[發(fā)明專(zhuān)利]一種發(fā)光板及其制備方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201711322522.3
• 申請(qǐng)日: 2017-12-12
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN108155301B
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-03-24
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 范應(yīng)娟;孫立蓉;張方暉;王江南;李亭亭;聶屈洋
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 陜西科技大學(xué)
• 主分類(lèi)號(hào): H01L51/52
• 分類(lèi)號(hào): H01L51/52;H01L51/56
• 代理公司: 西安通大專(zhuān)利代理有限責(zé)任公司 61200
• 代理人: 范巍

1.一種OLED發(fā)光板，其特征在于：包括作為陰極的導(dǎo)熱基板、設(shè)置于該導(dǎo)熱基板上的絕緣層和電致發(fā)光功能層、設(shè)置于所述絕緣層外側(cè)上的陽(yáng)極、設(shè)置于所述電致發(fā)光功能層、絕緣層和陽(yáng)極上的導(dǎo)熱金屬透光層以及設(shè)置于所述導(dǎo)熱金屬透光層上的透光封裝層；電致發(fā)光功能層通過(guò)絕緣層內(nèi)側(cè)與陽(yáng)極分隔開(kāi)；

所述陽(yáng)極以及導(dǎo)熱金屬透光層采用鋁鍍層；導(dǎo)熱金屬透光層厚度為10-25nm，陽(yáng)極的厚度為110-140nm；

所述透光封裝層采用SiO₂鍍層，所述SiO₂鍍層厚度為10-100μm。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種OLED發(fā)光板，其特征在于：所述電致發(fā)光功能層包括依次層疊設(shè)置于所述導(dǎo)熱基板上的電子注入層、電子傳輸層、發(fā)光層、空穴傳輸層和空穴注入層，或者，包括依次層疊設(shè)置于所述導(dǎo)熱基板上的電子注入層、發(fā)光層、空穴傳輸層和空穴注入層，所述陽(yáng)極以及空穴注入層通過(guò)導(dǎo)熱金屬透光層相連。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述一種OLED發(fā)光板，其特征在于：所述電致發(fā)光功能層包括依次層疊設(shè)置于所述導(dǎo)熱基板上的厚度為1-3nm的LiF層(4)、厚度為20-30nm的Alq₃層(5)、厚度為20-50nm的Alq₃:C_545T層(6)、厚度為30-60nm的NPB層(7)以及厚度為20-60nm的MoO₃層(8)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述一種OLED發(fā)光板，其特征在于：所述電致發(fā)光功能層包括依次層疊設(shè)置于所述導(dǎo)熱基板上的厚度為1-3nm的LiF層(4)、厚度為20-30nm的Alq₃層(5)、厚度為30-60nm的NPB層(7)以及厚度為20-60nm的MoO₃層(8)。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種OLED發(fā)光板，其特征在于：所述導(dǎo)熱基板采用鋁板，所述絕緣層為設(shè)置于該鋁板上的由所述鋁板表面經(jīng)過(guò)氧化處理的局部區(qū)域所形成的氧化鋁層(2)。

6.一種如權(quán)利要求1所述的OLED發(fā)光板的制備方法，其特征在于：包括以下步驟：

1)將單一金屬或合金材料板材分割為一定形狀后清潔干凈，得導(dǎo)熱基板；

2)對(duì)導(dǎo)熱基板表面的一部分進(jìn)行電解氧化，形成絕緣層；

3)在導(dǎo)熱基板表面未進(jìn)行電解氧化的部分上制備電致發(fā)光功能層；在絕緣層上制備陽(yáng)極；

4)通過(guò)制備覆蓋在陽(yáng)極、絕緣層以及電致發(fā)光功能層上的導(dǎo)熱金屬透光層，使陽(yáng)極與電致發(fā)光功能層相連；

5)在導(dǎo)熱金屬透光層上制備透光封裝層。