[發明專利]共軸全反式光學成像系統

有效

• 申請號: 201711251006.6
• 申請日: 2017-12-01
• 公開（公告）號: CN109870792B
• 公開（公告）日: 2021-05-07
• 發明（設計）人: 戴一帆;熊玉朋;陳善勇;關朝亮;鐵貴鵬;彭小強
• 申請（專利權）人: 中國人民解放軍國防科技大學
• 主分類號: G02B17/06
• 分類號: G02B17/06
• 代理公司: 湖南兆弘專利事務所(普通合伙) 43008
• 代理人: 陳暉

1.一種共軸全反式光學成像系統，其特征在于：包括前反射元件(1)、后反射元件(2)和成像面(3)，所述前反射元件(1)、后反射元件(2)相對設置，所述前反射元件(1)和后反射元件(2)相對的兩個面上分別加工出前反射面和后反射面，所述前反射面包括N個不共平面的共軸環形反射面，且分別為第二反射面(11)、第四反射面(12)、……、第2N反射面(1n)，所述后反射面包括N個不共平面的共軸環形反射面，且分別為第一反射面(21)、第三反射面(22)、……、第2N-1反射面(2n)，所述共軸環形反射面為平面、二次曲面或非球面，光線通過入射孔進入前反射面和后反射面之間并依次通過第一反射面、第二反射面、第三反射面、第四反射面、……、第2N-1反射面、第2N反射面反射后匯聚至所述成像面(3)上。

2.根據權利要求1所述的共軸全反式光學成像系統，其特征在于：所述共軸環形反射面為高階非球面反射面。

3.根據權利要求1或2所述的共軸全反式光學成像系統，其特征在于：所述成像面(3)與所述后反射元件(2)設置在同一側，且位于所述后反射面的N個共軸環形反射面的軸線上。

4.根據權利要求3所述的共軸全反式光學成像系統，其特征在于：所述前反射元件(1)上開設有多個弧形的入射孔(4)。

5.根據權利要求1或2所述的共軸全反式光學成像系統，其特征在于：N的取值范圍滿足，2≤N≤9。

6.根據權利要求1或2所述的共軸全反式光學成像系統，其特征在于：所述共軸全反式光學成像系統的工作波段包括可見光波段、近紅外波段、中紅外波段和遠紅外波段。

7.根據權利要求1或2所述的共軸全反式光學成像系統，其特征在于：所述共軸全反式光學成像系統的視場角為10°以上。

8.根據權利要求1或2所述的共軸全反式光學成像系統，其特征在于：所述前反射元件(1)和后反射元件(2)為相同材料制成。

9.根據權利要求1或2所述的共軸全反式光學成像系統，其特征在于：所述共軸環形反射面表面均有鍍膜層。