[發明專利]用XRF分析層狀樣品有效
| 申請號： | 201711396608.0 | 申請日： | 2017-12-21 |
| 公開（公告）號： | CN108226201B | 公開（公告）日： | 2021-07-27 |
| 發明（設計）人： | 阿曼德·約恩克;賈斯蒂娜·維德梅爾 | 申請（專利權）人： | 馬爾文帕納科公司 |
| 主分類號： | G01N23/223 | 分類號： | G01N23/223 |
| 代理公司： | 北京安信方達知識產權代理有限公司 11262 | 代理人： | 艾娟;鄭霞 |
| 地址： | 荷蘭阿*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | xrf 分析 層狀 樣品 | ||
1.一種進行層狀樣品的X射線熒光XRF測量的方法，所述層狀樣品包括第一主要表面、第二主要表面以及在所述第一主要表面和所述第二主要表面之間的至少第一層和第二層，所述方法包括：
進行穿過所述第一主要表面的第一X射線測量，以獲得對應于第一元素的第一XRF線的第一X射線強度值(I1)；
進行穿過所述第二主要表面的第二X射線測量，以獲得對應于所述第一元素的所述第一XRF線的第二X射線強度值(I2)；以及
由所述第一X射線強度值(I1)和所述第二X射線強度值(I2)計算選自層參數的至少兩個分析參數，所述層參數包括：
所述第一層中的所述第一元素的濃度(C1)；
所述第二層中的所述第一元素的濃度(C2)；
所述第一層的密度(d1)；
所述第二層的密度(d2)；
所述第一層的厚度(t1)；以及
所述第二層的厚度(t2)，
其中計算選自所述層參數的所述至少兩個分析參數是迭代過程，所述迭代過程包括：
(i)除了所述至少兩個分析參數之外，對所述層參數的每個采取假定的值或已知的值；
(ii)除了至少一個分析參數之外，假定所述分析參數的值，并且由X射線強度值以及所述假定的值和所述已知的值來計算所述至少一個分析參數的分析的值；以及
對于所述分析參數的每個和所述第一X射線強度值和所述第二X射線強度值中的至少一個重復步驟(ii)，用先前獲得的所述分析參數的分析的值替換所述分析參數的所述假定的值，直到所述分析參數的所述分析的值收斂。
2.根據權利要求1所述的方法，其中在進行所述第一X射線測量的步驟之后，在進行所述第二X射線測量之前，將所述層狀樣品倒置。
3.根據權利要求1所述的方法，其中所述第一X射線測量包括測量相應的XRF線的至少兩個X射線強度值，并且所述第二X射線測量包括測量相應的XRF線的至少兩個X射線強度值，導致至少四個X射線強度值。
4.根據權利要求3所述的方法，包括由所述至少四個X射線強度值計算至少三個分析參數。
5.根據權利要求3所述的方法，包括計算與測量的X射線強度值相同數目的分析參數。
6.根據權利要求1至5中任一項所述的方法，其中計算選自所述層參數的所述至少兩個分析參數包括：
(a)除了第一分析參數之外，對所述層參數的每個采取假定的值或已知的值，包括第二分析參數的假定的值，并且由所述第一X射線強度值(I1)以及所述假定的值和所述已知的值來計算所述第一分析參數的分析的值；
(b)除了所述第二分析參數之外，對所述層參數的每個采取假定的值或已知的值，包括所述第一分析參數的假定的值，并且由所述第二X射線強度值(I2)以及所述假定的值和所述已知的值來計算所述第二分析參數的分析的值；
(c)用所述第二分析參數的所述分析的值替換所述第二分析參數的所述假定的值，并且由所述第一X射線強度值(I1)、所述假定的值和所述已知的值、以及所述第二分析參數的所述分析的值重新計算所述第一分析參數的分析的值；
(d)用所述第一分析參數的所述分析的值替換所述第一分析參數的所述假定的值，并且由所述第二X射線強度值(I2)、所述假定的值和所述已知的值、以及所述第一分析參數的所述分析的值重新計算所述第二分析參數的分析的值；以及
重復步驟(c)和步驟(d)，直到所述第一分析參數的所述分析的值和所述第二分析參數的所述分析的值收斂至所述第一分析參數的收斂的值和所述第二分析參數的收斂的值，并且輸出所述第一分析參數的所述收斂的值和所述第二分析參數的所述收斂的值。
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