[發明專利]一種多功能抗菌性薄膜及其制備方法有效

申請號：	201711238416.7	申請日：	2017-11-30
公開（公告）號：	CN107858683B	公開（公告）日：	2019-11-08
發明（設計）人：	王云飛;高志廷;張黎燕;趙永猛;高志超;武明超;王建雨;孟銀娜	申請（專利權）人：	河南機電職業學院
主分類號：	C23C28/00	分類號：	C23C28/00;C23C14/14;C23C14/35;C23C24/04;C23C16/513;C23C16/56
代理公司：	鄭州中原專利事務所有限公司 41109	代理人：	李想
地址：	451191 河南省鄭州市新鄭市***	國省代碼：	河南;41
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摘要：
搜索關鍵詞：	聚四氟乙烯膜納米顆粒銀膜薄膜多功能抗菌殺菌效果制備覆蓋自由基負離子化學穩定性表面設置電絕緣性納米壓印耐腐蝕性使用壽命不粘性反射率抗老化耐力細菌攻擊保證
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【權利要求書】：

1.一種多功能抗菌性薄膜的制備方法，其特征在于：多功能抗菌性薄膜包括基體（1），基體（1）上覆蓋一層銀膜（2），銀膜（2）上覆蓋一層TiO₂納米顆粒（3），TiO₂納米顆粒（3）上覆蓋一層聚四氟乙烯膜（4），聚四氟乙烯膜（4）的表面設置有凹槽（5），所述銀膜（2）的厚度為200-300nm，聚四氟乙烯膜（4）的厚度為200-300 nm，TiO₂納米顆粒（3）直徑為20-30nm；

多功能抗菌性薄膜的制備方法，具體步驟如下：

（1）鍍銀膜：在基體上鍍銀膜；

（2）噴涂TiO₂納米顆粒：在銀膜表面噴涂TiO₂納米顆粒；

（3）鍍聚四氟乙烯膜：在帶有TiO₂納米顆粒的銀膜表面鍍聚四氟乙烯膜；

（4）壓印：在聚四氟乙烯膜上壓印出凹槽；

步驟（2）中，采用注射式氣槍噴涂TiO₂納米顆粒，TiO₂納米顆粒噴涂結束后，采用吸塵氣球將多余的TiO₂納米顆粒吹散；

步驟（3）中，采用等離子體增強化學氣相沉積法在帶有TiO₂納米顆粒的銀膜表面鍍聚四氟乙烯膜。

2.根據權利要求1所述的多功能抗菌性薄膜的制備方法，其特征在于：步驟（1）中，采用磁控濺射鍍膜方式鍍銀膜。

3.根據權利要求2所述的多功能抗菌性薄膜的制備方法，其特征在于：所述磁控濺射鍍膜的工藝條件如下：采用Φ60mm、厚度為4-6mm的銀靶材，靶間距調整為60mm，功率為100-150W，直流模式濺射。

4.根據權利要求1所述的多功能抗菌性薄膜的制備方法，其特征在于：所述等離子體增強化學氣相沉積法的工藝條件如下：樣品臺高度為30-40mm，氣壓15-20Pa，功率100-150W。

5.根據權利要求1所述的多功能抗菌性薄膜的制備方法，其特征在于：步驟（4）中，采用納米壓印方法，在聚四氟乙烯膜上壓印出凹槽。

6.根據權利要求1所述的多功能抗菌性薄膜的制備方法，其特征在于：步驟（4）中，采用的壓印模具的單個突起圓柱高度為150-200nm，圓柱直徑為Φ160-200nm。