[發(fā)明專利]單色結構光檢查微小顆粒的方法及設備

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• 申請日: 2017-12-28
• 公開（公告）號: CN108120665A
• 公開（公告）日: 2018-06-05
• 發(fā)明（設計）人: 王彩虹
• 申請（專利權）人: 無錫奧芬光電科技有限公司
• 主分類號: G01N15/10
• 分類號: G01N15/10
• 代理公司: 無錫市大為專利商標事務所(普通合伙) 32104
• 代理人: 殷紅梅;劉海

1.一種單色結構光檢查微小顆粒的設備，其特征是，包括：

承載系統(tǒng)（3），所述承載系統(tǒng)（3）用于承載并夾持待檢測樣品并能夠帶動待檢測樣品沿X軸移動以及水平轉動；

光學成像系統(tǒng)（4），所述光學成像系統(tǒng)（4）安裝于承載系統(tǒng)（3）上方，光學成像系統(tǒng)（4）用于對待檢測樣品進行放大成像檢測，并回傳檢測圖像；

光學照明系統(tǒng)（5），所述光學照明系統(tǒng)（5）位于光學成像系統(tǒng)（4）的一側，所述光學照明系統(tǒng)（5）包括光源（501）以及設置于所述光源（501）外部的具有特定圖形的光罩（502）；

控制系統(tǒng)（6），所述控制系統(tǒng)（6）與承載系統(tǒng)（3）連接，用于控制承載系統(tǒng)沿X軸移動和帶動待檢測樣品水平轉動；

以及，計算機系統(tǒng)（7），所述計算機系統(tǒng)（7）與光學成像系統(tǒng)（4）和控制系統(tǒng)（6）連接，用于對光學成像系統(tǒng)（4）回傳的檢測圖像進行處理，定量檢測凸起或凹陷；并用于輸出指令，使控制系統(tǒng)（6）控制承載系統(tǒng)（3）的動作。

2.如權利要求1所述的單色結構光檢查微小顆粒的設備，其特征是：還包括底座（1）和設置在底座（1）上的立柱（2）；所述承載系統(tǒng)（3）安裝在底座（1）上；所述光學成像系統(tǒng)（4）上下滑動式安裝于立柱（2）上。

3.如權利要求1所述的單色結構光檢查微小顆粒的設備，其特征是：所述光源（501）為單色結構光。

4.如權利要求1所述的單色結構光檢查微小顆粒的設備，其特征是：所述光罩（502）表面的特定圖形為條紋或是方格。

5.如權利要求1所述的單色結構光檢查微小顆粒的設備，其特征是：在所述光罩（502）前面放置聚光透鏡（503）。

6.如權利要求1所述的單色結構光檢查微小顆粒的設備，其特征是：所述光學成像系統(tǒng)（4）包括相機（401）、位于相機（401）下方的顯微筒鏡（402）以及設置于顯微筒鏡（402）底部的顯微物鏡（403）。

7.如權利要求1所述的單色結構光檢查微小顆粒的設備，其特征是：所述承載系統(tǒng)（3）包括X軸臺（301），該X軸臺（301）能夠沿X軸移動；在所述X軸臺（301）上面固定有一個旋轉臺（302），旋轉臺（302）上固定有一個承載臺（303），承載臺（303）上承載夾持待檢測樣品；所述X軸臺（301）和旋轉臺（302）分別與驅動設備連接，驅動設備連接控制系統(tǒng)（6）。

8.如權利要求1所述的單色結構光檢查微小顆粒的設備，其特征是：所述光學照明系統(tǒng)（5）與光學成像系統(tǒng)（4）形成一夾角。

9.如權利要求1所述的單色結構光檢查微小顆粒的設備，其特征是：所述相機（401）采用CCD或CMOS相機；所述顯微筒鏡（402）的放大倍數(shù)在1X到10X之間。

10.一種單色結構光檢查微小顆粒的方法，其特征是，包括以下步驟：

S1，將待檢測樣品放置在承載系統(tǒng)上，使顯微物鏡可以掃描整個待檢測樣品，打開光源，發(fā)射單色光；

S2，測量光罩表面微結構的尺寸，以及微結構在待檢測樣品表面投影結構的尺寸，算出投影結構的柵格寬度代表的尺寸；

S3，在計算機系統(tǒng)上得到待檢測樣品在相機上成的像，對圖像進行調焦，得到清晰的待檢測樣品表面圖像；

S4，分析檢測獲取的圖像信息，定量檢測凸起或凹陷的尺寸。