[發明專利]二噁英采樣濾膜的超聲波清洗設備

在審

• 申請號: 201711437335.X
• 申請日: 2017-12-26
• 公開（公告）號: CN108014647A
• 公開（公告）日: 2018-05-11
• 發明（設計）人: 甘佳俊;陳硯;董寧
• 申請（專利權）人: 蘇州市華測檢測技術有限公司
• 主分類號: B01D65/02
• 分類號: B01D65/02
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種二噁英采樣濾膜的超聲波清洗設備，包括：儲液槽、清洗槽及霧化槽，其特征在于，所述清洗槽內設有若干相互獨立的子清洗槽，每個子清洗槽內均設有超聲波清洗設備，所述儲液槽內裝設有清洗液，所述清洗液為丙酮和甲苯，且所述儲液槽與每個所述子清洗槽均連通，所述清洗槽還設有可進入每個所述子清洗槽的攜帶有二噁英采樣濾膜的滑動機構，每個所述子清洗槽均與所述霧化槽連通，所述霧化槽連接大型實驗儀器，所述滑動機構上還設有升降機構，二噁英采樣濾膜設于所述升降機構上，所述升降機構用于執行二噁英采樣濾膜的提升或降落動作，所述升降機構包括兩相對設置的安裝板，而二噁英采樣濾膜設于兩所述安裝板之間；

每個所述子清洗槽上方均設有用于讓所述升降機構進入的入口，且每個子清洗槽內位于所述入口正下方處還設有密封板，所述密封板一端安裝于帶有復位彈簧的轉軸上，當所述升降機構通過所述入口進入所述子清洗槽時，所述密封板可被旋轉一個角度打開，而當所述升降機構通過所述入口離開所述子清洗槽時，所述密封板通過所述復位彈簧重新對所述入口進行密封。

2.如權利要求1所述的二噁英采樣濾膜的超聲波清洗設備，其特征在于，所述滑動機構設于所述清洗槽上方，并可在每個子清洗槽上方滑動，所述清洗槽的上方兩側分別設有兩沿所述子清洗槽排列方向布設的導軌，所述滑動機構包括步進電機、絲杠、龍門架、滑塊，所述龍門架通過所述滑塊滑動地設于所述導軌上，所述步進電機通過所述絲杠驅動所述龍門架在所述導軌上往復運動，所述升降機構設于所述龍門架上。

3.如權利要求2所述的二噁英采樣濾膜的超聲波清洗設備，其特征在于，所述龍門架包括橫梁和支柱，所述支柱上設有豎直方向的長槽，所述升降機構沿所述長槽做提升或降落動作。

4.如權利要求1-3任一項所述的二噁英采樣濾膜的超聲波清洗設備，每個所述子清洗槽與所述霧化槽連通之前，先進入一緩沖槽，所述緩沖槽設于所述清洗槽底部。

5.如權利要求4所述的二噁英采樣濾膜的超聲波清洗設備，其特征在于，所述霧化槽底部設有霧化片及加熱裝置。

6.如權利要求5所述的二噁英采樣濾膜的超聲波清洗設備，其特征在于，所述儲液槽與每個所述子清洗槽之間分別設有電磁閥Ⅰ，所述緩沖槽與所述霧化槽之間設有電磁閥Ⅱ。

7.如權利要求6的二噁英采樣濾膜的超聲波清洗設備，其特征在于，還包括控制裝置，所述超聲波清洗設備、滑動機構、升降機構、霧化片、加熱裝置、電磁閥Ⅰ及電磁閥Ⅱ均與所述控制裝置連接，所述控制裝置控制所述滑動機構滑動的距離，控制所述升降機構攜帶二噁英采樣濾膜提升或者降落，控制所述超聲波清洗設備的工作頻率和運行時間，控制所述霧化片的啟動或停止，控制所述加熱裝置的加熱功率，控制每個所述電磁閥Ⅰ及電磁閥Ⅱ的開啟或關閉。

8.如權利要求1的二噁英采樣濾膜的超聲波清洗設備，其特征在于，所述升降機構還包括有一水平板，兩所述安裝板吊裝于所述水平板下方，而所述水平板四周均設有硅膠凸臺，當所述升降機構進入所述子清洗槽時，所述硅膠凸臺對所述入口處于過盈配合而對所述入口進行密封。