[發(fā)明專利]一種激光空化輔助掩膜電解加工裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201711395429.5 | 申請日： | 2017-12-21 |
| 公開（公告）號： | CN108127201A | 公開（公告）日： | 2018-06-08 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 劉桂賢;黃榕;張永俊;陳瑩怡;陳龍 | 申請（專利權(quán)）人： | 廣東工業(yè)大學(xué) |
| 主分類號： | B23H3/00 | 分類號： | B23H3/00;B23H9/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227 | 代理人： | 羅滿 |
| 地址： | 510006 廣東省*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 空化 工件陽極 陰極模板 電解液 鈍化膜 掩膜板 絕緣 電解加工裝置 激光發(fā)射部件 待加工孔 輔助掩膜 激光空化 聚光透鏡 透光部件 分束器 去除 沖擊加工 從上到下 電解產(chǎn)物 對齊設(shè)置 激光誘導(dǎo) 流體沖擊 密封空間 高能量 加工區(qū) 微流體 分光 排出 通孔 填充 誘導(dǎo) 激光 發(fā)射 流動 | ||
1.一種激光空化輔助掩膜電解加工裝置，其特征在于，包括從上到下設(shè)置的激光發(fā)射部件、分束器、聚光透鏡、透光部件、陰極模板和絕緣掩膜板，所述絕緣掩膜板設(shè)置在所述陰極模板底部，且與所述陰極模板的通孔對應(yīng)設(shè)置，工件陽極設(shè)置在所述絕緣掩膜板底部，所述透光部件、所述工件陽極和所述透光部件形成密封空間，所述密封空間內(nèi)填充有電解液，所述激光發(fā)射部件發(fā)射的激光經(jīng)所述分束器分光后，由所述聚光透鏡在分束后的所述激光經(jīng)所述透光部件、所述陰極模板通孔，在所述工件陽極的待加工孔的正上方的電解液中聚集并誘導(dǎo)形成空化泡，所述空化泡潰滅形成的流體沖擊并去除所述待加工孔內(nèi)的鈍化膜。
2.如權(quán)利要求1所述激光空化輔助掩膜電解加工裝置，其特征在于，所述激光發(fā)射部件為半導(dǎo)體激光器或激光器。
3.如權(quán)利要求2所述激光空化輔助掩膜電解加工裝置，其特征在于，所述激光發(fā)射部件為激光器陣列。
4.如權(quán)利要求3所述激光空化輔助掩膜電解加工裝置，其特征在于，所述分束器為衍射分束器。
5.如權(quán)利要求4所述激光空化輔助掩膜電解加工裝置，其特征在于，所述衍射分束器的光軸與所述聚光透鏡的光軸同軸。
6.如權(quán)利要求5所述激光空化輔助掩膜電解加工裝置，其特征在于，還包括設(shè)置在所述聚光透鏡與所述透光部件之間的高度調(diào)節(jié)裝置，用于調(diào)節(jié)所述聚光透鏡與所述透光部件之間的距離。
7.如權(quán)利要求6所述激光空化輔助掩膜電解加工裝置，其特征在于，所述激光發(fā)射部件、所述分束器、所述聚光透鏡為一體式結(jié)構(gòu)。
8.如權(quán)利要1-7任意一項所述激光空化輔助掩膜電解加工裝置，其特征在于，所述陰極模板上表面與所述工件陽極的上表面的間距為10mm～50mm。
9.如權(quán)利要求8所述激光空化輔助掩膜電解加工裝置，其特征在于，還包括與所述激光發(fā)射部件連接的功率控制部件，用于控制所述激光發(fā)射部件的發(fā)射功率。
10.如權(quán)利要求9所述激光空化輔助掩膜電解加工裝置，其特征在于，所述透光部件為石英玻璃。
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