[發(fā)明專利]雙面燒結(jié)卡具、壓接式IGBT模塊燒結(jié)方法及其制得的子模組在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201711462442.8 | 申請日: | 2017-12-28 |
| 公開(公告)號: | CN109979826A | 公開(公告)日: | 2019-07-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 王亮;武偉;林仲康;韓榮剛;石浩;田麗紛;唐新靈;李現(xiàn)兵;張朋;張喆 | 申請(專利權(quán))人: | 全球能源互聯(lián)網(wǎng)研究院有限公司;國網(wǎng)山東省電力公司電力科學(xué)研究院;國家電網(wǎng)公司 |
| 主分類號: | H01L21/50 | 分類號: | H01L21/50;H01L29/739;H01L21/67;H01L23/367 |
| 代理公司: | 北京安博達知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11271 | 代理人: | 徐國文 |
| 地址: | 102209 北京*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 燒結(jié) 卡具 雙面燒結(jié) 組裝 單芯片 燒結(jié)爐 子模組 焊片 壓片 制備 壓接式IGBT模塊 連續(xù)式真空 彈簧探針 對中問題 功率芯片 連接結(jié)構(gòu) 連續(xù)真空 燒結(jié)結(jié)構(gòu) 燒結(jié)芯片 塑料框架 可控制 上鉬片 下鉬片 限位銷 壓接式 時長 壓接 鉬片 壓制 芯片 | ||
本發(fā)明提供了一種功率芯片雙面燒結(jié)的壓接式IGBT模組的制備方法,該方法包括:從下至上將下鉬片、焊片、IGBT芯片、焊片和上鉬片組裝到燒結(jié)卡具中;組裝限位銷壓制壓片;用連續(xù)真空燒結(jié)爐燒結(jié)得單芯片燒結(jié)連接結(jié)構(gòu);從下至上依次組裝的塑料框架、彈簧探針和燒結(jié)結(jié)構(gòu),得所述單芯片壓接子模組。本發(fā)明提供的制備方法用連續(xù)式真空燒結(jié)爐,能夠大規(guī)模燒結(jié)芯片,極大地縮短了工序時長,效率高,速度快;本發(fā)明中提供的燒結(jié)方法采用的燒結(jié)卡具與壓片,解決了芯片與鉬片燒結(jié)后的對中問題,并且可以確保燒結(jié)后結(jié)構(gòu)的厚度差值可控制在8μm以下。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及壓接IGBT模塊封裝技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種功率芯片雙面燒結(jié)的壓接式IGBT模組及其制備方法。
背景技術(shù)
IGBT((Insulated Gate Bipolar Transistor))絕緣柵雙極型晶體管作為新一代全控型電力電子器件,成為了電力電子領(lǐng)域的主流器件,并且隨著電壓、電流參數(shù)迅速提高,目前已經(jīng)在工業(yè)領(lǐng)域、機車牽引、智能電網(wǎng)等領(lǐng)域迅速推廣。
與傳統(tǒng)焊接型IGBT模塊比,壓接IGBT模塊具有如下優(yōu)點:芯片布局更密集,模塊電流密度更高,易于實現(xiàn)大電流;芯片能雙面散熱,散熱迅速,可靠性高;大幅減少模塊內(nèi)部的引線和焊點,提高模塊整體可靠性;失效形式為“失效短路模式”,給出設(shè)計冗余條件下,大幅提高系統(tǒng)的可靠性;在柔性直流輸電、柔性交流輸電、定制電力園區(qū)、“全國聯(lián)網(wǎng)”工程、海上風(fēng)電接入、光伏接入等工程建設(shè)中具有廣泛的應(yīng)用。因此,壓接型IGBT器件逐漸在電網(wǎng)中成為主流器件,并在柔性直流輸電換流閥和直流斷路器中得到了大量應(yīng)用。
壓接IGBT中燒結(jié)模塊的引入解決了剛性電極壓接的IGBT器件中存在的接觸熱阻和接觸電阻大、電、熱性能及可靠性低等弊端,但現(xiàn)有的壓接IGBT,不能形成連續(xù)燒結(jié)工藝、缺少保證燒結(jié)高度一致性的輔助工具,從而導(dǎo)致了熱界面層致密性差、剪切強度低以及降低熱阻能力不足等缺陷。
因此,需要提供一種技術(shù)方案以滿足現(xiàn)有技術(shù)的需要。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種熱界面層致密性好、剪切強度高、降低熱阻能力強的芯片燒結(jié)結(jié)構(gòu)、壓接式IGBT模塊的制備方法,解決了現(xiàn)有技術(shù)中不能連續(xù)燒結(jié)以保證燒結(jié)高度一致性的缺陷。
為了達到上述目的,本發(fā)明提供了采用下述技術(shù)方案:
一種雙面燒結(jié)的壓接式IGBT子模組的制備方法,所述方法包括如下步驟:
(1)從下至上將下鉬片、焊片、IGBT芯片、焊片和上鉬片組裝到燒結(jié)卡具中;
(2)組裝限位銷壓制壓片;
(3)用連續(xù)真空燒結(jié)爐燒結(jié)得單芯片燒結(jié)連接結(jié)構(gòu);
(4)從下至上依次組裝的塑料框架、彈簧探針和燒結(jié)結(jié)構(gòu),得所述單芯片壓接子模組。
優(yōu)選的,所述鉬片的與芯片接觸的表面用真空離子濺射設(shè)備沉積了一層厚度為3~5μm的Ag膜。
優(yōu)選的,所述芯片雙面鍍3~5μm的Ag膜。
優(yōu)選的,所述焊片包括厚度為20μm~120μm的錫銀系低溫焊片。
優(yōu)選的,所述步驟(3)的燒結(jié)包括如下步驟:
A、以3~8℃/min的速率升溫至150~180℃,加1~2ml甲酸保溫5~10min;
B、在加熱至高于焊片熔點溫度10~30℃時保溫15~20min;
C、以30~50℃/min降溫速度冷卻至室溫。
如權(quán)利要求1所述方法所用燒結(jié)夾具,所述燒結(jié)工裝卡具包括留有限位孔的底板、與底板大小相同的壓片、均勻固定在底板上的定位銷和與限位孔相配合設(shè)置的限位銷。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





