[發明專利]一種液晶顯示器基板及其制備方法

有效

• 申請號: 201711464038.4
• 申請日: 2017-12-28
• 公開（公告）號: CN108037602B
• 公開（公告）日: 2021-01-15
• 發明（設計）人: 吳玲;陳興武
• 申請（專利權）人: TCL華星光電技術有限公司
• 主分類號: G02F1/13
• 分類號: G02F1/13;G02F1/1337;C11D7/26;C11D7/50;C11D7/60
• 代理公司: 深圳匯智容達專利商標事務所(普通合伙) 44238
• 代理人: 潘中毅;熊賢卿

1.一種液晶顯示器基板的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

選定一基板；

采用由溶劑以及溶于所述溶劑中的清洗劑材料調配出具有一定配比關系的配向層材料對所選基板進行清洗，并待所選基板清洗完成后，經一定溫度烘烤一段時間，去除所選基板表面的溶劑，且進一步保留所述清洗劑材料錨定在所選基板表面；

在錨定有清洗劑材料的基板表面注入預定的液晶介質混合物，并經過一定處理后，使所述預定的液晶介質混合物中液晶出現傾倒，且進一步通過光照發生聚合反應使錨定的清洗劑材料以及液晶介質混合物中的自取向劑形成聚合物薄膜來固定所述出現傾倒的液晶的傾角；

其中，所述清洗劑材料所采用的化學分子結構包括設置于化學分子結構前端并具備錨定在所選基板表面來改善所選基板表面特性而增加所述預定的液晶介質混合物中液晶擴散性的前端基團以及設置于其化學分子結構后端并通過光照發生聚合反應形成所述聚合物薄膜來確保所述預定的液晶介質混合物中液晶具有穩定傾角的末端基團；

其中，所述清洗劑材料所采用化學分子結構上的前端基團為-OH、-COOH、-NH₂之其中的一種，所述清洗劑材料所采用化學分子結構上的末端基團為丙烯酸酯基、甲基丙烯酰酸酯基、乙烯基、乙烯氧基之其中的一種。

2.如權利要求1所述的液晶顯示器基板的制備方法，其特征在于，所述清洗劑材料所采用的化學分子結構至少為如下結構通式(1)中的一種；其中，結構通式(1)表示為：

R1-Sp1-[A1]m-Sp2-[A2]n–Sp3-Ra (1)；

其中，R1表示為前端基團；

其中，Sp1、Sp2及Sp3表示為碳數1～6的直鏈狀的亞烷基或亞烷基氧基、碳數1～6的支鏈狀的亞烷基或亞烷基氧基、或者直接鍵的碳數1～6，且Sp1、Sp2及Sp3三者的結構可相同或不同；其中，Sp1、Sp2及Sp3任意一個中末端的CH2均可用-OH、-COOH、-NH2之其一取代，且Sp1、Sp2及Sp3任意一個中除末端之外的CH2均可用-O-，-S-，-CO-，-CO-O-，-O-CO-，-O-CO-O-，-OCH2-，-CH2O-，-CH＝CH-，-CF＝CF-、碳三鍵之其一取代；

其中，A1及A2表示為苯環、芳環或環烷烴，且苯環、芳環或環烷烴之環上一個或多個H原子可用F、Cl、甲基、乙基取代；

其中，m及n表示為0或1；

其中，Ra表示為末端基團。

3.如權利要求2所述的液晶顯示器基板的制備方法，其特征在于，所述溶劑為水、二甲基亞砜、二氯甲烷、N-甲基吡咯烷酮、N-乙基吡咯烷酮、γ-己內酯、γ-丁內酯、二丙二醇二乙醚、乙二醇單丁醚、丙二醇單丁基醚、丙酮之其中的一種或多種。

4.如權利要求3所述的液晶顯示器基板的制備方法，其特征在于，所述配向層材料中溶劑與清洗劑材料的配比關系為97：3。

5.如權利要求4所述的液晶顯示器基板的制備方法，其特征在于，所述溶劑由47％的N-甲基吡咯烷酮、20％的二丙二醇二乙醚及30％乙二醇單丁醚組成；所述清洗劑材料由3％的β-丙酸組成。

6.如權利要求4所述的液晶顯示器基板的制備方法，其特征在于，所述溶劑由45％的N-乙基吡咯烷酮及52％的乙二醇單丁醚組成；所述清洗劑材料由3％的β-丙酸組成。

7.如權利要求5或6所述的液晶顯示器基板的制備方法，其特征在于，所述一定溫度位于60℃～150℃之間，所述烘烤時間位于1min～10min之間。

8.如權利要求7所述的液晶顯示器基板的制備方法，其特征在于，所選基板為TFT基板或CF基板。

9.一種液晶顯示器基板，其特征在于，其采用包括如權利要求1-8中任一項所述的液晶顯示器基板的制備方法制備而成。