[發明專利]掩膜板有效
| 申請號: | 201711249267.4 | 申請日: | 2017-12-01 |
| 公開(公告)號: | CN107885030B | 公開(公告)日: | 2021-02-26 |
| 發明(設計)人: | 農艷菲;龔建國;冉應剛;吳俊雄;王衣可;柯賢軍;蘇君海;李建華 | 申請(專利權)人: | 信利(惠州)智能顯示有限公司 |
| 主分類號: | G03F1/68 | 分類號: | G03F1/68 |
| 代理公司: | 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224 | 代理人: | 葉劍 |
| 地址: | 516029 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 掩膜板 | ||
本發明涉及一種掩膜板,包括:空閑區和至少一個有效蒸鍍區,空閑區設置于有效蒸鍍區的外側;至少一個有效蒸鍍區開設有多個蒸鍍開口,各蒸鍍開口均勻分布設置;有效蒸鍍區與空閑區之間還設置有過渡區,過渡區包圍有效蒸鍍區設置,過渡區的厚度小于有效蒸鍍區的厚度,且小于空閑區的厚度。通過在有效蒸鍍區和空閑區之間設置過渡區,由于該過渡區的厚度相對于有效蒸鍍區以及空閑區的厚度更小,使得過渡區的強度較小,當在掩膜板兩端施加拉力時,在力的傳遞過程中,拉力受到的反作用逐漸減小,使得空閑區到有效蒸鍍區的變形能平緩過渡,有效減小褶皺,減小有效蒸鍍區的形變,使得蒸鍍效果更佳,從而提高蒸鍍的產品良率。
技術領域
本發明涉及有機發光顯示制造技術領域,特別是涉及掩膜板。
背景技術
AMOLED(Active-matrix organic light emitting diode,有源矩陣有機發光二極體)生產制程中最影響良率的即為蒸鍍制程,蒸鍍制程的基本過程即通過加熱有機材料,使得有機材料蒸發,并通過高精度精細掩膜板蝕刻完成的通孔蒸鍍到玻璃基板上,形成發光單元。
通常精細掩膜板的制作方法是通過將掩膜板焊接在掩膜板邊框上,而在焊接之前通常要對掩膜板施加一定的拉力,對掩膜板進行張拉,其目的是為了保證掩膜板的開口能夠符合設計的尺寸。而掩膜板施加一定拉力時,會由于受力不均,出現一定程度的扭曲和變形,使得蒸鍍開口偏離原來的設計尺寸和形狀,造成形狀和尺寸誤差。為減少掩膜板的變形及開口變形不均勻性,目前通常在掩膜板有效顯示區的周圍分布設計鏤空的空閑區域(dummy),通過調整空閑區域的尺寸、形狀和分布來調整變形均勻性。但是有效顯示區和空閑區域之間的過渡區域的強度與鏤空開口的強度不同,在張網時此過渡區域容易有突兀的變形不均勻性,存在褶皺,嚴重時甚至影響到有效顯示區邊緣部分,導致良率降低。
發明內容
基于此,有必要提供一種掩膜板。
一種掩膜板,包括:空閑區和至少一個有效蒸鍍區,所述空閑區設置于所述有效蒸鍍區的外側;
所述至少一個有效蒸鍍區開設有多個蒸鍍開口,各所述蒸鍍開口均勻分布設置;
所述有效蒸鍍區與所述空閑區之間還設置有過渡區,所述過渡區包圍所述有效蒸鍍區設置,所述過渡區的厚度小于所述有效蒸鍍區的厚度,且小于所述空閑區的厚度。
在一個實施例中,所述過渡區的厚度與所述有效蒸鍍區的厚度之比為1:(1.5~2)。
在一個實施例中,所述過渡區的厚度與所述有效蒸鍍區的厚度之比為1:2。
在一個實施例中,所述過渡區的形狀為矩形。
在一個實施例中,所述過渡區的寬度為0.5mm~2mm。
在一個實施例中,所述過渡區的寬度為1mm。
在一個實施例中,所述空閑區開設有多個通孔。
在一個實施例中,所述通孔的形狀與所述蒸鍍開口的形狀相同。
在一個實施例中,所述通孔的尺寸與所述蒸鍍開口的尺寸相等。
在一個實施例中,相鄰兩所述通孔之間的間距與相鄰兩所述蒸鍍開口之間的間距相等。
上述掩膜板,通過在有效蒸鍍區和空閑區之間設置過渡區,由于該過渡區的厚度相對于有效蒸鍍區以及空閑區的厚度更小,使得過渡區的強度較小,當在掩膜板兩端施加拉力時,在力的傳遞過程中,拉力受到的反作用逐漸減小,使得空閑區到有效蒸鍍區的變形能平緩過渡,有效減小褶皺,減小有效蒸鍍區的形變,使得蒸鍍效果更佳,從而提高蒸鍍的產品良率。
附圖說明
圖1為一個實施例的掩膜板的結構示意圖;
圖2為一個實施例的掩膜板的剖面結構示意圖;
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準或測試的特殊涂層或標記;其制備





