[發明專利]氚化派瑞林二聚體及其應用

在審

• 申請號: 201711296035.4
• 申請日: 2017-12-08
• 公開（公告）號: CN108046970A
• 公開（公告）日: 2018-05-18
• 發明（設計）人: 張子庚;靳文叢;詹芝敏;呂麗嫻;張瑜桀
• 申請（專利權）人: 壹號元素（廣州）科技有限公司
• 主分類號: C07C5/08
• 分類號: C07C5/08;C07C13/70;C07C1/26;C07C1/32;C09D165/00;C09D5/03;B82Y30/00;B82Y40/00
• 代理公司: 廣州科粵專利商標代理有限公司 44001
• 代理人: 蔣歡妹;袁嘉恩

本發明公開了一種氚化派瑞林二聚體及其應用，結構式如式Ⅰ所示的派瑞林二聚體的苯環或苯環上的取代基的至少一個氫被氚替換：氚化派瑞林二聚體利用派瑞林二聚體作為放射性氚的載體，同時利用派瑞林結構致密穩定、抗輻射強、分子級氣態成膜的特點，通過氣相沉積無縫致密成膜，開發光電領域的應用。其中，A、B、C、D為任意取代基，E選自氫或鹵素。

技術領域：

本發明涉及氚化派瑞林二聚體及其應用。

背景技術：

派瑞林(Parylene)中文名為聚對二甲苯，是一種超高性能高分子涂層材料，是軍事標準中唯一一種固態涂料。

其沉積成膜過程如下：

使用真空氣相沉積工藝，將派瑞林(Parylene)二聚體固態粉末放在涂覆設備的升華腔體內，真空狀態下先將派瑞林(Parylene)二聚體固態粉末在150-170℃真空氣化，再在裂解腔經650℃高溫下裂解成單體，然后常溫條件下在沉積腔內聚合成高分子聚合物，沉積在要保護的樣品上，形成保護膜。其沉積生長是一種分子級的生長過程，能涂敷到樣品各種形狀的表面，形成的薄膜厚度均勻、致密無孔、透明無應力，有優異的電絕緣性和防護性，介電常數小、潤滑性好、摩擦系數低、絕緣性和防腐性好、抗輻射能力極強。

發明內容：

本發明的目的是提供一種氚化派瑞林二聚體及其應用。

本發明是通過以下技術方案予以實現的：

一種氚化派瑞林二聚體，其特征在于，結構式如式Ⅰ所示的派瑞林二聚體的苯環或苯環上的取代基的至少一個氫被氚替換：

其中，A、B、C、D為任意取代基，E選自氫或鹵素。

A、B、C、D為氫或任意其它普通取代基、氚或含氚取代基，且A、B、C、D不能同時為氚。

特別地，當A、B、C、D選自氫或乙基時，氚化派瑞林二聚體的合成方法包括以下：

1、當派瑞林二聚體的苯環的至少一個氫被氚替換時，通過相應的鹵代派瑞林二聚體在Pd、Pt、Ni等催化條件下氚鹵交換實現：

其中X代表鹵素，優選為溴；

包括以下步驟，在圓底燒瓶中加入苯環上鹵代的對環苯烷、Pd、Pt、Ni等催化劑，四氫呋喃溶劑，液氮冷凍5分鐘，高真空抽氣5分鐘，然后引進1大氣壓下的氚氣，移開液氮，室溫攪拌2小時，再用液氮冷凍圓底燒瓶5分鐘，真空轉移吸附法回收未反應的氚氣，燒瓶中的剩余物回復室溫，過濾除去固體物質，減壓旋蒸除去溶劑，得到相應的氚化派瑞林目標產物。