[發(fā)明專利]高折射率改性硅烷的制備方法及其應用有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201711500598.0 | 申請日: | 2017-12-30 |
| 公開(公告)號: | CN108409778B | 公開(公告)日: | 2020-11-10 |
| 發(fā)明(設計)人: | 劉珠;丁小衛(wèi);祝琳 | 申請(專利權(quán))人: | 深圳市安品有機硅材料有限公司 |
| 主分類號: | C07F7/18 | 分類號: | C07F7/18;C07F7/08;C07F7/12;C08G77/28;C08G77/06 |
| 代理公司: | 深圳市明日今典知識產(chǎn)權(quán)代理事務所(普通合伙) 44343 | 代理人: | 王杰輝 |
| 地址: | 518103 廣東省深圳市寶安區(qū)福*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 折射率 改性 硅烷 制備 方法 及其 應用 | ||
1.一種高折射率改性硅烷,由包括以下步驟的方法制備:
將含硫雜環(huán)單體、硅烷單體與有機溶劑混合,加入酸性穩(wěn)定劑及水解縮合反應酸催化劑,攪拌條件下滴加水,然后升溫反應,得到高折射率改性硅烷;所述酸性穩(wěn)定劑為0≤PKa≤3.0的有機酸,所述酸性穩(wěn)定劑為一元羧酸;
所述含硫雜環(huán)單體是具有至少一個含硫雜環(huán)基團、以及至少一個羥基的化合物,所述含硫雜環(huán)基團具有n個硫原子,n為2的整倍數(shù),所述含硫雜環(huán)基團中其他原子均為碳原子,所述含硫雜環(huán)基團為飽和的含硫雜環(huán)基團,所述含硫雜環(huán)基團具有對稱結(jié)構(gòu);
所述硅烷單體的結(jié)構(gòu)式為:R2R3R4SiX,X為一價可水解官能基,R2、R3、R4選自氫基、2~10個碳原子的鏈烯基、(甲基)丙烯酸烷基酯基或不含脂肪族不飽和鍵的單價烴基,所述X為鹵素、烷氧基或酰氧基,R2、R3、R4中至少一個為氫基或2~10個碳原子的鏈烯基。
2.如權(quán)利要求1所述的高折射率改性硅烷,其特征在于,所述升溫反應的條件為升溫至90~120℃反應18~36h。
3.如權(quán)利要求1或2所述的高折射率改性硅烷,其特征在于,所述含硫雜環(huán)單體為2,5-二羥基-1,4-二噻烷1,5,9,13-四硫雜環(huán)十六烷-3,11-二醇乙烯二硫代縮醛1,3-二噻烷-2-甲酸1,3-二噻戊環(huán)-2-羧酸4-(1,3-二硫戊環(huán))苯酚1,3-二噻戊環(huán)-2-基甲醇1,4-二硫螺[4.5]-8-癸醇1,4-二硫雜螺[4.4]壬-6-基甲醇中的一種或幾種。
4.如權(quán)利要求1或2所述的高折射率改性硅烷,其特征在于,所述制備方法中,含硫雜環(huán)單體的物質(zhì)的量與1mol含硫雜環(huán)單體所含羥基的物質(zhì)的量的乘積,與硅烷單體的物質(zhì)的量與1mol硅烷單體所含可水解基團的物質(zhì)的量的乘積之比為1∶1.05~1.2。
5.如權(quán)利要求4所述的高折射率改性硅烷,其特征在于,所述酸性穩(wěn)定劑為二氯乙酸、三氯乙酸、2-丙炔酸、丙酮酸中的一種或幾種。
6.如權(quán)利要求1或2所述的高折射率改性硅烷,其特征在于,所述有機溶劑為有機溶劑A和有機溶劑B的混合物,所述有機溶劑A不溶或微溶于水,且沸點<100℃;有機溶劑B能與水混溶,且沸點<100℃。
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