[發明專利]掩膜板及其制作方法

有效

• 申請號: 201711275668.7
• 申請日: 2017-12-06
• 公開（公告）號: CN108149190B
• 公開（公告）日: 2020-06-30
• 發明（設計）人: 龔建國;王衣可;楊穎;冉應剛;吳俊雄;柯賢軍;蘇君海;李建華
• 申請（專利權）人: 信利（惠州）智能顯示有限公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;H01L51/56
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 葉劍

本發明涉及一種掩膜板及其制作方法，所述方法包括：提供掩膜板原料；對所述掩膜板原料的一面進行刻蝕，以使得所述掩膜板原料的厚度減小；對所述掩膜板原料刻蝕后的一面進行磨平處理；對磨平后的所述掩膜板原料進行刻蝕，在所述掩膜板原料上刻蝕出像素開口，形成具有所述像素開口的所述掩膜板。首先經過刻蝕，使得掩膜板原料的厚度減小，進而將掩膜板進行磨平處理后，使得該掩膜板原料能夠刻蝕出像素開口間距更小的掩膜板，從而提高了掩膜板的蒸鍍的PPI，并且有效避免掩膜板被刻穿，使得掩膜板的結構更為穩固，使得掩膜板的張拉性能更佳，且有效提高了掩膜板的使用壽命。

技術領域

本發明涉及有機發光顯示制造技術領域，特別是涉及掩膜板及其制作方法。

背景技術

AMOLED(Active-matrix organic light emitting diode，有源矩陣有機發光二極體)生產制程中最影響良率的即為蒸鍍制程，蒸鍍制程的基本過程即通過加熱有機材料，使得有機材料蒸發，并通過高精度精細掩膜板及其制作方法蝕刻完成的通孔蒸鍍到玻璃基板上，形成發光單元。

PPI(pixels per inch，每英寸像素數目)是圖像分辨率的單位，表示的是每英寸所擁有的像素(pixel)數目。因此PPI數值越高，即代表顯示屏能夠以越高的密度顯示圖像。當然，顯示的密度越高，擬真度就越高。高PPI顯示屏是今后行業發展趨勢。

為了生產高PPI的顯示屏，需要采用高精度精細掩膜板進行對像素的制備。目前高精度精細掩模板主要制作工藝是兩面刻蝕。現有的高精度精細掩膜板的厚度在30μm以上，在制作高PPI(PPI大于400)高精度精細掩模板時，需要在掩膜板上刻蝕更多的圖案開口，圖案開口更為密集，圖案開口之間的距離更小，若利用現有的高精度精細掩膜板，將會導致高精度精細掩模板的蒸鍍面刻穿，使得相鄰的像素開口被貫穿，從而影響高精度精細掩模板張拉性能及后續使用壽命。

發明內容

基于此，有必要提供一種掩膜板及其制作方法。

一種掩膜板的制作方法，包括：

提供掩膜板原料；

對所述掩膜板原料的一面進行刻蝕，以使得所述掩膜板原料的厚度減小；

對所述掩膜板原料刻蝕后的一面進行磨平處理；

對磨平后的所述掩膜板原料進行刻蝕，在所述掩膜板原料上刻蝕出像素開口，形成具有所述像素開口的所述掩膜板。

在其中一個實施例中，所述對磨平后的所述掩膜板原料進行刻蝕的步驟包括：

對磨平后的所述掩膜板原料進行刻蝕液刻蝕。

在其中一個實施例中，所述對所述掩膜板原料的一面進行刻蝕，以使得所述掩膜板原料的厚度減小的步驟包括：

對所述掩膜板原料的一面進行激光刻蝕，以使得所述掩膜板原料的厚度減小。

在其中一個實施例中，所述對所述掩膜板原料的一面進行刻蝕，以使得所述掩膜板原料的厚度減小的步驟包括：

對所述掩膜板原料的一面進行刻蝕液刻蝕，以使得所述掩膜板原料的厚度減小。

在其中一個實施例中，所述對所述掩膜板原料的一面進行刻蝕步驟中，所述掩膜板原料刻蝕掉的厚度與未被刻蝕掉的厚度的比為1：(1～2)。

在其中一個實施例中，所述對所述掩膜板原料的一面進行刻蝕步驟中，所述掩膜板原料刻蝕掉的厚度與未被刻蝕掉的厚度的比為1：1。

在其中一個實施例中，所述對所述掩膜板原料刻蝕后的一面進行磨平處理的步驟中，基于刻蝕后的所述掩膜板原料的最小厚度，對所述掩膜板原料刻蝕后的一面進行磨平處理。