[發明專利]采用立方圖紋理的圖形處理有效
| 申請號: | 201711382658.3 | 申請日: | 2017-12-20 |
| 公開(公告)號: | CN108230435B | 公開(公告)日: | 2023-06-20 |
| 發明(設計)人: | 姜錫 | 申請(專利權)人: | 三星電子株式會社 |
| 主分類號: | G06T15/04 | 分類號: | G06T15/04;G06T15/08;G06T15/00 |
| 代理公司: | 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112 | 代理人: | 張帆;張青 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 采用 立方 紋理 圖形 處理 | ||
本發明提供了一種確定用于紋理化立方圖的細節級別的方法和設備。當像素分別對應于立方圖的不同面時,所述方法和設備用于轉換表示立方圖上的對象的邊界點的像素坐標。通過使用轉換后的坐標,可計算邊界像素之間的距離。基于所計算的距離,可確定用于紋理化像素的立方圖的細節級別。
相關申請的交叉引用
本申請要求于2016年12月20日提交至韓國知識產權局的韓國專利申請No.10-2016-0174769的優先權,該申請全部內容以引用方式并入本文中。
技術領域
本公開總體上涉及圖形處理,更具體地涉及一種包括確定用于紋理化立方圖的細節級別(LOD)的圖形處理。
背景技術
紋理化或“紋理映射”用于在三維(3D)圖形系統中獲得更真實的圖像。在圖形處理語義中,“紋理”通常指2D圖像。利用紋理化,將二維(2D)紋理圖像定義在3D對象的表面上,從而將紋理應用于3D對象的表面上。紋素(texel)(也被稱為紋理元素)是紋理圖的基本單元。紋理代表紋素的陣列,類似于由像素的陣列在屏幕空間表示的圖像。
當在3D圖形流水線處理中將3D空間中的對象表面映射到2D屏幕空間的像素時,計算每一個具有對應于對象表面的紋理坐標的紋素。因此可執行在像素和紋素之間的紋理映射。
立方映射是指將3D環境的圖像映射到設置在該環境內的立方圖(虛擬立方體)上的方法。假定在3D空間中的視點處于立方體中心,并且通過虛擬觀察者從該視點觀看周圍的環境。將3D環境的圖像映射到六個立方體面中的每一個,以產生具有立方體展開的外觀的“天空盒(skybox)”,其中六個立方體面圖像在各自的方格中可見。
發明內容
提供一種方法和設備,用于確定用于紋理化立方圖的細節級別(LOD)。
其他方面將在下面的描述中部分地闡述,并且部分地將通過描述顯而易見,或可通過實踐所提出的實施例來習得。
根據實施例,一種確定用于紋理化立方圖的細節級別(LOD)的方法包括確定表示立方圖上的對象的邊界點的像素的坐標。當所述像素中至少第一像素和第二像素分別對應于所述立方圖的不同面時,轉換所述像素中的至少一個像素的坐標。可通過使用轉換后的坐標計算所述立方圖上所述像素之間的距離。基于所計算的距離,可確定用于紋理化像素的立方圖的LOD。
轉換步驟可包括基于對應于所述像素中的參考像素的面的原點和坐標軸轉換所述像素中的另一像素的坐標。
轉換步驟可包括基于坐標轉換表轉換像素的坐標,坐標轉換表包括關于像素的坐標所要求的轉換操作的信息。
可基于距離計算像素的導數,并且LOD可基于所述導數。
立方圖可以是包括具有歸一化尺寸的六個正方形面的立方紋理。
轉換步驟可包括基于屏幕空間中所述像素的方向向量確定至少所述第一像素和所述第二像素是否分別對應于立方圖的不同面。
根據另一實施例的一方面,一種確定用于紋理化立方圖的細節級別(LOD)的設備包括:存儲器,其存儲計算機可執行指令;以及處理器,其通過執行計算機可執行指令確定相鄰像素在立方圖上的坐標,當像素分別對應于立方圖的不同面時,轉換像素中的至少一個像素的坐標,通過使用轉換后的坐標計算像素在立方圖上的導數,并且基于所計算的導數,確定用于紋理化像素上的立方圖的LOD。
根據另一實施例的一方面,提供一種其上記錄有程序的非暫時性計算機可讀記錄介質,所述程序用于實現確定用于紋理化立方圖的LOD的方法。
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