[發明專利]拋光方法和系統在審
| 申請號： | 201711232004.2 | 申請日： | 2017-11-30 |
| 公開（公告）號： | CN108000244A | 公開（公告）日： | 2018-05-08 |
| 發明（設計）人： | 樊成;張雷;趙啟智 | 申請（專利權）人： | 蘇州大學 |
| 主分類號： | B24B1/00 | 分類號： | B24B1/00;B24B29/02;B24B41/04 |
| 代理公司： | 寧波高新區核心力專利代理事務所(普通合伙) 33273 | 代理人： | 袁麗花 |
| 地址： | 215000 *** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 拋光 方法 系統 | ||
【權利要求書】：
1.一種拋光方法，其特征在于，先在材料表面形成一層比材料本身硬度低的氧化層，然后采用磨粒進行拋光。
2.根據權利要求1所述的拋光方法，其特征在于，采用等離子表面改性方法在材料表面形成氧化層。
3.根據權利要求2所述的拋光方法，其特征在于，供應等離子槍的氣體中，露點可調。
4.根據權利要求2或3所述的拋光方法，其特征在于，等離子槍具有兩個氣路，其中一氣路含有水蒸氣，另一氣路不含水蒸氣，不含水蒸氣的氣路中，氣體流量可調，來自兩個氣路的氣體混合后進入等離子槍。
5.根據權利要求4所述的拋光方法，其特征在于，所述等離子槍的氣源為惰性氣體。
6.根據權利要求5所述的拋光方法，其特征在于，在一氣路中，惰性氣體經過一裝有水的洗氣瓶并從瓶中帶出水蒸氣。
7.根據權利要求1所述的拋光方法，其特征在于，用于碳化硅材料的表面拋光。
8.根據權利要求1所述的拋光方法，其特征在于，在材料的表面噴射帶有磨粒的拋光液，然后采用氣囊拋光方法進行拋光。
9.一種拋光系統，其特征在于，包括并列設置的等離子槍和氣囊拋光工具，等離子槍安裝于等離子槍安裝板上，等離子槍安裝板和氣囊拋光工具之間設置有升降氣缸，該升降氣缸固定于氣囊拋光工具上、且與等離子槍安裝板之間可相對移動。
10.根據權利要求9所述的拋光系統，其特征在于：所述等離子槍安裝板的頂端設置有一限位板，該限位板延伸于所述升降氣缸的上方。
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