[發明專利]一種采用交替電流剝離制備石墨烯的方法有效
| 申請號: | 201711335782.4 | 申請日: | 2017-12-14 |
| 公開(公告)號: | CN108117065B | 公開(公告)日: | 2020-04-17 |
| 發明(設計)人: | 毋偉;朱碧馨;田杰;黃曉惠;吳賽 | 申請(專利權)人: | 北京化工大學 |
| 主分類號: | C01B32/19 | 分類號: | C01B32/19 |
| 代理公司: | 北京思海天達知識產權代理有限公司 11203 | 代理人: | 張立改 |
| 地址: | 100029 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 采用 交替 電流 剝離 制備 石墨 方法 | ||
一種采用交替電流剝離制備石墨烯的方法,屬于石墨烯的制備領域。具體步驟如下:1.配制一定濃度的電解質溶液;2.以高純石墨板為陰陽電極,固定極板間距,通過定時交換電極的方式在電解液中循環剝離;3.一定時間后完成剝離,取出電極,對電解液抽濾洗滌;4.取固體超聲分散均勻,離心后上清液即為石墨烯。本方法操作過程簡便,易于大批量制備氧化程度低的石墨烯。通過交替電極的剝離方法可以在陽極剝離石墨烯后,即時采用陰極電流還原,制備出的石墨烯氧化程度低,缺陷較小。調節合適的交替頻率后可以制備出特定片徑尺寸(100納米至幾微米)的石墨烯,單層和雙層率高達80%以上,在生物制藥和復合材料中具有更廣泛的用途。
技術領域
本發明屬于石墨烯的制備領域,具體地說涉及一種采用交替電流剝離石墨烯的制備方法。
背景技術
石墨烯是由碳原子通過sp2雜化形成的六元環晶格結構材料,2004年首次由英國科學家Andre Geim和Konstantin Novoselov利用膠帶剝離石墨制得。單層的石墨烯很薄,厚度只有一個原子層,約為0.335nm,卻是世界上已知的強度最大的材料,其強度高達130GP。石墨烯比表面積的理論值約為2600m2/g,室溫熱導率達到了(5.3±0.48)×103W·m-1·K-1,斷裂強度和楊氏模量分別高達40N/m和1.0TPa,具有良好的導電、導熱和力學性能。優異的性能決定了石墨烯在許多領域都有廣闊的應用前景,例如,超級電容器、電化學傳感器、場效應晶體管、微生物燃料電池、染料敏化太陽能電池等,從而引發了科學界對它的研究熱潮。
鑒于石墨烯光明的應用前景,如何低成本制備出質量高、可應用的石墨烯是現階段科學家面臨的一個重要的研究內容。目前使用的主要方法有化學法和電化學法,下面具體介紹各種剝離方法及其優缺點。
化學法主要包括機械剝離法、氧化石墨還原法、化學氣相沉積法(CVD)和外延生長法等。機械剝離法是采用一定的機械力作用于石墨材料,將石墨烯從中剝離出來的方法。缺點是制備的偶然性大,產品石墨烯尺寸不一且產量低,不能實現石墨烯的大面積和規?;苽洌に嚭唵?、樣品的質量高,適合用于實驗室基礎研究。氧化石墨還原法是采用強酸、強氧化物作用或者熱處理天然石墨,得到氧化石墨烯,通過超聲分散后,再用還原劑去除相關含氧基團,得到還原氧化石墨烯。該法優點是成本較低、可實現石墨烯批量生產。但采用氧化還原法制備的石墨烯中部分含氧官能團不能完全去除,晶體結構會有一定程度的破壞,難以得到完整的石墨烯片層結構,從而導致一些物理、化學性能的損失。CVD是在可分解的高溫碳氫氣體中,通過高溫退火,讓碳原子在基體表面沉積形成單層石墨烯,該方法具有可控、工藝簡單、可生產大面積(可達數平米)石墨烯等特點。但制備的石墨烯存在晶界缺陷、針孔、皺紋和裂紋,且有雜質生成,對設備環境有較強的依賴性,成本偏高,污染大。外延生長法本質上就是一種碳原子的重構化學反應,可分為SiC外延生長法和金屬襯底外延生長法。工藝條件是高溫(通常>1300℃),超真空(通常<10-6Pa),在此時SiC中Si原子被脫除,剩下的C原子生長成石墨烯。該法適于大面積、高質量石墨烯的制備,可實現晶圓級大規模石墨烯材料的制備,但將石墨烯從制備基體轉移到目標基體時,受基片的影響而難以轉移,而采用“基體腐蝕法”成本高,不利于規模化應用。
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