[發(fā)明專利]一種微蝕刻液的再生循環(huán)裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201711453755.7 | 申請日: | 2017-12-28 |
| 公開(公告)號: | CN109972141A | 公開(公告)日: | 2019-07-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 羅寶奎;陳永江 | 申請(專利權(quán))人: | 廣州市吉池環(huán)??萍加邢薰?/a> |
| 主分類號: | C23F1/46 | 分類號: | C23F1/46;C25C1/12 |
| 代理公司: | 北京君華知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11515 | 代理人: | 朱慶華 |
| 地址: | 510700 廣東省*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 微蝕刻 再生循環(huán)裝置 微蝕刻液 電解槽 廢液 連通 蝕刻廢液 調(diào)配槽 銅離子 環(huán)保型系統(tǒng) 再生蝕刻液 再生 電解銅板 調(diào)整參數(shù) 廢物排放 循環(huán)再生 直接電解 電沉積 電解液 高純 生產(chǎn)工藝 電解 廢氣 廢水 返回 封閉 | ||
1.一種微蝕刻液的再生循環(huán)裝置,包括與微蝕刻生產(chǎn)線連通的蝕刻廢液槽以及,用于輸送再生蝕刻液至微蝕刻生產(chǎn)線的再生調(diào)配槽;所述蝕刻廢液槽與電解槽連通,所述電解槽與所述再生調(diào)配槽連通。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微蝕刻液的再生循環(huán)裝置,其特征在于,所述再生循環(huán)裝置的微蝕刻生產(chǎn)線、蝕刻廢液槽、電解槽及再生調(diào)配槽之間通過管道連通,并通過高壓泵開關(guān)控制。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微蝕刻液的再生循環(huán)裝置,其特征在于,所述電解槽包括陽極和陰極,所述陰極為圓柱結(jié)構(gòu),所述圓柱結(jié)構(gòu)的中間穿過軸心固定一絕緣板。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的微蝕刻液的再生循環(huán)裝置,其特征在于,所述電解槽的陰極采用不銹鋼陰極板。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的微蝕刻液的再生循環(huán)裝置,其特征在于,所述不銹鋼陰極板的厚度為1-1.5mm。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的微蝕刻液的再生循環(huán)裝置,其特征在于,所述電解槽的陽極為鈦金屬材料。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的微蝕刻液的再生循環(huán)裝置,其特征在于,所述電解槽的陽極與陰極的半徑之比為4:1。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微蝕刻液的再生循環(huán)裝置,其特征在于,所述微蝕刻液的再生循環(huán)裝置還包括感應(yīng)器和PLC控制器,所述感應(yīng)器位于微蝕刻生產(chǎn)線上,將信號輸送至所述PLC控制器,所述PLC控制器通過控制高壓泵控制電解回收及再生調(diào)配槽。
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