[發明專利]復合納米顆粒及其制備方法和應用

有效

• 申請號: 201711474734.3
• 申請日: 2017-12-29
• 公開（公告）號: CN109994624B
• 公開（公告）日: 2020-12-11
• 發明（設計）人: 程陸玲;楊一行
• 申請（專利權）人: TCL科技集團股份有限公司
• 主分類號: H01L51/50
• 分類號: H01L51/50;H01L51/56;H01L51/54
• 代理公司: 深圳中一聯合知識產權代理有限公司 44414
• 代理人: 李艷麗

本發明提供了一種復合納米顆粒，所述復合納米顆粒包含相互結合的金屬氧化物納米顆粒和金屬納米顆粒，其中，所述金屬氧化物納米顆粒表面結合有鹵化物陰離子，所述金屬納米顆粒表面結合有電正性表面修飾劑，且所述金屬氧化物納米顆粒和所述金屬納米顆粒通過所述鹵化物陰離子和所述電正性表面修飾劑之間的吸附作用相互結合。

技術領域

本發明屬于顯示技術領域，尤其涉及一種復合納米顆粒及其制備方法和應用。

背景技術

在未來的新型顯示技術領域中，通過印刷技術有望實現顯示的產業革命，依據量子點發光二極管(QLED)以及有機發光二極管(OLED)為基礎的顯示元器件是技術研究的主題。

印刷和涂布是實現大面積顯示技術的一種必要手段，通過印刷和涂布技術來制備大面的紅綠藍元器件(像素點)時會遇到的一些問題，如：像素點，尤其是藍色像素點，效率不高、起亮電壓高。目前對于這些技術問題的分析，主要以在實驗室通過溶液法分別制備的紅綠藍器件作為研究對象，對其進行針對性的研究。

量子點發光二極管和有機發光二極管相應的器件結構基本相同，針對上述問題對器件性能進行優化時，都主要依據這些技術參數如起亮電壓、器件效率、電流效率、壽命等來進行研究。而對器件的整體性能的改進，目前主要從兩個方面進行研究：一是通過改進發光材料的熒光強度以及穩定性來提升器件效率和壽命；二是通過改進器件制備工藝來提升器件的效率和壽命。但通過改進器件制備工藝來提升器件的效率和壽命的現有技術，存在一些缺陷，如：針對不同的量子點尤其是帶隙較寬的量子點材料進行器件制備時，需要較高的電子遷移率注入到量子點中才能實現較高的器件效率。然而，如何將電子傳輸層材料制成電子遷移率較高的電子傳輸層，成為了一個技術難點。特別是當采用金屬氧化物納米顆粒作為電子傳輸層材料時，會存在相應的接觸勢壘，進而阻礙電子的遷移率提高電荷的起亮電壓。為了解決這一問題，通常通過摻雜法制備含有摻雜元素的金屬氧化物或改變金屬氧化物的粒徑大小，改進金屬氧化物納米顆粒的電子遷移率，但這些方法仍然不能降低金屬氧化物納米顆粒之間的接觸勢壘。

發明內容

本發明的目的在于提供一種復合納米顆粒及其制備方法，旨在解決作為電子傳輸層材料的金屬氧化物納米顆粒之間存在接觸勢壘，影響材料電子遷移率的問題。

本發明的另一目的在于提供一種含有上述復合納米顆粒的發光器件。

為實現上述發明目的，本發明采用的技術方案如下：

一種復合納米顆粒，所述復合納米顆粒包含相互結合的金屬氧化物納米顆粒和金屬納米顆粒，其中，所述金屬氧化物納米顆粒表面結合有鹵化物陰離子，所述金屬納米顆粒表面結合有電正性表面修飾劑，且所述金屬氧化物納米顆粒和所述金屬納米顆粒通過所述鹵化物陰離子和所述電正性表面修飾劑之間的吸附作用相互結合。

相應的，一種復合納米顆粒的制備方法，包括以下步驟：

分別提供鹵化物陰離子修飾的金屬氧化物納米顆粒和電正性表面修飾劑修飾的金屬納米顆粒；

將所述鹵化物陰離子修飾的金屬氧化物納米顆粒和所述電正性表面修飾劑修飾的金屬納米顆粒溶于溶劑中，進行混合處理，制備得到復合納米顆粒。

以及，一種發光器件，包括陽極和陰極，以及設置在所述陽極和所述陰極之間的疊層，所述疊層包括電子傳輸層和發光層，所述電子傳輸層靠近所述陰極設置，且所述電子傳輸層的材料為上述的復合納米顆粒，或所述電子傳輸層的材料為上述方法制備的復合納米顆粒。