[發(fā)明專利]光分解型配向膜的制作方法、液晶顯示面板和顯示裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201711433256.1 | 申請日: | 2014-06-27 |
| 公開(公告)號: | CN108181764A | 公開(公告)日: | 2018-06-19 |
| 發(fā)明(設計)人: | 柴慧平;袁永;柳晨;單文澤 | 申請(專利權)人: | 上海天馬微電子有限公司;天馬微電子股份有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1337 | 分類號: | G02F1/1337 |
| 代理公司: | 北京同達信恒知識產(chǎn)權代理有限公司 11291 | 代理人: | 黃志華 |
| 地址: | 201201 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光分解型 配向膜 非聚合物 清洗劑 液晶顯示面板 分解產(chǎn)物 顯示裝置 制作 基板 清洗 配向膜材料 配向材料 偏光處理 配向 偏光 去除 分解 | ||
1.一種光分解型配向膜的制作方法,其特征在于,包括:
步驟a、對涂布有光分解型配向膜材料的基板進行紫外偏光處理,所述光分解型配向材料分解成分解產(chǎn)物,其中,所述分解產(chǎn)物包括至少一種非聚合物;
步驟b、采用清洗劑對紫外偏光后的基板進行清洗,去除所述非聚合物,形成光分解型配向膜;
其中,所述采用清洗劑對紫外偏光后的基板進行清洗,具體為:采用清洗劑對紫外偏光后的基板進行線性噴射清洗,所述線性噴射的方向與基板上光分解型配向膜的配向方向一致;
所述采用清洗劑對紫外偏光后的基板進行線性噴射清洗,具體為:
采用清洗劑對紫外偏光后的基板進行線性噴射清洗,所述基板處于傳送狀態(tài),所述基板的傳送方向和所述清洗劑的線性噴射方向相反。
2.如權利要求1所述的制作方法,其特征在于,在步驟b之后,還包括:
采用風刀吹干所述光分解型配向膜;或,采用液體清洗所述光分解型配向膜。
3.如權利要求2所述的制作方法,其特征在于,所述風刀的烘干溫度范圍為15~100℃。
4.如權利要求1所述的制作方法,其特征在于,當所述非聚合物為極性分子時,所述清洗劑為非質(zhì)子極性有機溶劑;
當所述非聚合物為非極性分子時,所述清洗劑為非極性有機溶劑;
當所述非聚合物包括極性分子和非極性分子時,所述清洗劑為包括非質(zhì)子極性有機溶劑和非極性有機溶劑的混合溶劑。
5.如權利要求4所述的制作方法,其特征在于,當所述非聚合物為極性分子時,所述清洗劑為極性大于4的非質(zhì)子極性有機溶劑。
6.如權利要求4所述的制作方法,其特征在于,所述非質(zhì)子極性有機溶劑為強揮發(fā)性的極性有機溶劑。
7.如權利要求4所述的制作方法,其特征在于,所述非質(zhì)子極性有機溶劑包括甲苯、丙酮、氯仿、甲基乙基酮和苯胺中的一種或幾種;所述非極性有機溶劑包括正戊烷和正己烷中的一種或幾種。
8.如權利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述步驟a包括:
在所述基板上涂布光分解型配向材料;
對涂布有所述光分解型配向材料的基板進行預烘烤處理,去除光分解型配向材料中的溶劑;
對預烘烤處理后的基板進行紫外偏光處理,所述光分解型配向材料分解成分解產(chǎn)物。
9.如權利要求8所述的制作方法,其特征在于,所述對涂布有光分解型配向材料的基板進行預烘烤處理之后,還包括:
對預烘烤處理后的基板進行二次烘烤處理,用于去除所述光分解型配向材料中的溶劑。
10.如權利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述采用清洗劑對紫外偏光后的基板進行清洗,具體為:在15~80℃的溫度條件內(nèi)采用清洗劑對紫外偏光后的基板進行清洗。
11.一種液晶顯示面板,其特征在于,包括第一基板、第二基板,以及位于所述第一基板和所述第二基板之間的液晶層,其中,所述第一基板和/或所述第二基板朝向所述液晶層的一側(cè)表面具有配向膜,所述配向膜采用如權利要求1~10任一項所述的光分解型配向膜的制作方法得到。
12.一種顯示裝置,其特征在于,包括背光模組,以及如權利要求11所述的液晶顯示面板;其中,所述的液晶顯示面板位于所述背光模組的出光側(cè)。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術或工藝;變頻;非線性光學;光學
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導結(jié)構中的





