[發明專利]光掩膜承載盒以及光掩膜裝置的承載及清潔方法在審
| 申請號: | 201711348626.1 | 申請日: | 2017-12-15 |
| 公開(公告)號: | CN109932866A | 公開(公告)日: | 2019-06-25 |
| 發明(設計)人: | 劉子漢;林重宏;溫志偉 | 申請(專利權)人: | 臺灣積體電路制造股份有限公司 |
| 主分類號: | G03F1/66 | 分類號: | G03F1/66;G03F1/82 |
| 代理公司: | 南京正聯知識產權代理有限公司 32243 | 代理人: | 顧伯興 |
| 地址: | 中國臺灣新竹科*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光掩膜 容置空間 殼體 承載盒 抽氣裝置 進氣孔 承載 清潔氣體 裝置設置 清潔 抽氣口 抽氣 配置 | ||
1.一種光掩膜承載盒,用以承載光掩膜裝置,其特征在于,包括:
殼體,包括容置空間、進氣孔以及抽氣口,所述光掩膜裝置設置于所述容置空間內,且所述進氣孔經配置以將清潔氣體注入所述殼體的所述容置空間內;以及
抽氣裝置,設置于所述殼體上并對應所述抽氣口,以對所述容置空間進行抽氣。
2.根據權利要求1所述的光掩膜承載盒,所述抽氣裝置包括螺旋式泵。
3.根據權利要求1所述的光掩膜承載盒,所述殼體更包括把手部,凸出于所述殼體,所述抽氣口設置于所述把手部上并連通所述容置空間。
4.根據權利要求3所述的光掩膜承載盒,所述殼體包括彼此固定的上殼體以及下殼體,以共同定義出所述容置空間,所述進氣孔設置于所述下殼體上,且所述把手部設置于所述上殼體上。
5.根據權利要求1所述的光掩膜承載盒,所述光掩膜裝置包括極紫外光掩膜。
6.根據權利要求1所述的光掩膜承載盒,更包括抽氣開關,設置于所述殼體并用以覆蓋或暴露所述抽氣口。
7.根據權利要求6所述的光掩膜承載盒,所述抽氣開關包括:
驅動件,穿過所述殼體并凸出于所述殼體的外表面;以及
阻擋件,設置于所述殼體的內表面并連接所述驅動件,以受所述驅動件的帶動而移動于暴露所述抽氣口的開啟位置以及覆蓋所述抽氣口的關閉位置之間。
8.一種光掩膜裝置的承載及清潔方法,包括:
提供一光掩膜承載盒,其中所述光掩膜承載盒包括一殼體以及一抽氣裝置;
將一光掩膜裝置設置于所述殼體內;
注入一清潔氣體至所述殼體內;以及
以所述抽氣裝置對所述殼體內部進行抽氣,以使所述清潔氣體充滿所述殼體。
9.根據權利要求8所述的光掩膜裝置的承載及清潔方法,其中當所述光掩膜裝置設置于所述殼體內時,所述抽氣裝置以一第一速率運轉。
10.根據權利要9所述的光掩膜裝置的承載及清潔方法,還包括:
將所述光掩膜裝置自所述光掩膜承載盒內移出,其中所述光掩膜裝置自所述光掩膜承載盒內移出之后,所述抽氣裝置以所述第二速率運轉,且所述第一速率小于所述第二速率。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準或測試的特殊涂層或標記;其制備





