[發(fā)明專利]一種聲學(xué)黑洞減振降噪裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201711383734.2
• 申請(qǐng)日: 2017-12-20
• 公開（公告）號(hào): CN108133700B
• 公開（公告）日: 2020-09-25
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 季宏麗;王小東;裘進(jìn)浩;黃薇;韓冰
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 南京航空航天大學(xué)
• 主分類號(hào): G10K11/16
• 分類號(hào): G10K11/16;G10K11/172;F16F15/02
• 代理公司: 北京高沃律師事務(wù)所 11569
• 代理人: 王戈

1.一種聲學(xué)黑洞減振降噪裝置，其特征在于，所述減振降噪裝置設(shè)置在被降噪結(jié)構(gòu)上，所述減振降噪裝置包括圓盤形結(jié)構(gòu)，所述圓盤形結(jié)構(gòu)的上、下表面之間的距離從所述圓盤形結(jié)構(gòu)的中軸線向外邊緣逐漸減小變化，所述圓盤形結(jié)構(gòu)包括黑洞區(qū)域，所述黑洞區(qū)域的上、下表面之間的距離從中軸線向外邊緣方向呈冪指數(shù)形式變化；

所述減振降噪裝置還包括連接環(huán)，所述連接環(huán)設(shè)置于圓盤形結(jié)構(gòu)的下表面，用于連接所述圓盤形結(jié)構(gòu)與所述被降噪結(jié)構(gòu)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種聲學(xué)黑洞減振降噪裝置，其特征在于，所述圓盤形結(jié)構(gòu)還包括均勻區(qū)域，所述均勻區(qū)域設(shè)置于所述圓盤形結(jié)構(gòu)的中軸線位置并位于所述黑洞區(qū)域的內(nèi)側(cè)，與所述黑洞區(qū)域相連通，所述均勻區(qū)域的上、下表面之間的距離不變，并且等于所述黑洞區(qū)域的上、下表面之間的最大距離。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種聲學(xué)黑洞減振降噪裝置，其特征在于，所述圓盤形結(jié)構(gòu)還包括延伸區(qū)域，所述延伸區(qū)域設(shè)置于所述圓盤形結(jié)構(gòu)的外邊緣位置，并位于所述黑洞區(qū)域的外側(cè)，與所述黑洞區(qū)域相連通，所述延伸區(qū)域的上下表面之間的距離不變，并且等于所述黑洞區(qū)域的上、下表面之間的最小距離。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種聲學(xué)黑洞減振降噪裝置，其特征在于，所述圓盤形結(jié)構(gòu)的下表面的中軸線位置設(shè)置有空腔，所述圓盤形結(jié)構(gòu)的上表面上開設(shè)有與所述空腔連通的通孔，所述通孔和所述空腔形成聲共振腔。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種聲學(xué)黑洞減振降噪裝置，其特征在于，所述空腔為圓柱形空腔。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種聲學(xué)黑洞減振降噪裝置，其特征在于，所述減振降噪裝置還包括圓環(huán)形阻尼墊片，所述圓環(huán)形阻尼墊片的外徑與所述圓盤形結(jié)構(gòu)的外徑相同，所述圓環(huán)形阻尼墊片粘附于所述圓盤形結(jié)構(gòu)的下表面。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種聲學(xué)黑洞減振降噪裝置，其特征在于，所述連接環(huán)的材料為吸振吸聲材料。