[發明專利]基于雙路入射光的投影式光固化成形裝置

有效

• 申請號: 201711434605.1
• 申請日: 2017-12-26
• 公開（公告）號: CN107932910B
• 公開（公告）日: 2022-12-20
• 發明（設計）人: 汪延成;王越;梅德慶;薛岱
• 申請（專利權）人: 浙江大學
• 主分類號: B29C64/277
• 分類號: B29C64/277;B29C64/20;B29C64/129;B33Y10/00;B33Y30/00
• 代理公司: 杭州求是專利事務所有限公司 33200
• 代理人: 林超

1.一種基于雙路入射光的投影式光固化成形裝置，其特征在于：包括第一入射光源(1)、第一光路準直匯聚模塊(2)、第二入射光源(3)、第二光路準直匯聚模塊(4)、可調式平面反光鏡(5)、DMD芯片(6)和成像透鏡(7)；成像透鏡(7)布置在可調式平面反光鏡(5)的一側方且位于同一水平面，DMD芯片(6)布置在成像透鏡(7)上方，由第二入射光源(3)和第二光路準直匯聚模塊(4)組成的第二入射光組件以及由第一入射光源(1)和第一光路準直匯聚模塊(2)組成的第一入射光組件布置在可調式平面反光鏡(5)的另一側方及其上方；

所述的可調式平面反光鏡(5)繞垂直于光路所在平面的旋轉軸在兩個不同角度位置之間旋轉切換，兩個不同角度位置分別對應于第一入射光組件和第二入射光組件的入射光路；

所述的第一入射光源(1)和第二入射光源(3)各發出一路光源，分別經第一光路準直匯聚模塊(2)、第二光路準直匯聚模塊(4)后入射到可調式平面反光鏡(5)上，經可調式平面反光鏡(5)反射到DMD芯片(6)，經DMD芯片(6)調制輸出帶有光源波段信息和圖案信息的光束后經成像透鏡(7)照射到光敏材料上；第一入射光源(1)和第二入射光源(3)的光源經可調式平面反光鏡(5)反射后均沿著相同的光路投射到DMD芯片(6)上。

2.根據權利要求1所述的一種基于雙路入射光的投影式光固化成形裝置，其特征在于：所述的可調式平面反光鏡(5)安裝在可調式平面反光鏡固定環(8)中。

3.根據權利要求1所述的一種基于雙路入射光的投影式光固化成形裝置，其特征在于：所述的DMD芯片(6)內部的微棱鏡加載有用于投影的含有預設圖案的動態掩模圖案信息，經由DMD芯片(6)反射后產生含有光源波段信息和動態掩模圖案信息相結合的光束，接著光束通過成像透鏡(7)后將含有光源波段信息和動態掩模圖案信息相結合的光束投影照射到液態光敏材料上，使光敏材料按動態掩模圖案信息中預設圖案固化。

4.根據權利要求1所述的一種基于雙路入射光的投影式光固化成形裝置，其特征在于：所述的第一光路準直匯聚模塊(2)和第二光路準直匯聚模塊(4)結構相同。

5.根據權利要求1所述的一種基于雙路入射光的投影式光固化成形裝置，其特征在于：所述的第一光路準直匯聚模塊(2)和第二光路準直匯聚模塊(4)包含沿光軸前進方向依次布置的一個勻光棒以及由兩個透鏡構成的一組透鏡組。

6.根據權利要求3所述的一種基于雙路入射光的投影式光固化成形裝置，其特征在于：所述的光敏材料為聚乙二醇二丙烯酸酯或者環氧樹脂。