[發明專利]一種膜層結構制作方法及膜層結構、外殼及移動終端

在審

• 申請號: 201711224058.4
• 申請日: 2017-11-29
• 公開（公告）號: CN107901570A
• 公開（公告）日: 2018-04-13
• 發明（設計）人: 王坤;劉思穎;莫博宇;于脈軍
• 申請（專利權）人: 維沃移動通信有限公司
• 主分類號: B32B37/10
• 分類號: B32B37/10;B32B37/12;B32B38/14;H04M1/02
• 代理公司: 北京國昊天誠知識產權代理有限公司11315
• 代理人: 許志勇

技術領域

本發明實施例涉及終端產品表面處理工藝領域，尤其涉及一種膜層結構制作方法及膜層結構、外殼及移動終端。

背景技術

目前，大多數3C類產品(就是計算機(Computer)、通信(Communication)和消費類電子產品(Consumer Electronics)三者結合，亦稱“信息家電”)的表面，尤其是外殼是由鋁合金制作而成。近年來，為了保護鋁合金表面，鋁合金陽極氧化技術在3C類產品上得到了廣泛的應用，但是陽極氧化外觀效果的同質化越來越嚴重，消費者容易對其產生審美疲勞。

為此，提出了一種新的膜層結構，即通過在鋁合金外殼上制作絲絨紋路，然后在制作有絲絨紋路的鋁合金表面進行陽極氧化，從而，得到一種具備細膩紋理的膜層結構，營造出一種可以隨著視角變化而不斷變化的光影效果。然而，現階段這種絲絨紋路只能通過CNC數控機床等技術實現，并且這種加工工藝無法在具有弧面的膜層結構上實現，具備一定的局限性。

現有大多數產品的絲絨紋路圖案，都是通過數控機床并采用機械切削的方式在作為外殼的鋁合金表面形成所需的絲絨紋路。但是，手機的外殼通常存在3D弧面形狀，這樣，在利用數控機床對手機外殼進行切削時，無法對其弧面進行有效處理，甚至無法對弧面處以及拐角處進行切削。可見，現有的加工工藝對具有弧面的膜層結構進行絲絨紋路處理時存在一定的局限性。

發明內容

本發明實施例提供一種膜層結構制作方法及膜層結構、外殼及移動終端，以解決現有技術中存在的絲絨紋路加工工藝無法在弧面上實現而存在的加工局限性的問題。

為了解決上述技術問題，本發明是這樣實現的：

第一方面，提供了一種膜層結構制作方法，包括：

采用紫外線UV轉印形成絲絨紋路層；

將所述絲絨紋路層固定在基底結構的一表面，所述表面包括弧面；

在所述絲絨紋路層上與所述基底結構相對的表面形成保護層。

第二方面，提供了一種膜層結構，所述膜層結構按照所述的膜層結構制作方法制作而成。

第三方面，提供了一種外殼，所述外殼包括：

基底結構；

貼合在所述基底結構一表面的絲絨紋路層，所述絲絨紋路層采用紫外線UV轉印形成，所述表面包括弧面；

覆蓋所述絲絨紋路層的保護層。

在本發明實施例中，通過采用紫外線UV轉印形成絲絨紋路層，將所述絲絨紋路層固定在基底結構的一表面，所述表面包括弧面，在所述絲絨紋路層上與所述基底結構相對的表面形成保護層。從而，確保整個基底結構上都包裹有絲絨紋路層，規避了現有加工方案對弧面處理的限制，進而，可以提升產品生產效率以及良率。

附圖說明

此處所說明的附圖用來提供對本發明實施例的進一步理解，構成本發明實施例的一部分，本發明實施例的示意性實施例及其說明用于解釋本發明實施例，并不構成對本發明實施例的不當限定。在附圖中：

圖1(a)是本發明實施例的一個實施例提供的膜層結構制作方法的步驟示意圖之一；

圖1(b)是本發明實施例的一個實施例提供的膜層結構制作方法的步驟示意圖之二；

圖2是本發明實施例的一個實施例提供的膜層結構制作的工藝流程圖；

圖3是本發明實施例的一個實施例提供的外殼的剖面結構示意圖；

圖4是本發明實施例的一個實施例提供的外殼的形狀示意圖。

具體實施方式

下面將結合本發明實施例實施例中的附圖，對本發明實施例實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例是本發明實施例一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本發明實施例中的實施例，本領域普通技術人員在沒有作出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發明實施例保護的范圍。

為了解決現有技術中存在的無法在具備弧面的膜層表面實現絲絨紋路而存在的加工局限性，本發明實施例提供了一種適用于絲絨紋路的加工方案，以克服對弧面進行絲絨紋路加工的局限性，同時，還提供了一種采用本發明實施例提供的加工方法制作的具備絲絨紋路的膜層結構，從而，確保可以在3D弧面上實現絲絨紋路圖案，提升產品生產效率以及良率。

實施例一

參照圖1(a)所示，為本發明實施例提供的膜層結構制作方法的步驟示意圖，該方法主要包括以下步驟：

步驟11：采用紫外線UV轉印形成絲絨紋路層。

其中，該步驟可以在確定基底結構22后，在UV轉印操作臺制作絲絨紋路層21。