[發明專利]支架及其制備方法

有效

• 申請號: 201711277320.1
• 申請日: 2017-12-06
• 公開（公告）號: CN109893308B
• 公開（公告）日: 2021-10-22
• 發明（設計）人: 秦莉;林文嬌
• 申請（專利權）人: 元心科技（深圳）有限公司
• 主分類號: A61F2/82
• 分類號: A61F2/82
• 代理公司: 北京辰權知識產權代理有限公司 11619
• 代理人: 佟林松

1.一種支架，其特征在于，包括支架基體，所述支架基體的壁厚小于或等于70微米，所述支架基體上至少設置有一個顯影結構，每個所述顯影結構至少包含一個顯影單元，每個所述顯影單元中鑲嵌有顯影體；

所述顯影體通過顯影材料先冷縮后熱脹而鑲嵌于顯影單元中，且所述顯影材料的體積與所述顯影單元的體積的比值為1.2~1.4；并且，所述顯影體均勻地膨脹而無縫隙地鑲嵌于所述顯影單元中。

2.根據權利要求1所述支架，其特征在于，所述顯影結構為兩個，兩個所述顯影結構分別設置于所述支架基體的兩端，且每個所述顯影結構包括4個顯影單元，所述4個顯影單元呈花瓣形排布。

3.根據權利要求1所述支架，其特征在于，所述顯影體包含顯影材料，所述顯影材料選自金、鉑、鋨、錸、鎢、銥、銠、鉭、硫酸鋇、三氧化二鈮、氧化鈦、氧化鋯、單質碘和碘化物中的至少一種。

4.根據權利要求1所述支架，其特征在于，所述顯影體還包括粘結劑，所述粘結劑為可降解聚合物。

5.根據權利要求1所述支架，其特征在于，所述顯影體在X射線入射方向上的投影面積小于或等于0.5mm²。

6.一種支架的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：

提供支架基體，支架基體上至少設置有一個顯影結構，每個所述顯影結構至少包含一個顯影單元；所述支架基體的壁厚小于或等于70微米；

提供顯影材料，并將所述顯影材料按照所述顯影單元的形狀進行預定形而形成塊狀顯影材料；所述塊狀顯影材料的體積與所述顯影單元的體積的比值為1.2~1.4；

對所述塊狀顯影材料進行冷處理使所述塊狀顯影材料冷縮，所述冷處理的溫度為-20℃~-80℃；及

在顯微鏡下，將冷縮后的所述塊狀顯影材料放置于所述顯影單元中，然后進行加熱使冷縮后的所述塊狀顯影材料熱脹而形成鑲嵌于所述顯影單元中的顯影體，并且，所述顯影體均勻地膨脹而無縫隙地鑲嵌于所述顯影單元中；所述加熱的步驟是指冷縮后的所述塊狀顯影材料放置于所述顯影單元中，然后自然升溫至室溫。

7.根據權利要求6所述的支架的制備方法，其特征在于，所述冷處理的時間大于或等于30min。

8.根據權利要求7所述的支架的制備方法，其特征在于，所述提供顯影材料，并將所述顯影材料按照所述顯影單元的形狀進行預定形而形成塊狀顯影材料的步驟是通過模具將所述顯影材料預定形成與所述顯影單元的形狀相適配的塊狀顯影材料。

9.根據權利要求6或8所述的支架的制備方法，其特征在于，所述提供顯影材料，并將所述顯影材料按照所述顯影單元的形狀進行預定形而形成塊狀顯影材料的步驟中，使所述塊狀顯影材料沿接觸面法線方向的尺寸大于所述顯影單元沿接觸面法線方向的尺寸。