[發(fā)明專利]一種真空大氣轉(zhuǎn)換腔的充氣裝置及充氣方法、真空濺射設(shè)備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201711447671.2 | 申請日: | 2017-12-27 |
| 公開(公告)號: | CN108588667B | 公開(公告)日: | 2020-10-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 黃秋平 | 申請(專利權(quán))人: | 深圳市華星光電技術(shù)有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/56 | 分類號: | C23C14/56;C23C14/34;F17C5/06;F17C13/02;F17C13/04 |
| 代理公司: | 深圳匯智容達(dá)專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙) 44238 | 代理人: | 孫威;潘中毅 |
| 地址: | 518000 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 真空 大氣 轉(zhuǎn)換 充氣 裝置 方法 濺射 設(shè)備 | ||
本發(fā)明公開了一種真空大氣轉(zhuǎn)換腔的充氣裝置,包括:第一充氣管路,第一充氣管路上設(shè)有第一閥體;第二充氣管路,第二充氣管路上設(shè)有第二閥體;壓力監(jiān)控判斷模塊;氧氣濃度監(jiān)控判斷模塊;以及控制模塊,其中:壓力監(jiān)控判斷模塊分別與真空大氣轉(zhuǎn)換腔和控制模塊相連,氧氣濃度監(jiān)控判斷模塊分別與真空大氣轉(zhuǎn)換腔和控制模塊相連,控制模塊分別與第一閥體和第二閥體相連。本發(fā)明還公開了一種真空大氣轉(zhuǎn)換腔的充氣方法和真空濺射設(shè)備。實(shí)施本發(fā)明的真空大氣轉(zhuǎn)換腔的充氣裝置及充氣方法、真空濺射設(shè)備,能夠?qū)Τ錃獾臍怏w進(jìn)行切換,在有效解決膜質(zhì)氧化問題的基礎(chǔ)上消除安全隱患。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及顯示面板制造領(lǐng)域,尤其涉及一種真空大氣轉(zhuǎn)換腔的充氣裝置及充氣方法、真空濺射設(shè)備。
背景技術(shù)
現(xiàn)有技術(shù)中,液晶顯示器具有低輻射、低功耗以及體積小等特點(diǎn),逐漸成為顯示器件的主流,廣泛應(yīng)用在手機(jī)、筆記本電腦、平板電視等產(chǎn)品上。隨著面板尺寸逐漸增加,像素分辨率要求提高,越來越多的生產(chǎn)線應(yīng)用更大型的真空濺射設(shè)備。一方面,該真空濺射設(shè)備具有大體積、高功率等特點(diǎn),以應(yīng)對更大尺寸的成膜需求。另一方面,各生產(chǎn)線產(chǎn)品對導(dǎo)電線阻抗降低的需求,直接引起濺射成膜厚度的增加,從而導(dǎo)致金屬膜溫度的急劇上升。
例如:現(xiàn)有的真空濺射成膜設(shè)備在濺射銅膜時,由相應(yīng)的測定溫度曲線可知,當(dāng)濺射銅膜厚度增加到800nm時,基板溫度最高上升到190攝氏度。由于基板溫度的增加,極易引起所鍍膜的氧化以及由溫度引起的不均勻等各種問題,從而影響所成膜的膜質(zhì),降低設(shè)備的性能。
另一方面,為了解決氧化問題,現(xiàn)有技術(shù)是引入非氧化性氣體進(jìn)行充氣,但在設(shè)備進(jìn)行保養(yǎng)切換時,又存在容易導(dǎo)致檢測人員窒息的安全隱患。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題在于,提供一種真空大氣轉(zhuǎn)換腔的充氣裝置及充氣方法、真空濺射設(shè)備,能夠?qū)Τ錃獾臍怏w進(jìn)行切換,在有效解決膜質(zhì)氧化問題的基礎(chǔ)上消除安全隱患。
為了解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明實(shí)施例提供了一種真空大氣轉(zhuǎn)換腔的充氣裝置,包括:接入真空大氣轉(zhuǎn)換腔中的第一充氣管路,第一充氣管路上設(shè)有第一閥體;接入真空大氣轉(zhuǎn)換腔中的第二充氣管路,第二充氣管路上設(shè)有第二閥體;用以判斷真空大氣轉(zhuǎn)換腔中的氣體壓力值是否達(dá)到預(yù)設(shè)值的壓力監(jiān)控判斷模塊;用以判斷真空大氣轉(zhuǎn)換腔中的氧氣濃度值是否達(dá)到預(yù)設(shè)值的氧氣濃度監(jiān)控判斷模塊;以及用以根據(jù)壓力監(jiān)控判斷模塊或氧氣濃度監(jiān)控判斷模塊得出的判斷信號,控制第一閥體和/或第二閥體的開啟或關(guān)閉的控制模塊,其中:壓力監(jiān)控判斷模塊分別與真空大氣轉(zhuǎn)換腔和控制模塊相連,氧氣濃度監(jiān)控判斷模塊分別與真空大氣轉(zhuǎn)換腔和控制模塊相連,控制模塊分別與第一閥體和第二閥體相連;其中,控制模塊接收充氣信號,其控制打開第一閥體,關(guān)閉第二閥體,通過第一充氣管路向真空大氣轉(zhuǎn)換腔中充入非氧化性氣體;當(dāng)壓力監(jiān)控判斷模塊判斷真空大氣轉(zhuǎn)換腔中的氣體壓力值達(dá)到預(yù)設(shè)值時,控制模塊控制關(guān)閉第一閥體,打開第二閥體,通過第二充氣管路向真空大氣轉(zhuǎn)換腔中充入含有氧化性氣體的氣體;當(dāng)氧氣濃度監(jiān)控判斷模塊判斷真空大氣轉(zhuǎn)換腔中的氧氣濃度值是否達(dá)到預(yù)設(shè)值時,控制模塊控制關(guān)閉第二閥體。
其中,第一充氣管路充入的氣體為氮?dú)猓诙錃夤苈烦淙氲臍怏w為壓縮空氣。
其中,還包括:與控制模塊相連的用以向控制模塊發(fā)送充氣信號的計時器和/或壓力器。
其中,壓力監(jiān)控判斷模塊至少包括壓力計,氧氣濃度監(jiān)控判斷模塊至少包括氧氣濃度計。
為解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明還公開了一種真空濺射設(shè)備,包括:進(jìn)片腔室、與進(jìn)片腔室相連的真空大氣轉(zhuǎn)換腔、與真空大氣轉(zhuǎn)換腔相連的加熱腔室以及與加熱腔室相連的至少一個成膜腔室,真空大氣轉(zhuǎn)換腔包括上述的真空大氣轉(zhuǎn)換腔的充氣裝置。
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C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
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