[發明專利]干涉儀氣浴裝置及光刻機

有效

• 申請號: 201711244875.6
• 申請日: 2017-11-30
• 公開（公告）號: CN109856918B
• 公開（公告）日: 2021-01-29
• 發明（設計）人: 郎東春
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備（集團）股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237
• 代理人: 屈蘅;李時云

1.一種干涉儀氣浴裝置，其特征在于，包括：穩壓控溫單元和氣體導向單元，所述穩壓控溫單元包括靜壓腔和多級孔板組件，氣流經所述靜壓腔初步穩壓后流入所述多級孔板組件進行深度穩壓及均化分布，再經所述氣體導向單元流出；其中，所述氣體導向單元包括多組格柵，所述格柵與測量光路平行設置，且每對相鄰的所述格柵之間設置一條或多條所述測量光路；

所述多級孔板組件包括初級孔板、次級孔板以及設置在次級孔板外側的第三級孔板，所述次級孔板設置在初級孔板外側且其上孔的孔距小于初級孔板上孔的孔距，所述初級孔板和次級孔板上均陣列分布若干孔，所述初級孔板包括固定孔板和可動孔板，所述固定孔板和可動孔板上孔的孔徑和孔距均不相等，中間區域孔的孔徑小于外圍區域孔的孔徑且中間區域孔的孔距小于外圍區域孔的孔距，所述可動孔板通過驅動機構驅動能夠相對所述固定孔板移動，使得所述可動孔板的孔和固定孔板的孔在氣流流通方向上改變重合區域大小進而改變穩壓程度；所述第三級孔板上孔的直徑相等且均勻分布，并且所述第三級孔板上孔的孔距小于次級孔板上孔的孔距，所述氣流經所述初級孔板和次級孔板后流至所述第三級孔板。

2.如權利要求1所述的干涉儀氣浴裝置，其特征在于，所述穩壓控溫單元還包括濾布，所述多級孔板組件流出的氣體經所述濾布進入所述氣體導向單元。

3.如權利要求1所述的干涉儀氣浴裝置，其特征在于，所述次級孔板上孔的孔徑小于初級孔板上孔的孔徑。

4.如權利要求1所述的干涉儀氣浴裝置，其特征在于，所述固定孔板或可動孔板上孔的孔徑和/或孔距不相等。

5.如權利要求1所述的干涉儀氣浴裝置，其特征在于，所述固定孔板和可動孔板上孔的孔徑或孔距不相等。

6.如權利要求1所述的干涉儀氣浴裝置，其特征在于，所述固定孔板和可動孔板上孔的孔徑相等且孔距也相等。

7.如權利要求1所述的干涉儀氣浴裝置，其特征在于，所述第三級孔板上的孔直徑小于次級孔板上的孔直徑。

8.一種光刻機，其特征在于，包括如權利要求1-7中任一項所述的干涉儀氣浴裝置。

9.如權利要求8所述的光刻機，其特征在于，所述光刻機還包括干涉儀收發器、反射鏡和運動臺，所述干涉儀收發器和反射鏡之間形成干涉儀光路，所述運動臺用于改變所述干涉儀收發器和反射鏡之間的距離。