[發明專利]一種基于連續磁控濺射的顏色膜成型方法

在審

• 申請號: 201711366603.3
• 申請日: 2017-12-18
• 公開（公告）號: CN108118298A
• 公開（公告）日: 2018-06-05
• 發明（設計）人: 吳衛鋒;劉勇;熊正茂;唐響
• 申請（專利權）人: 池州市正彩電子科技有限公司
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34;C23C14/02;C23C14/08;C23C14/14
• 代理公司: 合肥中博知信知識產權代理有限公司 34142
• 代理人: 張加寬

本發明涉及磁控濺射成膜技術，具體涉及一種基于連續磁控濺射的顏色膜成型方法，包括在待鍍基材表面濺鍍形成一層或多層金屬膜層，然后在最外層的金屬膜層表面加鍍一層或多層反應膜層，或，先在待鍍基材表面濺鍍形成一層或多層反應膜層，然后在最外層的反應膜層表面加鍍一層或多層金屬膜層；所述的反應膜層由真空腔體內濺射的金屬靶材與反應性氣體反應并沉積而成；其中，金屬膜層的厚度為5～35nm，可見光平均反射率為20～75％，所述反應性氣體的通入量為30～80ml/min；本發明提供的顏色膜的成型方法，通過金屬膜層與反應膜層的相互配合，實現了多種顏色膜的制備，鍍膜工藝穩定、簡單，無需過多的提高反應膜層的厚度即可獲得較高亮度的鍍膜。

技術領域

本發明涉及磁控濺射成膜技術，具體涉及一種基于連續磁控濺射的顏色膜成型方法。

背景技術

濺射沉積是在真空環境下，利用等離子體中的荷能離子轟擊靶材表面，使靶材上的原子或離子被轟擊出來，被轟擊出的粒子沉積在基體表面生長成薄膜。磁控濺射因其沉積速度快、濺射所獲得的薄膜純度高、致密性好，成膜均勻性好的優點，自問世后就獲得了迅速的發展和廣泛的應用，有力地沖擊了其他鍍膜方法的地位；

一般來說，金屬靶材是什么顏色，成膜后就是什么顏色。常見的如濺鍍鋁得到鍍鋁亮白色，濺鍍黃銅形成亮黃色標志；或者在金屬濺射過程中通入反應氣體(如氧氣、氮氣)，沉積為反應膜，并且，反應膜的厚度不同時所呈現出的顏色也是不同的，因此可以通過改變反應膜的厚度加工得到不同顏色的顏色膜。也可以直接濺鍍氧化物靶材(如二氧化硅靶材、二氧化鈦靶材)來生成不同顏色的顏色膜，但是，對于反應膜來說，只有達到一定厚度時的膜層才能得到足夠的顏色深度及亮度，而磁控濺射多層反應膜時對設備的真空度和濺射沉積膜層速率的要求都比較高，低配置的鍍膜設備很難鍍制氧化物靶材或比較厚的氣體反應膜層，因此，濺射多層氣體反應膜的成本投入比較高，針對規模較小的公司，難以大批量的投入生產。

發明內容

針對現有技術中的問題，本發明目的在于提供一種顏色膜的成型方法，制備工藝簡單，成本投入較低，且成型的顏色膜具有較高的反射率。

為了實現上述目的，本發明采用以下技術方案予以實現：

一種基于連續磁控濺射的顏色膜成型方法，包括在待鍍基材表面濺鍍形成一層或多層金屬膜層，然后在最外層的金屬膜層表面加鍍一層或多層反應膜層，

或，先在待鍍基材表面濺鍍形成一層或多層反應膜層，然后在最外層的反應膜層表面加鍍一層或多層金屬膜層；

所述的反應膜層由真空腔體內濺射的金屬靶材與反應性氣體反應并沉積而成；其中，金屬膜層的厚度為5～35nm，可見光平均反射率為20～75％，所述反應性氣體的通入量為30～80ml/min。

現有技術中，在待鍍基材表面濺射沉積反應膜時，需要使反應膜層達到一定厚度才能呈現出較深的反光顏色和反射亮度。而濺射較厚反應膜層對設備的要求較高，導致濺射沉積膜層的成本上升。

本發明通過在待鍍基材表面濺鍍形成一層或多層金屬膜層，然后在最外層的金屬膜層表面加鍍一層或多層反應膜層，或，先在待鍍基材表面濺鍍形成一層或多層反應膜層，然后在最外層的反應膜層表面加鍍一層或多層金屬膜層，利用金屬膜層對光線的反射效果，及金屬膜層與反應膜層厚度改變時對光線的影響，呈現出合乎要求的鍍膜顏色及亮度。從而避免了傳統的通過增加反應膜層厚度的方式帶來的成本上升。

金屬膜層的作用在于實現光線的反射，所述金屬膜層的厚度為5～35nm，其可見光平均反射率為20～75％，通過金屬膜層的設置，僅需要設置薄薄的一層反應膜層即可得到較高的顏色亮度。