[發(fā)明專利]一種實(shí)現(xiàn)化學(xué)鍍鎳鍍層均勻性的裝置及方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201711436810.1
• 申請(qǐng)日: 2017-12-26
• 公開（公告）號(hào): CN107955941B
• 公開（公告）日: 2020-06-23
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 季宏飛;趙永;徐小敏;吳曉偉;周楊
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 合肥恒力裝備有限公司
• 主分類號(hào): C23C18/32
• 分類號(hào): C23C18/32;C23F13/02
• 代理公司: 合肥天明專利事務(wù)所(普通合伙) 34115
• 代理人: 金凱

本發(fā)明涉及一種實(shí)現(xiàn)化學(xué)鍍鎳鍍層均勻性的裝置及方法，包括化學(xué)鍍鎳槽，所述化學(xué)鍍鎳槽外側(cè)設(shè)置有自動(dòng)加藥設(shè)備，所述自動(dòng)加藥設(shè)備的加藥管設(shè)置于化學(xué)鍍鎳槽的側(cè)壁，所述化學(xué)鍍鎳槽內(nèi)設(shè)置有攪拌器；方法包括以下步驟：a.化學(xué)鍍鎳槽配好渡液后，啟動(dòng)攪拌器，啟動(dòng)過濾泵；b.化學(xué)鍍鎳槽槽壁設(shè)置陽(yáng)極保護(hù)裝置；c.將工件送入化學(xué)鍍鎳槽工作區(qū)，開始鍍鎳，同時(shí)啟動(dòng)自動(dòng)加藥設(shè)備維持鍍液的主鹽的濃度。本發(fā)明可以提供化學(xué)鍍鎳槽內(nèi)溫度、濃度均勻性，使化學(xué)鍍鎳溶液各組分的濃度維持在正常的工藝范圍，從而實(shí)現(xiàn)化學(xué)鍍鎳鍍層均勻性。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及化學(xué)鍍鎳領(lǐng)域，特別涉及一種實(shí)現(xiàn)化學(xué)鍍鎳鍍層均勻性的裝置及方法。

背景技術(shù)

化學(xué)鍍鎳是采用無(wú)電解鍍鎳方法，經(jīng)過自催化氧化還原反應(yīng)在工件表面析出Ni-P或Ni-B合成鍍層的工藝。這一過程與置換鍍不同，其鍍層可以不斷增厚，在鍍層不斷增厚的過程中，由于化學(xué)鍍鎳槽中渡液各處的鎳離子濃度不均勻，鎳離子就會(huì)不均勻的附著在工件表面由此對(duì)產(chǎn)品質(zhì)量產(chǎn)生影響。另外，化學(xué)鍍鎳槽中的鎳離子不斷被消耗，當(dāng)鎳離子濃度低于一定程度時(shí)，自催化氧化還原反應(yīng)進(jìn)行緩慢，工件表面的鍍鎳層厚度與均勻度便會(huì)受到影響。此外鍍液溫度的不均勻也影響鍍鎳層的均勻度，另一方面，化學(xué)鍍鎳槽中的鎳離子會(huì)不斷在槽壁結(jié)晶附著，這也會(huì)對(duì)化學(xué)鍍鎳槽中的鎳離子濃度產(chǎn)生影響。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于提供一種提高化學(xué)鍍鎳槽內(nèi)溶液溫度及濃度均勻性從而實(shí)現(xiàn)化學(xué)鍍鎳鍍層均勻性的裝置及方法。

為實(shí)現(xiàn)以上目的，本發(fā)明采用的技術(shù)方案為：一種實(shí)現(xiàn)化學(xué)鍍鎳鍍層均勻性的裝置，包括化學(xué)鍍鎳槽，所述化學(xué)鍍鎳槽外側(cè)設(shè)置有自動(dòng)加藥設(shè)備，所述自動(dòng)加藥設(shè)備的加藥管設(shè)置于化學(xué)鍍鎳槽的側(cè)壁，所述化學(xué)鍍鎳槽內(nèi)設(shè)置有攪拌器。

所述化學(xué)鍍鎳槽兩側(cè)槽壁設(shè)置陽(yáng)極保護(hù)裝置，所述化學(xué)鍍鎳槽渡液中設(shè)置呈對(duì)角線布置的四根陰極保護(hù)桿。

所述自動(dòng)加藥設(shè)備包括設(shè)置于化學(xué)鍍鎳槽側(cè)壁的鎳離子濃度檢測(cè)系統(tǒng)，所述鎳離子濃度檢測(cè)系統(tǒng)通過置于鍍液中的取樣管采集鎳離子濃度信息并傳至自動(dòng)加藥設(shè)備上的PLC控制系統(tǒng)，所述PLC控制系統(tǒng)控制自動(dòng)加藥設(shè)備上的加藥泵向化學(xué)鍍鎳槽加藥。

所述化學(xué)鍍鎳槽設(shè)有隔板，所述隔板將化學(xué)鍍鎳槽分為工作區(qū)和加熱區(qū)，所述攪拌器位于加熱區(qū)，所述隔板下部設(shè)有孔，所述孔聯(lián)通工作區(qū)和加熱區(qū)。

所述化學(xué)鍍鎳槽外設(shè)有過濾器和過濾泵，所述化學(xué)鍍鎳槽上設(shè)有進(jìn)液口和出液口，所述進(jìn)液口、過濾泵、過濾器和出液口通過管路依次連接。

所述進(jìn)液口位于化學(xué)鍍鎳槽底部中心，所述出液口位于化學(xué)鍍鎳槽底部?jī)蓚?cè)。

所述加藥泵為蠕動(dòng)泵。

一種實(shí)現(xiàn)化學(xué)鍍鎳鍍層均勻性的方法，包括以下步驟：

a.化學(xué)鍍鎳槽配好渡液后，啟動(dòng)攪拌器，攪拌加熱區(qū)底部的鍍液，使鍍液通過隔板下部設(shè)置的孔進(jìn)入工作區(qū)底部，再?gòu)墓ぷ鲄^(qū)底部翻涌至上部，使化學(xué)鍍鎳槽中溫度、濃度均勻，同時(shí)啟動(dòng)過濾泵，鍍液經(jīng)過過濾泵在化學(xué)鍍鎳槽中循環(huán)，進(jìn)一步使化學(xué)鍍鎳槽中鍍液溫度、濃度均勻；

b.在化學(xué)鍍鎳槽槽壁兩側(cè)添加陽(yáng)極保護(hù)裝置，鍍液中插入陰極保護(hù)桿，并通電，鎳離子在電場(chǎng)作用下往陰極保護(hù)桿方向移動(dòng)，陰極保護(hù)桿的表面積遠(yuǎn)小于化學(xué)鍍鎳槽槽壁的表面積，可有效阻止鎳離子的在槽壁上結(jié)晶附著；

c.將工件送入化學(xué)鍍鎳槽工作區(qū)，開始鍍鎳，同時(shí)啟動(dòng)自動(dòng)加藥設(shè)備，鎳離子濃度檢測(cè)系統(tǒng)通過置于鍍液中的取樣管采集鎳離子濃度信息并傳至自動(dòng)加藥設(shè)備上的PLC控制系統(tǒng)，所述PLC控制系統(tǒng)控制自動(dòng)加藥設(shè)備上的加藥泵向化學(xué)鍍鎳槽加藥，使化學(xué)鍍鎳溶液各組分的濃度維持在正常的工藝范圍。