[發明專利]一種數控研磨修拋輔助的大氣等離子體加工裝置在審
| 申請號： | 201711190721.3 | 申請日： | 2017-11-24 |
| 公開（公告）號： | CN108081031A | 公開（公告）日： | 2018-05-29 |
| 發明（設計）人： | 劉衛國;惠迎雪;張進;周順;秦文罡;劉雨昭;侯倉倉;夏天 | 申請（專利權）人： | 西安工業大學 |
| 主分類號： | B24B1/00 | 分類號： | B24B1/00 |
| 代理公司： | 西安新思維專利商標事務所有限公司 61114 | 代理人： | 黃秦芳 |
| 地址： | 710032 陜*** | 國省代碼： | 陜西;61 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 輔助氣流 電弧等離子體炬 大氣等離子體 射流噴槍 柔性研磨頭 加工裝置 數控研磨 擺動軸 出氣孔 分氣盒 輔助的 氣環 數控 高壓惰性氣體入口 等離子體噴嘴 光學元件表面 加工光學元件 等離子體源 多維度運動 附著物 對稱旋轉 二次吸附 加工效率 偏轉電機 依次連接 質量下降 上端 連接軸 上表面 工裝 拋盤 噴槍 下端 自傳 電機 加工 | ||
1.一種數控研磨修拋輔助的大氣等離子體加工裝置，包括等電弧等離子體炬射流噴槍（1）、對稱旋轉工裝（2）、多維度運動控制臺（3）、數控柔性研磨頭（4）、龍門支架（5）、冷卻拋光液管道（6）、待加工光學元件（7）、可調節光學元件工裝支架（8）、支撐平臺（9）和隔離屏蔽罩（10）組成；其特征在于：所述的等電弧等離子體炬射流噴槍（1）和數控柔性研磨頭（4）設置于多維度運動控制臺（3）上的對稱旋轉工裝（2）上，位于待加工光學元件（7）上表面；
所述的等電弧等離子體炬射流噴槍（1）包括上下相連接的等離子體源噴槍（1-2）和輔助氣流環（1-1），所述的輔助氣流環（1-1）內設置有分氣盒（1-4），分氣盒（1-4）與輔助氣流環（1-1）下端的氣環出氣孔（1-6）和上端的高壓惰性氣體入口（1-5）連接，所述的輔助氣流環（1-1）下端面的氣環出氣孔（1-6）上設置有等離子體噴嘴（1-3）；
所述的數控柔性研磨頭（4）包括依次連接的擺動軸（4-4）、連接軸（4-5）和研拋盤（4-3），擺動軸（4-4）上端面設置有自傳電機（4-1），側面設置有偏轉電機（4-2），所述的自轉電機（4-1）和偏轉電機（4-2）的軸的擺動角度均為0-30°；
所述的等離子體噴嘴（1-3）和研拋盤（4-3）與待加工光學零件（7）表面垂直設置。
2.根據權利要求1所述的一種數控研磨修拋輔助的大氣等離子體加工裝置，其特征在于：所述的等電弧等離子體炬射流噴槍（1）內的載氣為氮氣，反應氣體為含氟氣體，所述的氮氣和含氟氣體質量流量比為2:1~5:1，等離子體噴嘴口徑為1.5~2.2mm范圍調節，施加功率為300~600W。
3.根據權利要求1或2所述的一種數控研磨修拋輔助的大氣等離子體加工裝置，其特征在于：所述的研拋盤（4-3）為圓柱狀，其直徑大小為等離子體作用斑尺寸的1/5~1/10。
4.根據權利要求3所述的一種數控研磨修拋輔助的大氣等離子體加工裝置，其特征在于：所述的研拋盤（4-3）的材料為聚酰亞胺。
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