[發明專利]一種柔性空間用三結太陽電池減反射膜制備方法

有效

• 申請號: 201711441256.6
• 申請日: 2017-12-27
• 公開（公告）號: CN108336179B
• 公開（公告）日: 2020-03-27
• 發明（設計）人: 孫希鵬;李曉東;鐵劍銳;杜永超;梁存寶;王鑫
• 申請（專利權）人: 中國電子科技集團公司第十八研究所;天津恒電空間電源有限公司
• 主分類號: H01L31/18
• 分類號: H01L31/18;H01L31/0216
• 代理公司: 北京國昊天誠知識產權代理有限公司 11315
• 代理人: 劉昕

1.一種柔性空間用三結太陽電池減反射膜制備方法，其特征在于：在常溫下，采用電子束熱蒸發和離子源輔助沉積相結合的方法在所述太陽電池表面沉積所述減反射膜，所述離子源輔助沉積的離子源為MarkⅡ型霍爾離子源，所述霍爾離子源的陽極加速電壓為150V～180V，輔助粒子束流為5A～6A。

2.根據權利要求1所述柔性空間用三結太陽電池減反射膜制備方法，其特征在于：所述減反射膜包括TiO_x薄膜和SiO₂薄膜。

3.根據權利要求2所述柔性空間用三結太陽電池減反射膜制備方法，其特征在于：所述TiO_x薄膜的沉積速率為0.3nm/s～0.45nm/s，沉積厚度為50nm～55nm；所述SiO₂薄膜的沉積速率為0.55nm/s～0.75nm/s，沉積厚度為88nm～95nm。

4.根據權利要求3所述柔性空間用三結太陽電池減反射膜制備方法，其特征在于：所述TiO_x薄膜沉積時的蒸發源材料是底面直徑為1cm、高為1cm的圓柱形材料；所述SiO₂薄膜沉積時的蒸發源材料是直徑為2mm～4mm的顆粒。

5.根據權利要求4所述柔性空間用三結太陽電池減反射膜制備方法，其特征在于：所述減反射膜的沉積在真空度達到10^-3Pa以下的真空環境下進行，充入的工作氣體使所述真空環境的氣壓范圍在1×10^-2Pa～3×10^-2Pa之間。

6.一種使用如權利要求5所述制備方法制備的柔性空間用三結太陽電池減反射膜，其特征在于：依次包括折射率范圍為2.20～2.25的TiO_x薄膜和折射率范圍為1.44～1.46的SiO₂薄膜。

7.根據權利要求6所述柔性空間用三結太陽電池減反射膜，其特征在于：所述TiO_x薄膜的厚度為53nm；所述SiO₂薄膜的厚度為90nm。