[發明專利]基板保持器、縱式基板輸送裝置以及基板處理裝置

在審

• 申請號: 201711472810.7
• 申請日: 2017-12-29
• 公開（公告）號: CN108300975A
• 公開（公告）日: 2018-07-20
• 發明（設計）人: 岡正;箱守宗人;織井雄一
• 申請（專利權）人: 株式會社愛發科
• 主分類號: C23C14/56
• 分類號: C23C14/56;C23C14/34;C23C14/50
• 代理公司: 北京路浩知識產權代理有限公司 11002
• 代理人: 張晶;謝順星

技術問題：提供一種能夠抑制微粒的產生并容易進行基板裝卸的基板保持器。解決手段：本發明的一個方式的基板保持器用于縱式基板輸送裝置，能夠以立起姿勢保持基板，所述基板保持器具備框體、和吸附部。上述框體具有在上述基板的厚度方向上與上述基板的周緣部相對的相對面。上述吸附部設置在上述相對面，且構成為能夠靜電吸附上述基板的周緣部的至少一部分。

技術領域

本發明涉及一種能夠以立起姿勢保持基板的基板保持器、和具備其的縱式基板輸送裝置以及真空處理裝置。

背景技術

近年來，廣泛使用有載體循環型的直列濺射裝置。這種直列濺射裝置已知以使基板橫臥的姿勢進行輸送的橫型(水平)輸送方式、和以使基板立起的姿勢進行輸送的縱式(垂直)輸送方式。相較于橫型輸送方式，縱式輸送方式具有的優點是：能夠將因基板大型化而導致的裝置設置面積的增加抑制在最小限度。

在縱式輸送裝置中，使用有以大致垂直的姿勢輸送基板的載體。對于載體，需要能夠穩定地保持基板姿勢的基板保持結構。例如在專利文獻1中，記載了一種利用設置在載體的開口部周緣的多個夾具保持基板的結構。另外，在專利文獻2中，公開了一種通過靜電吸附來吸附搭載在載體上的基板背面(非成膜面)，從而防止基板的翹曲的結構。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：WO2008/133139號公報

專利文獻2：日本專利公開2007-96056號公報

發明內容

(一)要解決的技術問題

然而，在專利文獻1的結構中，基板周邊的機械式夾持機構所產生的微粒(particle)可能會附著在基板上而造成成膜不良。另外，在專利文獻2所述的結構中，靜電吸附部設置在保持基板背面的內板上，因此存在基板對于載體的裝卸操作復雜的問題。

鑒于如上所述的問題，本發明的目的在于，提供一種能夠抑制微粒的產生并容易進行基板裝卸的基板保持器、和具備其的縱式基板輸送裝置以及基板處理裝置。

(二)技術方案

為了達成上述目的，本發明的一個方式的基板保持器用于縱式基板輸送裝置，能夠以立起姿勢保持基板，所述基板保持器具備：框體、和吸附部。

上述框體具有在上述基板的厚度方向上與上述基板的周緣部相對的相對面。

上述吸附部設置在上述相對面，且構成為能夠靜電吸附上述基板的周緣部的至少一部分。

上述基板保持器構成為通過在與基板的周緣部相對的框體的相對面上設置的吸附部而靜電性地吸附基板，因此，相較于使用夾持機構的基板保持結構，能夠抑制微粒的產生。

另外，吸附部設置在與基板的周緣部相對的框體的相對面上，因此至少將基板背面(非成膜面)維持在開放狀態。由此，通過對被開放的基板背面使用可以接近(access)的輸送機器人，能夠容易地進行基板對框體的裝卸。

上述框體也可以進一步具有框狀的掩膜部，該掩膜部劃定上述基板的成膜區域。在該情況下，上述相對面設置在與上述基板的周緣部相對的上述掩膜部的一部分上。

根據該結構，能夠通過掩膜部劃定基板的成膜區域，并保持基板的成膜面的周緣部。

上述吸附部也可以具有設置在上述相對面上的多個卡盤區域。上述多個卡盤區域分別含有卡盤用電極。

由此，能夠吸附基板的周緣部的多處，因此能夠穩定地保持基板。

上述基板保持器也可以進一步具備電源電路，該電源電路設置在上述框體，并能夠向上述多個卡盤區域供給電力。

由此，能夠不需要設置來自外部的電源供給線。