[發明專利]一種高通量共沉淀合成裝置

有效

• 申請號: 201711446857.6
• 申請日: 2017-12-27
• 公開（公告）號: CN108176336B
• 公開（公告）日: 2020-06-09
• 發明（設計）人: 王學軍;李帥
• 申請（專利權）人: 王學軍;李帥
• 主分類號: B01J19/08
• 分類號: B01J19/08;B01J4/02;B01J4/00
• 代理公司: 北京眾達德權知識產權代理有限公司 11570
• 代理人: 劉杰

1.一種高通量共沉淀合成裝置，其特征在于，包括：

主體框架；

二軸機械手，設置在所述主體框架上，相對所述主體框架實現橫向和豎向移動；

試劑分配模塊，固定在所述二軸機械手上，通過所述二軸機械手實現試劑分配模塊的橫向和豎向移動，用于實驗試劑的定位投送；

液體泵，設置在所述主體框架上，與所述試劑分配模塊相連，控制實驗試劑的添加；

試劑儲存模塊，所述試劑儲存模塊設置在所述主體框架上，用于存儲實驗試劑；

共沉淀反應模塊，所述共沉淀反應模塊設置在所述主體框架上，用于容置實驗試劑反應；

中央控制系統，所述中央控制系統分別與所述二軸機械手以及所述液體泵相連；

其中，所述二軸機械手包括：X軸系統、懸臂以及Z軸系統；

所述X軸系統設置在所述主體框架上；

所述懸臂固定在所述X軸系統的移動端上；

所述Z軸系統固定在所述懸臂上；

所述試劑分配模塊固定在所述Z軸系統的移動端上；

所述X軸系統以及所述Z軸系統分別與所述中央控制系統相連；

所述試劑分配模塊包括：固定支架以及設置在其上的分配針組；

所述分配針組通過輸液管與所述液體泵相連；

所述固定支架固定在所述Z軸系統的移動端上；

其中，所述分配針組包括：針管、用作所述針管的夾具的針卡以及針管加熱器；

所述針管固定在所述針卡上，并與所述液體泵相連；

所述針管加熱器固定在所述針卡上，并所述中央控制系統相連；

所述針卡固定在所述固定支架上。

2.如權利要求1所述的高通量共沉淀合成裝置，其特征在于，所述共沉淀反應模塊包括：頂蓋結構、底座結構、加熱結構以及電磁攪拌結構；

所述底座結構包括：底座以及設置在所述底座內的反應釜；

所述頂蓋結構固定在所述底座上，并設置與所述針管對應的注液口，用于向所述反應釜投加實驗試劑；

所述加熱結構固定在所述底座底端，并與所述中央控制系統相連，用于加熱反應釜；

所述電磁攪拌結構設置在所述底座下方與所述底座固定相連，并與所述中央控制系統相連，用于攪拌反應釜內的實驗試劑。

3.如權利要求2所述的高通量共沉淀合成裝置，其特征在于，所述頂蓋結構包括：頂蓋、頂蓋隔熱墊以及冷卻系統；

所述注液口設置在所述頂蓋上，位于所述反應釜上方；

所述冷卻系統嵌于所述頂蓋的底端面內，并與所述中央控制系統相連，用于冷凝所述反應釜內上升的蒸汽；

所述頂蓋隔熱墊設置在所述頂蓋的底端面上，用于隔絕所述底座結構的熱量；

其中，所述冷卻系統包括：冷卻管；

所述冷卻管固定在所述頂蓋底端面內，位于所述反應釜正上方，并與所述中央控制系統相連；

所述頂蓋隔熱墊上開設與所述反應釜的釜口匹配的孔；

所述注液口連通所述頂蓋隔熱墊開設的孔，并錯開所述冷卻管分布在所述頂蓋上。

4.如權利要求3所述的高通量共沉淀合成裝置，其特征在于，所述加熱結構包括：加熱墊；

所述加熱墊設置在所述底座的底端，并與所述中央控制系統相連，用于通過加熱所述底座間接加熱所述反應釜。

5.如權利要求3所述的高通量共沉淀合成裝置，其特征在于，所述加熱結構包括：油浴結構；

所述油浴結構設置在所述底座內，用于對反應釜油浴加熱。

6.如權利要求3或4所述的高通量共沉淀合成裝置，其特征在于，所述試劑儲存模塊為多個，用于盛裝不同實驗試劑；

所述試劑儲存模塊包括：蓋板、盲管以及儲存箱體；

所述蓋板上開設與所述分配針組內的針管的位置對應的多個蓋板通孔，用于針管進入吸取實驗試劑；

其中，在一個所述試劑儲存模塊中，一個所述蓋板通孔與所述儲存箱體連通，其余所述蓋板通孔與固定在所述蓋板底端面上的盲孔連通。