[發明專利]微透鏡陣列、光學檢測裝置及微透鏡陣列制備方法

在審

• 申請號: 201711429305.4
• 申請日: 2017-12-26
• 公開（公告）號: CN108051876A
• 公開（公告）日: 2018-05-18
• 發明（設計）人: 楊慧;張翊
• 申請（專利權）人: 深圳先進技術研究院
• 主分類號: G02B3/00
• 分類號: G02B3/00;G01N21/01
• 代理公司: 廣州三環專利商標代理有限公司 44202
• 代理人: 郝傳鑫;熊永強

1.一種微透鏡陣列，其特征在于，包括：基底，設于所述基底上的微井陣列，所述微井陣列包括多個微井，以及位于所述微井中的微球透鏡；其中，所述基底由光學透明材料制成，所述微井陣列由疏水性材料制成。

2.一種光學檢測裝置，用于檢測納米物體，其特征在于，包括：微流體器件、微透鏡陣列、光源和光檢測元件；其中，所述微流體器件包括相對設置的頂壁和底壁以及位于所述頂壁與所述底壁之間的微流體通道，所述微透鏡陣列位于所述底壁的一個表面上，所述底壁由光學透明材料制成，所述光源設于所述底壁背離所述微透鏡陣列的表面對向所述微透鏡陣列的所在區域，所述光源的光照使所述微流體通道中形成光子納米噴流區域；所述光檢測元件接收所述光子納米噴流區域的光以檢測位于所述光子噴流區域內的納米物體。

3.如權利要求2所述的光學檢測裝置，其特征在于，所述光學檢測裝置包括移動部，所述移動部用于使所述微透鏡陣列相對所述頂壁移動。

4.如權利要求2所述的光學檢測裝置，其特征在于，所述微透鏡陣列的微球透鏡通過靜電吸附固定于所述微球透鏡的微井中。

5.如權利要求4所述的光學檢測裝置，其特征在于，所述微井與所述微球透鏡的尺寸相同，每一個所述微井中組裝一個所述微球透鏡。

6.如權利要求5所述的光學檢測裝置，其特征在于，所述微透鏡陣列中微球透鏡的表面到所述頂壁的距離大于所述光子納米噴流區域垂直于所述底壁方向上的尺寸。

7.如權利要求2所述的光學檢測裝置，其特征在于，所述光源包括白光光源、熒光光源或激光光源中的一種。

8.如權利要求2所述的光學檢測裝置，其特征在于，所述光檢測元件包括電荷耦合器件相機、光譜儀、互補金屬氧化物半導體傳感器、光電倍增管器件或光子雪崩二極管中的一種。

9.一種微透鏡陣列的制備方法，其特征在于，包括：

提供一基底，所述基底由光學透明材料制成；

在所述基底上形成疏水層；

將所述疏水層加工成包括多個微井的微井陣列；

在每一所述微井中組裝微球透鏡。

10.如權利要求9所述的光學檢測裝置，其特征在于，在將所述疏水層加工成包括多個微井的微井陣列的過程中，通過光刻、蒸鍍或等離子體刻蝕中的一種方法來加工微井。