[實用新型]激光鐳射膜電暈處理裝置有效

申請號：	201720019697.6	申請日：	2017-01-09
公開（公告）號：	CN206406473U	公開（公告）日：	2017-08-15
發明（設計）人：	劉明輝	申請（專利權）人：	無錫光群雷射科技有限公司
主分類號：	B29C71/04	分類號：	B29C71/04;B29L7/00
代理公司：	江陰市同盛專利事務所(普通合伙)32210	代理人：	唐紉蘭,沈國安
地址：	214000 ***	國省代碼：	江蘇;32
權利要求書：	查看更多	說明書：	查看更多
摘要：
搜索關鍵詞：	激光鐳射電暈處理裝置
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【權利要求書】：

1.一種激光鐳射膜電暈處理裝置，其特征在于它包括用于對激光鐳射膜進行輸送導向的輥軸（1）、用于對激光鐳射膜進行電暈處理的電暈發生器（2）和真空保護箱（3），所述真空保護箱（3）位于電暈發生器（2）和后道處理機構之間，所述真空保護箱（3）外接真空泵（4），所述電暈發生器（2）包括底部有缺口的真空輻射管（2.1），在所述真空輻射管（2.1）的中心為設置有底部有開口的電子光學管（2.2），在所述電子光學管（2.2）的中心線上設置有陰極管（2.3），在所述真空輻射管（2.1）的底部缺口兩側安裝有陽極板（2.4），所述真空輻射管（2.1）的底部通過密封罩（5）將缺口封住，且在密封罩（5）上開設有電子束孔（5.1）。

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