[發(fā)明專利]一種檢測多組分痕量氣體濃度的方法與裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201711238995.5 | 申請日: | 2017-11-30 |
| 公開(公告)號: | CN108007901B | 公開(公告)日: | 2019-11-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 何興道;程濤;吳濤 | 申請(專利權(quán))人: | 南昌航空大學(xué) |
| 主分類號: | G01N21/39 | 分類號: | G01N21/39 |
| 代理公司: | 南昌洪達(dá)專利事務(wù)所 36111 | 代理人: | 劉凌峰 |
| 地址: | 330063 江*** | 國省代碼: | 江西;36 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 檢測 組分 痕量 氣體 濃度 方法 裝置 | ||
1.一種檢測多組分痕量氣體濃度的方法,其特征在于:具體包括以下步驟:
(1)、根據(jù)所測氣體特征吸收譜線以設(shè)定激光器(1)中心波長,通過激光控制單元(14)周期性改變激光器電流掃描波長,輸出的激光通過光隔離器,抑制來自諧振腔的光學(xué)反饋;前方設(shè)有二道反射鏡和合束片(4),通過第一反射鏡(5)和第二反射鏡(6)使激光上下左右可調(diào),以此擴大光路的調(diào)節(jié)范圍;633nm的He-Ne激光器(3)所發(fā)出的紅光經(jīng)合束片(4)所為指示光,輔助調(diào)節(jié)光路;在第二反射鏡(6)后方增加聲光調(diào)制器(17);偏振耦合鏡(7)前方放置1/4波片(8),改變激光的偏振態(tài);激光耦合到氣體吸收池(11),在氣體吸收池(11)后方放置一面全反鏡(12),使投射過諧振腔的激光經(jīng)反射再次進入諧振腔與腔內(nèi)氣體作用;反射回激光經(jīng)1/4波片(8),此時激光的偏振態(tài)與原激光正交,再經(jīng)偏振耦合鏡(7)反射到光電探測器(13),實驗中分別測量空腔的衰蕩時間和腔內(nèi)含有目標(biāo)氣體時的衰蕩時間,由數(shù)據(jù)采集卡(15)對探測到的吸收信號進行采集,最終在計算機(16)中進行顯示與存儲,得到目標(biāo)氣體的吸收系數(shù);
(2)、對于測量多組分氣體中目標(biāo)氣體,根據(jù)所測氣體特征吸收譜線以選取測量波段;譜線的選取首先應(yīng)當(dāng)避免與其他氣體交叉干擾,其次為滿足檢測精確度和靈敏度的要求,選擇線強最強的譜線;
(3)、將待測氣體由進氣口通入氣體吸收池(11),通過壓力控制器控制腔內(nèi)壓強,根據(jù)選擇的譜線設(shè)置激光器的中心波長,通過激光控制單元(14)周期性改變激光器電流掃描波長,獲得完整的氣體吸收光譜,最終將探測器接收的吸收光譜信號與HITRAN數(shù)據(jù)庫中目標(biāo)氣體的吸收譜線進行對比;
(4)、利用HITRAN數(shù)據(jù)庫提供的譜線參數(shù)對目標(biāo)氣體的濃度進行反演,反演過程基于郎伯-比爾定律。
2.一種檢測多組分痕量氣體濃度的裝置,其用于權(quán)利要求1中的方法,其特征在于:激光出射前方首先擺置光隔離器(2),隔離器(2)后方放置合束片(4)、第一反射鏡(5)和第二反射鏡(6);氣體吸收池前方先后放置偏振耦合鏡(7)和1/4波片(8),后方放置一道高反鏡(12);聲光調(diào)制器(17)置于偏振耦合鏡(7)前方;偏振耦合鏡(7)下方依次設(shè)有探測器(13)、數(shù)據(jù)采集卡(15),數(shù)據(jù)采集卡(15)和激光控制單元(14)接入計算機(16)控制;在合束片上方放置He-Ne激光器(3)作為指示光,輔助調(diào)節(jié)光路。
3.如權(quán)利要求2所述的一種檢測多組分痕量氣體濃度的裝置,其特征在于:檢測中,將待測氣體充入諧振腔內(nèi)直接進行測量,諧振腔同時兼做氣體吸收池(11);氣體吸收池(11)中入射鏡(9)、出射鏡(10)和全反鏡(12)反射率大于99%,使激光在腔內(nèi)經(jīng)過多次反射,投射過諧振腔的激光經(jīng)全反鏡(12)反射再次進入諧振腔。
4.如權(quán)利要求2所述的一種檢測多組分痕量氣體濃度的裝置,其特征在于:全反鏡(12)可為平面鏡或者凹面鏡。
5.如權(quán)利要求2所述的一種檢測多組分痕量氣體濃度的裝置,其特征在于:其中激光器(1)為常溫下工作可調(diào)諧連續(xù)激光器,激光光譜線寬很窄,其線寬小于10MHZ。
6.如權(quán)利要求2所述的一種檢測多組分痕量氣體濃度的裝置,其特征在于:光隔離器(2)波段范圍覆蓋激光器發(fā)射波長范圍,抑制來自諧振腔的光學(xué)反饋。
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G01N 借助于測定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測試或分析材料
G01N21-01 .便于進行光學(xué)測試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測試反應(yīng)的進行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)





