[發明專利]一種釹鐵硼磁體的電鍍工藝在審
| 申請號： | 201711285358.3 | 申請日： | 2017-12-07 |
| 公開（公告）號： | CN108004574A | 公開（公告）日： | 2018-05-08 |
| 發明（設計）人： | 叢建華;胡文杰 | 申請（專利權）人： | 滁州恒通磁電科技有限公司 |
| 主分類號： | C25D7/00 | 分類號： | C25D7/00;C25D5/34;C25D3/16 |
| 代理公司： | 安徽力瀾律師事務所 34127 | 代理人： | 王際復 |
| 地址： | 239236 安徽省滁州市來安縣汊*** | 國省代碼： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 釹鐵硼 磁體 電鍍 工藝 | ||
1.一種釹鐵硼磁體的電鍍工藝，其特征在于：由以下步驟組成：
（1）烘烤：將釹鐵硼磁體置于180~200℃的烘箱中烘烤0.5~1h；
（2）打磨：用粗砂紙除去釹鐵硼磁體表面的覆蓋物，再用金相砂紙打磨表面至光滑；
（3）清洗：通過酒精將釹鐵硼磁體表面擦洗干凈；
（4）封孔：將釹鐵硼磁體置于硬脂酸鋅溶液中，在150~175℃環境中浸漬15~20min；
（5）除油：通過超聲波化學除油，將封孔后的釹鐵硼磁體置于除油溶液中，除油溶液為十二水磷酸三鈉60~70g/L、碳酸鈉45~55 g/L、氫氧化鈉4~6 g/L、OP-10乳化劑0.5 g/L、檸檬酸30~40 g/L，在60~70℃溫度條件下除油干凈；
（6）出光：將除油后的釹鐵硼磁體材料置于10~20%硝酸溶液進行出光處理；
（7）浸鍍：將出光后的磁體材料置于浸鍍液中進行浸鍍處理，浸鍍液為硫酸鋅25~30 g/L、三水焦磷酸鉀100~110 g/L、碳酸鈉6~8 g/L、氟化鈉4~6 g/L，在80℃溫度條件下浸鍍處理30s；
（8）鍍光亮鎳：在浸鍍層表面鍍光亮鎳，電鍍液為七水硫酸鎳200~300 g/L、六水氯化鎳40~60 g/L、硼酸30~40 g/L、丁炔二醇0.3~0.5 g/L、十二烷基硫酸鈉0.05~0.1 g/L，在溫度45~55℃、電流密度2~4A/dm2條件下電鍍，鋅鎳層厚度5~6μm；
（9）干燥：通過壓縮空氣對磁體材料進行吹干，檢驗得成品。
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