[發明專利]光學成像系統

有效

• 申請號: 201711346388.0
• 申請日: 2017-12-15
• 公開（公告）號: CN108267841B
• 公開（公告）日: 2020-01-31
• 發明（設計）人: 張永明;賴建勛;劉耀維
• 申請（專利權）人: 先進光電科技股份有限公司
• 主分類號: G02B13/00
• 分類號: G02B13/00;G02B13/14
• 代理公司: 31237 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙)
• 代理人: 智云

1.一種光學成像系統，其特征在于，由物側至像側依次包括：

一第一透鏡，具有正屈折力；

一第二透鏡，具有負屈折力；

一第三透鏡，具有正屈折力；

一第四透鏡，具有負屈折力；

一第一成像面，其為一特定垂直于光軸的可見光像平面并且其中心視場于第一空間頻率的離焦調制轉換對比轉移率有最大值；以及

一第二成像面，其為一特定垂直于光軸的紅外光像平面并且其中心視場于第一空間頻率的離焦調制轉換對比轉移率有最大值；

其中所述光學成像系統具有屈折力的透鏡為四枚，所述第一透鏡至所述第四透鏡的焦距分別為f1、f2、f3、f4，所述光學成像系統的焦距為f，所述光學成像系統的入射光瞳直徑為HEP，所述第一透鏡物側面至所述第一成像面于光軸上具有一距離HOS，所述第一透鏡物側面至所述第四透鏡像側面于光軸上具有一距離InTL，所述光學成像系統的最大可視角度的一半為HAF，所述光學成像系統于所述第一成像面上垂直于光軸具有一最大成像高度HOI，所述第一成像面與所述第二成像面間于光軸上的距離為FS；所述第一透鏡、所述第二透鏡、所述第三透鏡以及所述第四透鏡于1/2HEP高度且平行于光軸的厚度分別為ETP1、ETP2、ETP3以及ETP4，前述ETP1至ETP4的總和為SETP，所述第一透鏡、所述第二透鏡、所述第三透鏡以及所述第四透鏡于光軸的厚度分別為TP1、TP2、TP3以及TP4，前述TP1至TP4的總和為STP，其滿足下列條件：1.4≦f/HEP≦1.8；44.0113deg≦HAF≦44.04deg；0.880≦SETP/STP≦0.929以及│FS│≦5μm。

2.如權利要求1所述的光學成像系統，其特征在于，所述紅外光的波長介于700nm至1300nm以及所述第一空間頻率以SP1表示，其滿足下列條件：SP1≦440cycles/mm。

3.如權利要求1所述的光學成像系統，其特征在于，所述第一透鏡物側面上于1/2HEP高度的坐標點至所述第一成像面間平行于光軸的水平距離為ETL，所述第一透鏡物側面上于1/2HEP高度的坐標點至所述第四透鏡像側面上于1/2HEP高度的坐標點間平行于光軸的水平距離為EIN，其滿足下列條件：0.694≦EIN/ETL≦0.717。

4.如權利要求1所述的光學成像系統，其特征在于，所述第一透鏡至所述第四透鏡中的至少二枚透鏡的每一枚透鏡的至少一表面具有至少一反曲點。

5.如權利要求1所述的光學成像系統，其特征在于，所述光學成像系統滿足下列條件：1.59470≦HOS/HOI≦1.62170。

6.如權利要求1所述的光學成像系統，其特征在于，所述第一透鏡于1/2HEP高度且平行于光軸的厚度為ETP1，所述第二透鏡于1/2HEP高度且平行于光軸的厚度為ETP2，所述第三透鏡于1/2HEP高度且平行于光軸的厚度為ETP3，所述第四透鏡于1/2HEP高度且平行于光軸的厚度為ETP4，前述ETP1至ETP4的總和為SETP，所述第一透鏡物側面上于1/2HEP高度的坐標點至所述第四透鏡像側面上于1/2HEP高度的坐標點間平行于光軸的水平距離為EIN，其滿足下列公式：0.704≦SETP/EIN≦0.758。

7.如權利要求1所述的光學成像系統，其特征在于，所述第三透鏡像側面上于1/2HEP高度的坐標點至所述第一成像面間平行于光軸的水平距離為EBL，所述第四透鏡像側面上與光軸的交點至所述第一成像面平行于光軸的水平距離為BL，其滿足下列公式：0.8024≦EBL/BL≦0.9601。

8.如權利要求1所述的光學成像系統，其特征在于，還包括一光圈，所述光圈至所述第一成像面于光軸上具有一距離InS，其滿足下列公式：0.9817≦InS/HOS≦0.99167。