[發(fā)明專利]一種表面梯度薄膜的制備方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201711416464.0
• 申請日: 2017-12-25
• 公開（公告）號: CN108179384B
• 公開（公告）日: 2020-08-18
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 樸鐘宇;周振宇;鄭秋陽;周仁澤;余光磊
• 申請（專利權(quán)）人: 浙江工業(yè)大學(xué)
• 主分類號: C23C14/30
• 分類號: C23C14/30;C23C14/28;C23C14/04;C23C14/58
• 代理公司: 杭州斯可睿專利事務(wù)所有限公司 33241
• 代理人: 王利強;李百玲

1.一種表面梯度薄膜的制備方法，其特征在于：包括表面梯度薄膜制備裝置，所述表面梯度薄膜制備裝置包括：

實現(xiàn)真空、容納所有部件的真空腔室；

用于放置并輻射靶材的源；

分別控制的、與源數(shù)量匹配的位于源前可實現(xiàn)部分遮蓋的遮板；

用于沉積薄膜的基質(zhì)；

置于基質(zhì)背側(cè)、用于加熱的加熱裝置；

所述制備方法還包括以下步驟：

首先將真空腔室抽真空，源內(nèi)的靶材通過坩堝加熱或電子束加熱氣化，成為離散態(tài)的微觀粒子，向四周擴散；在經(jīng)過遮板位置時，部分微觀粒子會被遮擋，通過調(diào)節(jié)遮板的大小、方向來控制經(jīng)過的微觀粒子的含量和擴散的主次方向；通過調(diào)控源內(nèi)靶材的摩爾比，保證沉積到基質(zhì)上薄膜各點厚度的均勻；

至少采用兩個源，遮板可以自由調(diào)整遮罩角度，使各個方向源的輻射強度不同，在被遮罩面到未遮罩面形成線性梯度，或者遮板在制備過程中保持轉(zhuǎn)動，使各個方向源的輻射強度均勻；若遮板遮蓋區(qū)域大小不變，則制備出梯度在有限范圍內(nèi)變化的梯度薄膜，梯度仍遵循線性變化；若控制遮蓋區(qū)域勻速變化，則通過勻速規(guī)律移動基質(zhì)，在基質(zhì)表面形成0％～100％多組分橫向梯度變化的薄膜；通過控制基質(zhì)按規(guī)律移動，在基質(zhì)的不同部位進行薄膜加工，最后通過加熱裝置給基質(zhì)加熱進行退火晶化處理。