間內的水位超過所述安全水位時排除所述水樣,使所述水樣于所述槽體空間內的水位到達所述安全水位;所述定量排水管路自所述槽體空間中的所述定量水位延伸至所述分析槽外,當所述清水于所述槽體空間內的水位超過所述定量水位時,所述分析模塊藉由對一定量排水泵的控制令所述定量排水管路啟動排水,直到所述清水于所述槽體空間內的水位到達所述定量水位。
3.如權利要求2所述的水質分析設備,其特征在于,所述循環管路設有所述循環泵,所述分析模塊藉由對所述循環泵的控制,令所述循環管路啟動循環;所述藥劑導入管路設有所述藥劑導入泵,所述分析模塊藉由對所述藥劑導入泵的控制,令所述藥劑導入管路啟動導入;所述定量排水管路設有所述定量排水泵,所述分析模塊藉由對所述定量排水泵的控制,令所述定量排水管路啟動排水。
4.如權利要求1所述的水質分析設備,其特征在于,所述分析槽具有一弧狀內壁面,所述弧狀內壁面延伸而形成所述槽體空間,所述清水導入管路在所述位置高點對準所述弧狀內壁面,所述水質分析設備還包括一清洗模塊,用于清洗分析槽的內部,當清洗所述分析槽的內部時,所述清洗模塊令所述清水導入管路啟動導入,將所述清水自所述位置高點流向所述弧狀內壁面,而沿著所述弧狀內壁面導入所述槽體空間,以在所述槽體空間中形成漩渦狀的流體,直到完成所述分析槽內部的清洗。
5.如權利要求4所述的水質分析設備,其特征在于,還包括一化學清洗液導入管路,提供一化學清洗液,所述化學清洗液導入管路的一端延伸而與所述清水導入管路連通,當清洗所述分析槽內部時,所述清洗模塊令所述化學清洗液導入管路啟動導入,將所述化學清洗液自所述位置高點沿著所述弧狀內壁面導入所述槽體空間,以在槽體空間中形成漩渦狀的流體,直到完成所述分析槽內部的清洗。
6.如權利要求5所述的水質分析設備,其特征在于,所述化學清洗液導入管路設有一化學清洗液導入泵,所述分析模塊藉由對所述化學清洗液導入泵的控制,令所述化學清洗液導入管路啟動導入。
7.如權利要求6所述的水質分析設備,其特征在于,所述藥劑導入管路自所述分析槽外延伸至所述槽體空間中的所述循環水位;所述化學清洗液導入管路自所述分析槽外延伸至所述槽體空間中的所述位置高點。
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