[發明專利]一種有機電致發光顯示面板的制備方法

有效

• 申請號: 201711204433.9
• 申請日: 2017-11-27
• 公開（公告）號: CN108011053B
• 公開（公告）日: 2019-11-05
• 發明（設計）人: 易偉華;張迅;張伯倫;周慧蓉
• 申請（專利權）人: 江西沃格光電股份有限公司
• 主分類號: H01L51/56
• 分類號: H01L51/56;H01L51/52;H01L27/32
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 生啟

本發明涉及一種有機電致發光顯示面板的制備方法。一種有機電致發光顯示面板的制備方法，包括以下步驟：在襯底基板的表面制備層疊于所述襯底基板的ITO膜；對所述ITO膜的表面進行清洗處理；對所述ITO膜的表面進行表面活化處理；對所述ITO膜的表面進行等離子處理至ITO膜表面的功函數為5.2eV～5.6eV；在所述ITO膜的表面依次形成功能膜及陰極，所述功能膜包括空穴注入層；及在所述陰極遠離所述功能膜的表面設置蓋板進行封裝。上述有機電致發光顯示面板的制備方法，能夠有效減小ITO與空穴注入層之間的位能差，有利于空穴的注入，且可以提高ITO膜表面的功函數并提高ITO膜表面的平整度，從而使得有機電致發光面板的發光效率及工作壽命都會得到進一步提高。

技術領域

本發明涉及顯示技術領域，特別是涉及一種有機電致發光顯示面板的制備方法。

背景技術

有機電致發光顯示面板(OLED)的基本結構是由一薄而透明具半導體特性的銦錫氧化物(ITO)層與正極相連，再加上另一個金屬陰極，包成如三明治的結構。整個結構層中包括：空穴傳輸層(HTL)、發光層(EL)與電子傳輸層(ETL)。當電力供應至適當電壓時，正極空穴與陰極電荷就會在發光層中結合，產生光亮，依其配方不同產生紅、綠和藍RGB三原色，構成基本色彩。

目前，OLED由于具有主動發光、對比度高、相應速度快等優點而被越來越廣泛地應用。然而，目前OLED仍存在空穴注入率低、發光亮度不足及發光效率不高的問題。

發明內容

基于此，有必要針對目前OLED仍存在空穴注入率低、發光亮度不足及發光效率不高的問題，提供一種有機電致發光顯示面板的制備方法。

一種有機電致發光顯示面板的制備方法，包括以下步驟：

在襯底基板的表面制備層疊于所述襯底基板的ITO膜；

對所述ITO膜的表面進行清洗處理；

對所述ITO膜的表面進行表面活化處理；

對所述ITO膜的表面進行等離子處理至所述ITO膜表面的功函數為5.2eV～5.6eV；

在所述ITO膜的表面依次形成功能膜及陰極，所述功能膜包括空穴注入層；及

在所述陰極遠離所述功能膜的表面設置蓋板進行封裝。

在其中一個實施方式中，所述清洗處理的步驟具體為：依次采用含表面活性劑的溶液、乙醇、丙酮及水對所述ITO膜遠離所述襯底基板的表面進行超聲波清洗；

及/或，所述等離子處理的步驟具體為：在真空度為10Pa～50Pa的條件下，向所述ITO膜遠離所述襯底基板的表面通氧氣；再開啟射頻電源將氧氣電離成臭氧對所述ITO膜遠離所述襯底基板的表面進行處理。

在其中一個實施方式中，采用活化處理液對所述ITO膜遠離所述襯底基板的表面進行表面活化處理；所述活化處理液包括水、雙氧水及氨水，且所述活化處理液中雙氧水的質量百分含量為13％～15％，所述氨水的質量百分含量為13％～15％。

在其中一個實施方式中，所述對所述ITO膜的表面進行清洗處理的步驟前還包括步驟：對所述襯底基板遠離ITO膜的表面進行研磨處理至所述襯底基板的厚度為0.5mm～1.0mm。

在其中一個實施方式中，在所述對襯底基板遠離ITO膜的表面進行研磨處理的步驟前還包括步驟：在所述ITO膜遠離所述襯底基板的表面覆蓋保護膜；

及，在所述對襯底基板遠離ITO膜的表面進行研磨處理的步驟后還包括步驟：移除所述保護膜。

在其中一個實施方式中，所述在所述ITO膜遠離所述襯底基板的表面覆蓋保護膜的步驟具體為：將保護漿料涂覆在所述ITO膜上形成所述保護膜，其中所述保護漿料通過以下步驟制備：